谭刚
- 作品数：6 被引量：8H指数：2
- 供职机构：西华大学材料科学与工程学院更多>>
- 发文基金：国家科技重大专项更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术理学电气工程更多>>
- 中频磁控溅射TiAlN薄膜的制备与性能研究
- 2014年
- 采用中频非平衡磁控溅射离子镀技术在硬质合金基体YG6上制备TiAlN薄膜。利用XRD、EDS、体式显微镜、显微硬度仪和多功能材料表面性能测试仪等对其组织结构以及性能进行了研究分析。结果表明:低Al靶功率时,膜层以TiN、TiC形式存在,TiN的择优取向面(111),显微硬度与偏压有关;高Al靶功率时,膜层主要存在Ti3AlN、AlN相,Ti3AlN相沿(220)晶面择优取向;膜层结构致密均匀,N原子与金属原子比接近1:1;膜层厚度为1.93μm;显微硬度3145HV;结合力85N。
- 谭刚赵广彬廖凤娟罗磊安小建何迪
- 关键词：TIALN薄膜非平衡磁控溅射
- 脉冲叠加直流偏压电弧离子镀TiCrN_x薄膜的制备与性能研究
- 2013年
- 采用脉冲叠加直流偏压电弧离子镀技术在硬质合金刀具表面制备TiCrNx薄膜,利用XRD,SEM,多功能材料表面性能测试仪等对TiCrNx薄膜进行表征。结果表明,TiCrNx与TiN薄膜相比,硬度有所下降。膜-基结合力与靶材阴极弧电流及偏压有关。
- 葛高峰赵广彬蒙志林谭刚肖鹏
- 关键词：PVD
- 中频非平衡磁控溅射制备TiAlN薄膜及其性能研究
- TiAlN硬质薄膜具有比TiN薄膜更加优良的性能,如高硬度、高抗氧化温度、良好的耐蚀性和耐磨性等。因此,TiAlN薄膜在切削刀具、工模具领域具有广阔的应用前景。 本文采用中频非平衡磁控溅射离子镀技术在YG6硬质合金基体...
- 谭刚
- 关键词：工艺参数力学性能
- 文献传递
- 中频非平衡磁控溅射制备TiA1N薄膜及其性能研究
- TiAlN硬质薄膜具有比TiN薄膜更加优良的性能，如高硬度、高抗氧化温度、良好的耐蚀性和耐磨性等。因此，TiAlN薄膜在切削刀具、工模具领域具有广阔的应用前景。 本文采用中频非平衡磁控溅射离子镀技术在YG6硬质合金...
- 谭刚
- 关键词：离子镀TINTIALN工艺参数
- 文献传递
- 铝靶电流对TiAlN薄膜组织结构与性能的影响被引量：3
- 2014年
- 采用非平衡磁控溅射离子镀技术在YG6硬质合金表面沉积Ti Al N薄膜,研究Al靶的溅射电流对TixAl1-xN薄膜组织结构与性能的影响。利用X线衍射仪、扫描电子显微镜和显微硬度仪等分析仪器对制备的TixAl1-xN薄膜的相结构、表面形貌和显微硬度进行测试分析。测试结果表明:膜层中存在Ti3Al N、Al N相,且Ti3Al N沿(220)晶面择优取向。SEM测试表明,随Al靶功率的提高,膜层晶粒结构变得更致密。显微硬度仪测得薄膜平均硬度最高可达2 980 HV。
- 廖凤娟赵广彬谭刚罗磊张丽珍何迪李欣健
- 关键词：TIAL非平衡磁控溅射
- 多弧离子镀TiN/TiCrN/CrN多元多层复合膜的制备及性能研究被引量：5
- 2013年
- 采用XH-800多弧离子镀设备在硬质合金刀具表面制备TiN/TiCrN/CrN多元多层复合膜。利用XRD、SEM、显微硬度计、多功能材料表面性能测试仪等对其组织结构与性能进行了研究。结果表明:膜层表面均匀,未出现龟裂现象,色泽光亮度好;膜的相结构组成为TiN和Cr2N,随着Cr靶电流的增大,TiN的择优取向由(200)向(111)转变,膜层出现单质Cr;膜层厚度为5.02μm,具有明显多层特征;显微硬度2536 HV;结合力65 N。
- 蒙志林赵广彬葛高峰谭刚廖凤娟
- 关键词：多弧离子镀TINCRN
