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姚舜

作品数：53 被引量：4H指数：2
供职机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信理学医药卫生化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 51篇专利
  • 2篇期刊文章

领域

  • 7篇电子电信
  • 2篇医药卫生
  • 2篇理学
  • 1篇化学工程

主题

  • 33篇极紫外
  • 21篇光刻
  • 20篇多层膜
  • 20篇紫外光刻
  • 17篇极紫外光刻
  • 6篇掩模
  • 6篇深紫外
  • 6篇光谱
  • 6篇光学
  • 5篇膜厚
  • 4篇多层膜结构
  • 4篇掩模板
  • 4篇元件
  • 4篇阻挡层
  • 4篇激光
  • 4篇溅射
  • 4篇工作气体
  • 4篇光学薄膜
  • 4篇EUV
  • 4篇MO/SI

机构

  • 53篇中国科学院长...
  • 2篇中国科学院大...

作者

  • 53篇姚舜
  • 44篇喻波
  • 37篇金春水
  • 21篇邓文渊
  • 12篇靳京城
  • 8篇李春
  • 3篇王君
  • 3篇王珣
  • 2篇王丽萍
  • 2篇谢耀
  • 1篇龚学鹏
  • 1篇宋源
  • 1篇郭本银

传媒

  • 2篇光学学报

年份

  • 1篇2024
  • 4篇2022
  • 7篇2021
  • 4篇2020
  • 2篇2019
  • 5篇2018
  • 6篇2017
  • 20篇2016
  • 4篇2015
共 53 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种深紫外波段宽带分束薄膜膜层的制备方法
本发明公开了一种深紫外波段宽带分束薄膜膜层的制备方法，所述制备方法包括：获取所述深紫外波段宽带分束薄膜中膜层的目标沉积厚度；依据所述目标沉积厚度，对所述膜层进行实验沉积；在所述膜层沉积完成后，获取所述膜层的测量误差值；依...
邓文渊李春金春水姚舜
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一种极紫外波段宽带Mo/Si多层膜的制备方法
本发明提供了一种极紫外波段宽带Mo/Si多层膜的制备方法，包括以下步骤：依据目标宽带Mo/Si多层膜的指标，采用两层模型进行膜系设计，获得Mo/Si膜系厚度序列；依据所述Mo/Si膜系厚度序列，采用有效厚度法标定各周期M...
喻波姚舜金春水
具有热稳定性及抗辐照损伤的极紫外多层膜
本发明公开了一种具有热稳定性及抗辐照损伤的极紫外多层膜，属于极紫外光刻技术领域。解决了现有技术中的极紫外多层膜在长时间的高能量激光辐照和高能光子轰击下，极紫外波段的反射率严重下降的技术问题。本发明的极紫外多层膜，从下至上...
喻波王珣姚舜靳京城
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基于遗传算法的磁控溅射速率空间分布反演方法
本发明公开了一种基于遗传算法的磁控溅射速率空间分布反演方法，属于极紫外光刻技术领域。解决了现有技术中磁控溅射速率空间分布的确定方法效率低，成本高的问题。本发明的反演方法，步骤如下：先选取三个到五个不同基片高度下的膜厚分布...
喻波姚舜金春水
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具有极紫外光谱纯度和抗辐照损伤的多层膜
本发明公开了一种具有极紫外光谱纯度和抗辐照损伤的多层膜，属于极紫外光刻技术领域。解决了现有技术中极紫外多层膜在带外波段的反射率比较高，在高能量激光辐照下，极紫外波段的反射率严重下降的技术问题。本发明的多层膜从下至上依次包...
喻波王珣姚舜靳京城
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一种EUV多层膜光学元件的综合测试装置及其测试方法
本发明涉及一种EUV多层膜光学元件的综合测试装置及其测试方法，所述EUV多层膜光学元件的综合测试装置包括测试单元、气体注入模块以及ArF激光模块，所述ArF激光模块为测试单元提供ArF激光，本发明利用ArF激光辐照方式实...
邓文渊喻波姚舜
一种极紫外凹面反射镜镀膜均匀性评估方法
一种极紫外凹面反射镜镀膜均匀性评估方法，属于极紫外光学技术应用领域，该方法是加工与凹面反射镜具有相同形状的镀膜模具，以镀膜模具外边缘一点为起点，按螺旋线形状在镀膜模具上依次取点打孔，螺旋线与起点所在的半径的最后一个交点为...
靳京城喻波姚舜金春水
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一种大口径基底镀膜工装
本发明提供了一种大口径基底镀膜工装，属于镀膜工装技术领域，在所述工装的中间开设与基底形状一致的凹槽，所述凹槽的侧壁构成限位结构，在所述凹槽的底面设置支撑结构，基底装配于所述凹槽内，在所述工装的边缘设置固定结构；所述支撑结...
姚舜喻波邓文渊
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具有微结构和光谱纯化层的光源收集镜
具有微结构和光谱纯化层的光源收集镜，涉及极紫外收集镜和多层膜的设计，本发明的目的是为了实现减少深紫外和红外的杂光，同时降低极紫外的损耗，提供一种在收集镜上制作微结构以及光谱纯化层的多层膜设计。包括在极紫外光收集镜基底上依...
金春水孙诗壮王君姚舜
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基于遗传算法的磁控溅射调速曲线反演方法
本发明公开了一种基于遗传算法的磁控溅射调速曲线反演方法，属于极紫外光刻技术领域。解决了现有技术中磁控溅射调速曲线的反演方法极易陷入局部极小值的问题。本发明的反演方法是通过目标膜厚分布曲线，采用遗传算法反演磁控溅射公转速度...
喻波姚舜金春水
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