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吕菲

作品数：3 被引量：16H指数：2
供职机构：中国电子科技集团公司更多>>
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合作作者

领域

  • 5个电子电信
  • 4个金属学及工艺
  • 1个化学工程
  • 1个机械工程
  • 1个电气工程
  • 1个自动化与计算...
  • 1个一般工业技术
  • 1个文化科学

主题

  • 5个抛光
  • 4个单晶
  • 4个单晶片
  • 4个砷化镓
  • 4个双氧水
  • 4个酸性
  • 4个抛光片
  • 4个翘曲
  • 4个翘曲度
  • 3个单晶炉
  • 3个英寸
  • 3个圆柱面
  • 3个锗单晶
  • 3个直径
  • 2个单晶硅
  • 2个单晶生长
  • 2个氮化镓
  • 2个倒角
  • 2个调节剂
  • 2个形貌

机构

  • 5个中国电子科技...
  • 1个天津大学
  • 1个中国电子科技...
  • 1个中国电子科技...

资助

  • 1个国家高技术研...
  • 1个国家自然科学...
  • 1个国家科技部专...

传媒

  • 5个中国电子科学...
  • 1个节能技术
  • 1个天津科技
  • 1个半导体技术
  • 1个电子工艺技术
  • 1个电源技术
  • 1个材料导报
  • 1个电子工业专用...
  • 1个微处理机
  • 1个压电与声光
  • 1个微纳电子技术

地区

  • 4个北京市
共 5 条 记 录，以下是 1-5
刘春香
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：单晶片 抛光片 抛光液 抛光 砷化镓
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨洪星
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：单晶片 锗 抛光片 晶片 表面粗糙度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵权
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：单晶片 锗 锗单晶 晶片 抛光片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
于妍
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：酸腐蚀 圆柱面 单晶片 翘曲度 冰乙酸
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李响
供职机构：中国电子科技集团公司第四十七研究所
研究主题：表面粗糙度 VB 抛光片 抛光技术 砷化镓
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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