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刘宁
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中国科学院半导体研究所
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合作作者
金鹏
中国科学院半导体研究所
王占国
中国科学院半导体研究所
吴巨
中国科学院半导体研究所
王佐才
中国科学院半导体研究所
吴剑
中国科学院半导体研究所
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长波长砷化铟/砷化镓量子点材料
一种长波长砷化铟/砷化镓量子点材料,其特征在于,所述材料是基于应变自组织的量子点材料,其结构包括:一砷化镓衬底;一砷化镓缓冲层,该砷化镓缓冲层制作在衬底上;一多周期量子点层,该多周期量子点层制作在砷化镓缓冲层上;一砷化镓...
刘宁
金鹏
王占国
文献传递
宽光谱砷化铟/砷化铟镓/砷化镓量子点材料生长方法
一种宽光谱砷化铟/砷化铟镓/砷化镓量子点材料生长方法,包括如下步骤:在衬底上制备砷化镓缓冲层,该缓冲层是下述有源区的下势垒层;在砷化镓缓冲层上制备有源区,该有源区是该砷化铟/砷化铟镓/砷化镓量子点材料的核心部分,为该材料...
刘宁
金鹏
王占国
文献传递
自组织量子点的形成过程
2006年
利用分子束外延技术(MBE)生长了一个分布很不均匀的InGaAs量子点样品.样品不同位置InGaAs的沉积量不同导致点的大小、密度分布不均匀.这种分布恰恰对应着量子点形成的不同时期,因此仅通过一个样品就可以把量子点的生长演变全过程展示出来.AFM和PL测试表明:随着InGaAs沉积量的增加,量子点的密度显著增加,量子点的尺寸分布渐趋均匀并倾向于一平衡值.
于理科
徐波
王占国
金鹏
赵昶
雷文
胡良均
刘宁
关键词:
量子点
AFM
PL谱
宽光谱砷化铟/砷化铝镓量子点材料生长方法
一种宽光谱砷化铟/砷化铝镓量子点材料生长方法,所述材料生长方法是基于分子束外延设备的掩埋自组织量子点材料的生长方法,其中包括如下步骤:取一衬底;在衬底上制备砷化铝镓缓冲层,该缓冲层是下述有源区的下势垒层;在砷化铝镓缓冲层...
刘宁
金鹏
王占国
文献传递
宽光谱砷化铟/砷化铝镓量子点材料生长方法
一种宽光谱砷化铟/砷化铝镓量子点材料生长方法,所述材料生长方法是基于分子束外延设备的掩埋自组织量子点材料的生长方法,其中包括如下步骤:取一衬底;在衬底上制备砷化铝镓缓冲层,该缓冲层是下述有源区的下势垒层;在砷化镓缓冲层上...
刘宁
金鹏
王占国
文献传递
量子点超辐射发光管材料与器件研究
超辐射发光管(Superluminescent Diode,简称SLD)是一种具有内增益的非相干半导体发光器件。其光学特性介于半导体激光器与发光二极管之间,与激光器相比,超辐射发光管有更宽的发光光谱、更短的相干长度;与一...
刘宁
宽光谱砷化铟/砷化铟镓/砷化镓量子点材料生长方法
一种宽光谱砷化铟/砷化铟镓/砷化镓量子点材料生长方法,包括如下步骤:在衬底上制备砷化镓缓冲层,该缓冲层是下述有源区的下势垒层;在砷化镓缓冲层上制备有源区,该有源区是该砷化铟/砷化铟镓/砷化镓量子点材料的核心部分,为该材料...
刘宁
金鹏
王占国
文献传递
长波长砷化铟/砷化镓量子点材料
一种长波长砷化铟/砷化镓量子点材料,其特征在于,所述材料是基于应变自组织的量子点材料,其结构包括:一砷化镓衬底;一砷化镓缓冲层,该砷化镓缓冲层制作在衬底上;一多周期量子点层,该多周期量子点层制作在砷化镓缓冲层上;一砷化镓...
刘宁
金鹏
王占国
文献传递
利用多层堆垛InAs/GaAs量子点结构实现1.3微米光致发光
在GaAs衬底上使用分子束外延分别生长了单层和五层垂直堆垛的InAs/GaAs量子点结构.室温光致发光实验表明,五层堆垛结构较之单层结构发光峰位红移180 nm,实现了1.3微米发光.结合透射电镜分析,多层堆垛量子点材料...
刘宁
金鹏
吴巨
王占国
关键词:
分子束外延
INAS
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利用多层堆垛InAs/GaAs量子点结构实现1.3μm光致发光
2007年
在GaAs衬底上用分子束外延分别生长了单层和五层垂直堆垛的InAs/GaAs量子点结构.室温光致发光实验表明,五层堆垛结构较单层结构的发光峰位红移180nm,实现了1.3μm发光.结合透射电镜分析,多层堆垛量子点材料发光的显著红移是由于量子点层间应力耦合导致的上层量子点体积增大以及各量子点层间的能态耦合.
刘宁
金鹏
吴巨
王占国
关键词:
量子点
分子束外延
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