您的位置: 专家智库 > >

文献类型

  • 3篇会议论文
  • 2篇期刊文章

领域

  • 3篇一般工业技术
  • 2篇金属学及工艺

主题

  • 5篇金刚石薄膜
  • 2篇形核
  • 2篇合金
  • 1篇阴极
  • 1篇阴极材料
  • 1篇硬质
  • 1篇硬质合金
  • 1篇致密
  • 1篇致密性
  • 1篇碳化物
  • 1篇硼化处理
  • 1篇钨丝
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米晶
  • 1篇纳米晶粒
  • 1篇难熔金属
  • 1篇金刚石
  • 1篇金属
  • 1篇化物
  • 1篇光谱

机构

  • 5篇中南大学

作者

  • 5篇余志明
  • 5篇吴晓斌
  • 2篇魏秋平
  • 2篇王健
  • 2篇游小龙
  • 2篇刘倩
  • 1篇马莉
  • 1篇刘王平
  • 1篇王婷
  • 1篇程丽乾

传媒

  • 2篇中国有色金属...
  • 1篇2007年全...

年份

  • 1篇2011
  • 2篇2010
  • 2篇2007
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
YG13硼化处理后沉积气压对金刚石薄膜的影响被引量:9
2007年
采用超高真空热丝化学气相沉积(HFCVD)系统,以甲烷和氢气为反应气体,在YG13(WC-13%Co)硬质合金基体上沉积金刚石薄膜。用场发射扫描电子显微镜(FESEM)和X射线衍射仪(XRD)对金刚石薄膜进行检测分析,研究YG13经950℃、3h硼化预处理后沉积气压对金刚石薄膜形貌和生长织构的影响;通过压痕法比较硼化与二步法两种预处理方法对金刚石薄膜附着性能的影响。结果表明,基体经硼化预处理后表面形成CoB、CoW2B2、CoW3B3相;当沉积温度为750~800℃,碳源浓度为3.3%时,薄膜表面形貌和生长织构随着沉积气压改变有明显的变化;硼化预处理后所得样品在1500N载荷下压痕表现出良好的附着性能,较二步法预处理更加有效地改善了膜-基附着性能。
魏秋平余志明马莉游小龙丰杰吴晓斌刘王平
关键词:金刚石薄膜硬质合金
沉积参数对Mo-Re合金箔片上沉积金刚石薄膜的影响
采用热丝化学气相沉积法(HPCVD),以甲烷和氢气为反应气体,在Mo-Re合金箔片(d=6μm)上沉积金刚石薄膜。采用X射线衍射仪(XRD),扫描电子显微镜(SEM),显微激光拉曼光谱仪(Raman)分别对金刚石薄膜相组...
王健余志明吴晓斌刘倩
关键词:金刚石薄膜
钨丝直径和表面处理对金刚石形核生长的影响
对 Si 作不同的表面处理,采用热丝化学气相沉积(HFCVD)方法,使用不同直径的钨丝进行金刚石薄膜沉积;利用场发射扫描电镜、拉曼光谱对沉积的金刚石薄膜进行研究。结果表明:当钨丝的直径为0.5 mm 时, 沉积的金刚石薄...
游小龙余志明吴迪吴晓斌魏秋平王婷
关键词:金刚石薄膜纳米晶粒表面形貌
文献传递
沉积参数对Mo-Re合金基体上沉积金刚石薄膜的影响被引量:4
2011年
采用热丝化学气相沉积法(HFCVD),以甲烷和氢气为反应气体,在综合性能良好的Mo-40%Re(摩尔分数)合金基体上沉积金刚石薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)和显微激光拉曼光谱仪(Raman)分别对金刚石薄膜相组成、表面形貌、晶粒大小和质量等进行检测分析,研究CVD沉积参数,如基体温度(θs)、碳源浓度(R,CH4的体积分数)和沉积压强(p),对金刚石形核、生长和金刚石成膜的影响。结果表明:在合适的基体预处理条件下,当θs=750℃,R=3%,p=3.5 kPa时,薄膜平均线生长速率高达1μm/h,得到的金刚石膜完整致密,晶粒大小均匀,纯度较高,具有明显的(111)织构。
王健余志明吴晓斌刘倩
关键词:金刚石薄膜RAMAN光谱阴极材料
金刚石薄膜/难熔金属(合金)界面碳化物的研究
采用热丝化学气相沉积(HFCVD)法,在Mo、Ti、Re 及Mo-Re合金四种薄片基体上沉积了厚度为300nm 左右的金刚石薄膜。利用场发射扫描电子显微镜(SEM),拉曼光谱(Raman)和X射线衍射(XRD)对样品表面...
吴晓斌余志明龚逸伦黄林杰程丽乾
关键词:金刚石薄膜过渡层
共1页<1>
聚类工具0