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罗磊

作品数:4 被引量:10H指数:3
供职机构:西华大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金:国家科技重大专项更多>>
相关领域:金属学及工艺一般工业技术电气工程更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 3篇金属学及工艺
  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇非平衡磁控溅...
  • 2篇TIALN薄...
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇性能研究
  • 1篇压下率
  • 1篇硬质
  • 1篇硬质合金
  • 1篇轧压
  • 1篇碳化钛
  • 1篇涂层
  • 1篇退火
  • 1篇退火温度
  • 1篇气相沉积
  • 1篇中频磁控溅射
  • 1篇冷轧
  • 1篇冷轧压下率
  • 1篇力学性能
  • 1篇铝靶
  • 1篇化学气相

机构

  • 4篇西华大学
  • 1篇攀钢集团研究...

作者

  • 4篇赵广彬
  • 4篇罗磊
  • 2篇何迪
  • 2篇廖凤娟
  • 2篇谭刚
  • 2篇张丽珍
  • 1篇王敏莉
  • 1篇郑之旺
  • 1篇李欣健

传媒

  • 2篇西华大学学报...
  • 1篇热加工工艺
  • 1篇真空

年份

  • 2篇2015
  • 2篇2014
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
硬质合金高温化学气相沉积TiC涂层工艺研究被引量:4
2015年
采用高温化学气相沉积在YG8基体上制备Ti C涂层,研究沉积温度、沉积时间、H2流量、H2/CH4(流量比)以及Ti Cl4流量对镀层的抗弯曲强度、膜基结合力及表面显微硬度的影响,并通过正交试验优化工艺参数。结果表明:当沉积温度为1 000℃,沉积时间为90 min,H2流量为400 ml,H2/CH4(流量比)为15∶1,Ti Cl4流量为80 m L时,镀层具有优良的性能,抗弯曲强度达到1 100 N,表面显微硬度达到3 228 HV,膜基结合力达到90 N。
张丽珍赵广彬罗磊安小建陈梽雄
关键词:碳化钛化学气相沉积硬质合金
铝靶电流对TiAlN薄膜组织结构与性能的影响被引量:3
2014年
采用非平衡磁控溅射离子镀技术在YG6硬质合金表面沉积Ti Al N薄膜,研究Al靶的溅射电流对TixAl1-xN薄膜组织结构与性能的影响。利用X线衍射仪、扫描电子显微镜和显微硬度仪等分析仪器对制备的TixAl1-xN薄膜的相结构、表面形貌和显微硬度进行测试分析。测试结果表明:膜层中存在Ti3Al N、Al N相,且Ti3Al N沿(220)晶面择优取向。SEM测试表明,随Al靶功率的提高,膜层晶粒结构变得更致密。显微硬度仪测得薄膜平均硬度最高可达2 980 HV。
廖凤娟赵广彬谭刚罗磊张丽珍何迪李欣健
关键词:TIAL非平衡磁控溅射
冷轧压下率和退火温度对高强IF钢组织和性能的影响被引量:3
2015年
对不同冷轧压下率(55%、65%、75%、85%)的高强IF钢进行了不同工艺的盐浴退火。研究了冷轧压下率和退火工艺对高强IF钢显微组织和力学性能的影响,确定了最佳冷轧压下率和退火温度范围。结果表明高强IF钢退火温度840-860℃且冷轧压下率65%-75%时,达到较好的强塑性匹配。
罗磊赵广彬郑之旺王敏莉
关键词:高强IF钢冷轧压下率力学性能
中频磁控溅射TiAlN薄膜的制备与性能研究
2014年
采用中频非平衡磁控溅射离子镀技术在硬质合金基体YG6上制备TiAlN薄膜。利用XRD、EDS、体式显微镜、显微硬度仪和多功能材料表面性能测试仪等对其组织结构以及性能进行了研究分析。结果表明:低Al靶功率时,膜层以TiN、TiC形式存在,TiN的择优取向面(111),显微硬度与偏压有关;高Al靶功率时,膜层主要存在Ti3AlN、AlN相,Ti3AlN相沿(220)晶面择优取向;膜层结构致密均匀,N原子与金属原子比接近1:1;膜层厚度为1.93μm;显微硬度3145HV;结合力85N。
谭刚赵广彬廖凤娟罗磊安小建何迪
关键词:TIALN薄膜非平衡磁控溅射
共1页<1>
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