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范东升

作品数：8 被引量：13H指数：3
供职机构：中国科学院微电子研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
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领域

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地区

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共 14 条 记 录，以下是 1-10
谢常青
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：电子束光刻 X射线光刻 敏感膜 存储器 衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘明
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：存储器 电极 衬底 电子束光刻 介质层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王德强
供职机构：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
研究主题：X射线光刻 波带片 X射线 电子束 电子束直写
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
康晓辉
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：波带片 纳米压印 英文 高分辨率 电子束
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张立辉
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：单电子晶体管 电子束直写 光学 微光刻技术 电子束曝光系统
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈大鹏
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：半导体器件 刻蚀 MEMS 沟道 焦平面阵列
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
薛丽君
供职机构：中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室
研究主题：电子束直写 ALGAN/GAN_HEMT 光学 微光刻技术 电子束曝光系统
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李金儒
供职机构：中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室
研究主题：数据格式转换 CIF格式 电子束直写 微光刻技术 CIF
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
汤跃科
供职机构：中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室
研究主题：数据格式转换 微光刻技术 电子束直写 CIF格式 光学
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
任黎明
供职机构：北京大学
研究主题：石墨烯 金属 纳电子学 电子束曝光 光刻胶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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