肖翔
- 作品数：4 被引量：14H指数：2
- 供职机构：武汉理工大学材料科学与工程学院光纤传感技术与信息处理教育部重点实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金湖北省自然科学基金中央高校基本科研业务费专项资金更多>>
- 相关领域：电子电信更多>>
- 基于157nm激光的GaN外延片激光抛光和划片工艺研究被引量：1
- 2012年
- 157 nm准分子激光的刻蚀精度高,热影响区极小,是较为理想的半导体材料微加工手段之一。通过大量实验对比,分析157 nm激光对GaN外延片抛光和划片加工过程中,各工艺参数对加工质量的影响。实验结果表明,157 nm激光抛光GaN外延片时,被刻蚀面单位面积累计辐射能量在一定范围内,会得到较好的表面粗糙度(Ra值约20 nm)。157 nm激光用于划片加工时,切槽内辐射的能量越高,残留物质越少,槽加工得越深,两侧壁面也更为陡峭;另外在扫描加工过程中适当地移动工作台高度,可以获得更好的加工效果。
- 肖翔戴玉堂陈赛华徐刚
- 关键词：抛光划片工艺参数
- 基于超短激光的光纤微加工人机界面设计
- 2012年
- 为了实现对光纤微加工过程的自动控制,在研究了157 nm超短波长激光和飞秒超短脉冲激光的工艺规划基础上,开发了超短激光微加工的数控自动编程系统,即人机交互界面。该编程系统可以自动生成数控指令代码,用于工作台以及激光的辅助控制。人机界面可以根据选择的加工形状,模拟仿真加工的全过程,并能预测加工结果,以提高加工效率。该系统能够满足不同光纤微加工的实际需求。
- 李治勇戴玉堂徐刚肖翔赵前程
- 关键词：激光人机界面自动编程
- 深紫外激光对GaN薄膜的激光抛光研究被引量：3
- 2012年
- 为了研究157nm深紫外激光的激光抛光加工特性,采用小光斑对GaN半导体薄膜进行了微平面扫描刻蚀。通过探讨激光工艺参量与激光抛光质量的影响关系,得到了最佳的工艺参量范围。结果表明,随着激光抛光扫描速率的增加,材料加工表面粗糙度值Ra逐渐减小,其中扫描速率在0.014mm/s～0.015mm/s处,激光抛光质量最高;而激光抛光扫描间距的减小,或者脉冲频率的增加,都将导致被加工表面粗糙度增大;当脉冲频率取8Hz时,抛光效果较好,表面粗糙度值Ra≈20nm。
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- 关键词：激光技术深紫外激光GAN薄膜微平面表面粗糙度
- 超短激光抛光微加工的数学建模与实验研究被引量：10
- 2013年
- 157nm是对硬脆材料进行激光表面微加工的理想波段。构建数学模型以探讨激光抛光材料时工艺参数对表面粗糙度Ra的影响,使用最小二乘法推导出粗糙度的计算式。利用157nm激光对GaN外延片进行了抛光微加工的基础实验。通过比较多组模拟与实验粗糙度值,发现理论粗糙度值与实际的测量值之间有一定误差,但相对误差都在15%以下,最小的相对误差为4%。以低于15Hz的脉冲频率和高于0.7mm/min的扫描速度进行激光扫描刻蚀时,可以获得较低的表面粗糙度。数学模型合理地解释了抛光后底面沟壑的形成,为今后改善加工质量提供了理论依据。
- 徐刚戴玉堂肖翔
- 关键词：激光技术表面粗糙度数学模型
