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郑宣明

作品数:12 被引量:41H指数:4
供职机构:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学机械工程电子电信一般工业技术更多>>

文献类型

  • 11篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 8篇理学
  • 4篇机械工程
  • 2篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 3篇衍射
  • 3篇衍射效率
  • 3篇光学
  • 3篇光栅
  • 3篇X
  • 2篇互连
  • 2篇光学薄膜
  • 1篇单层膜
  • 1篇等效折射率
  • 1篇电磁
  • 1篇电磁屏蔽
  • 1篇电子枪
  • 1篇镀膜
  • 1篇有机玻璃
  • 1篇增透
  • 1篇增透膜
  • 1篇折射率
  • 1篇蒸发制备
  • 1篇色散
  • 1篇射频磁控

机构

  • 9篇中国科学院长...
  • 3篇中国科学院长...
  • 2篇中国科学院研...
  • 2篇海军驻长春地...
  • 1篇吉林工业大学

作者

  • 12篇郑宣明
  • 8篇高劲松
  • 6篇王笑夷
  • 6篇申振峰
  • 6篇王彤彤
  • 6篇陈红
  • 5篇赵晶丽
  • 4篇宋琦
  • 4篇卢振武
  • 3篇单兆会
  • 2篇何丽明
  • 2篇孙连春
  • 2篇尹少辉
  • 2篇朱华新
  • 2篇李香波
  • 2篇黄颖
  • 2篇刘小涵
  • 2篇王珊珊
  • 2篇孙德贵
  • 1篇朱世栋

传媒

  • 3篇光学精密工程
  • 3篇光学技术
  • 2篇光学学报
  • 2篇光子学报
  • 1篇光学仪器

年份

  • 1篇2009
  • 1篇2008
  • 2篇2007
  • 2篇2006
  • 3篇2001
  • 2篇1994
  • 1篇1993
12 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
红外透明导电金属网栅薄膜被引量:16
2001年
介绍了一种既高效透过红外光 ,同时又能有效屏蔽电磁干扰的金属网栅薄膜的基本原理和制备工艺。分析了网栅参数对其光学及电磁性能的影响。介绍了利用光刻和镀膜技术 ,在红外基片上制作线条宽度小于 10 μm ,周期约 35 0 μm的金属网栅。
高劲松孙连春郑宣明朱世栋赵晶丽
关键词:光刻镀膜电磁屏蔽红外
互连光栅衍射模式的设计与研究:1.矩型位相光栅被引量:5
1994年
根据近年来光互连对光栅衍时模式的要求,对矩型位相光栅进行了结构设计,以产生只含有0级和±1级,或只含有±1级的两种特殊的衍射模式,分别用于实现光学蝶形互连或操纵器网络互连等。论文给出了详细的计算和实验结果。
孙德贵黄颖何丽明卢振武郑宣明赵晶丽
关键词:衍射效率
互连光栅衍射模式的设计与研究:Ⅰ.矩型位相光栅被引量:2
1994年
根据近年来光互连对光栅衍时模式的要求,对矩型位相光栅进行了结构设计,以产生只含有0级和±1级,或只含有±1级的两种特殊的衍射模式,分别用于实现光学蝶形互连或操纵器网络互连等。论文给出了详细的计算和实验结果。
孙德贵黄颖何丽明卢振武郑宣明赵晶丽
关键词:衍射效率
SiO_2单层膜的反常色散研究被引量:2
2009年
利用等效折射率概念分析了SiO2单层膜反常色散出现的原因,并在1.1m镀膜机上证明了理论分析的合理性.结果表明,理论分析与实验结果一致,沿薄膜厚度方向折射率的对称周期变化使薄膜的等效折射率变化在可见光波段与致密膜层的变化不一致,表现出反常色散的现象.膜厚方向折射率变化周期越大,等效折射率随波长增加的趋势就越大,薄膜表现出的反常色散特性越明显.沿膜厚方向折射率变化幅度的对色散特性影响次之.
李香波高劲松王彤彤王笑夷陈红郑宣明申振峰朱华新尹少辉刘小涵王珊珊
关键词:光学薄膜反常色散等效折射率
离子源辅助电子枪蒸发制备Ge_(1-x)C_x薄膜被引量:4
2007年
应用电子枪蒸发纯Ge,考夫曼离子源辅助的方法在Ge基底上沉积了Ge1-xCx薄膜.制备过程中,Ge作为蒸发材料,CH4作为反应气体.通过改变CH4/(CH4+Ar)的气体流量比(G),制备了G从40%到85%的Ge1-xCx薄膜.应用X射线衍射仪(XRD)测量了Ge1-xCx薄膜的晶体结构,使用傅里叶红外光谱仪(FTIR)测量了2~22 μm的光学透过率,X射线光电子能谱测试(XPS)计算得到C的含量随G的变化关系,用纳米压痕硬度测试计测量了Ge1-xCx薄膜的硬度,原子力显微镜(AFM)测量了G为60%,85%时Ge1-xCx薄膜的表面粗糙度.测试结果表明:制备的Ge1-xCx薄膜在不同的G值下均为无定形结构.折射率随着G值的增加而减小,在3.14~3.89之间可变,并具有良好的均匀性以及极高的硬度.
王彤彤高劲松王笑夷宋琦郑宣明徐颖陈红申振峰
用低压反应离子镀的方法制备Ge_(1-x)C_x单层非均匀增透膜的研究被引量:3
2007年
用低压反应离子镀(RLVIP)的方法在Ge基底上制备了Ge1-xCx单层非均匀增透薄膜。随着沉积速率在0.05-0.4nm/s之间的变化,其折射率在2.31~3.42之间可变。实验结果表明,镀制的Ge1-xCx单层非均匀增透保护薄膜均为无定形结构,并实现了从2000-8000nm的宽波段增透。当沉积速率为0.1nm/s时,单面平均透过率从68.6%提高到了80.9%,比单面未镀膜时提高了17.9%。通过对薄膜的稳定性和牢固度进行测试表明,制备的Ge1-xCx单层非均匀增透薄膜具有良好的性能。
王彤彤高劲松王笑夷宋琦陈红郑宣明申振峰单兆会
关键词:增透膜
在有机玻璃上射频溅射ITO组合薄膜被引量:8
2001年
利用射频磁控溅射技术在有机玻璃表面上一次完成表面活化、ITO膜制备、SiO2 减反射膜制备过程。利用低能等离子体对有机玻璃表面进行改性以提高ITO膜的附着力。研究了氧分压等工艺参数对ITO膜导电性能及光学性能的影响。
高劲松孙连春郑宣明王哲
关键词:ITO膜射频磁控溅射表面改性有机玻璃
表面反射对菲涅耳透镜的影响被引量:1
2001年
使用薄膜沉积法制作 16阶菲涅耳透镜 ,用它代替常规的光学透镜可实现系统的轻量化、小型化 ,并增加系统设计的自由度。在标量衍射理论的基础上 ,应用菲涅耳公式和傅里叶变换分析SiO2 薄膜和基底的表面反射对菲涅耳透镜 - 1级衍射效率的影响 ,结果表明表面反射对菲涅耳透镜的成像质量影响较大 。
李红军卢振武廖江红翁志成郑宣明赵晶丽
关键词:菲涅耳透镜衍射效率成像质量光学元件
二值位相光栅的设计与制作
1993年
我们采用了新的算法对二值位相光栅进行了设计,并对制作时可能产生的误差及它们对位相光栅的衍射效率和光强均匀性的影响进行了讨论。我们用薄膜沉积的方法进行了位相光栅的制作,对光栅进行了实际测量,把测量结果与理论值进行了比较,结论与我们的理论分析相符。
卢振武钱龙生廖江红郑宣明赵晶丽
关键词:位相光栅光栅
结合傅里叶变换合成法设计均匀薄膜被引量:2
2008年
基于傅里叶变换合成法的基本原理,合成了一个K9基底上的负滤光片,合成的渐变折射率薄膜具有期望光学特性,但实际制备难度很大,因此将其细分为足够多层离散折射率的均匀薄膜,由于实际薄膜材料种类有限,不能获得任意折射率膜层,鉴于两层高低折射率薄层可近似为一层中间折射率膜层的思想,将膜系转化成一个可实际制备的膜系结构:膜系采用ZrO2和SiO2两种膜料,膜层总数为183层,经单纯形调法优化后,膜层总厚度为7.09μm,通带和截止带内平均透射比分别为97.56%和3.13%,其结果优于直接采用傅里叶方法合成的非均匀膜系,与期望透射比曲线吻合更好。说明通过这种思想设计任意光谱特性的膜系是可行的,也使傅里叶变换合成法设计的薄膜实际制备成为可能。
朱华新高劲松王笑夷王彤彤陈红郑宣明申振峰李香波尹少辉刘小涵王珊珊
关键词:光学薄膜
共2页<12>
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