丁莉云
- 作品数：1 被引量：3H指数：1
- 供职机构：武汉理工大学材料科学与工程学院光纤传感技术与信息处理教育部重点实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信更多>>
- 深紫外激光对GaN薄膜的激光抛光研究被引量：3
- 2012年
- 为了研究157nm深紫外激光的激光抛光加工特性,采用小光斑对GaN半导体薄膜进行了微平面扫描刻蚀。通过探讨激光工艺参量与激光抛光质量的影响关系,得到了最佳的工艺参量范围。结果表明,随着激光抛光扫描速率的增加,材料加工表面粗糙度值Ra逐渐减小,其中扫描速率在0.014mm/s～0.015mm/s处,激光抛光质量最高;而激光抛光扫描间距的减小,或者脉冲频率的增加,都将导致被加工表面粗糙度增大;当脉冲频率取8Hz时,抛光效果较好,表面粗糙度值Ra≈20nm。
- 陈赛华戴玉堂肖翔丁莉云
- 关键词：激光技术深紫外激光GAN薄膜微平面表面粗糙度
