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郑晓锋

作品数：5 被引量：4H指数：1
供职机构：浙江工业大学更多>>
发文基金：浙江省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域：金属学及工艺电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇专利
  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇电子电信

主题

  • 5篇荧光
  • 5篇CMP
  • 4篇抛光
  • 3篇荧光强度
  • 3篇抛光液
  • 3篇晶圆
  • 2篇化学机械抛光
  • 2篇机械抛光
  • 2篇激光诱导荧光
  • 2篇计算机
  • 2篇计算机数据
  • 2篇光诱导
  • 2篇分光
  • 2篇分光镜
  • 2篇LIF
  • 1篇荧光物
  • 1篇荧光物质
  • 1篇抛光垫
  • 1篇流场
  • 1篇流场模拟

机构

  • 5篇浙江工业大学

作者

  • 5篇郑晓锋
  • 4篇楼飞燕
  • 4篇袁巨龙
  • 1篇周兆忠
  • 1篇赵萍

传媒

  • 1篇新技术新工艺

年份

  • 1篇2009
  • 4篇2008
共 5 条 记 录，以下是 1-5
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排序方式：
CMP过程中晶圆下液体薄膜中间变量的测量装置
一种CMP过程中晶圆下液体薄膜中间变量的测量装置，包括激光器、分光镜、滤光片、摄像头、用以计算测量的计算机以及用以提供具有两种荧光材料的抛光液的抛光液供给机构，激光器通过光纤连接发散透镜，发散透镜的出射光学范围覆盖晶圆下...
袁巨龙楼飞燕郑晓锋
文献传递
CMP过程中晶圆下液体薄膜中间变量的测量装置
一种CMP过程中晶圆下液体薄膜中间变量的测量装置，包括激光器、分光镜、滤光片、摄像头、用以计算测量的计算机以及用以提供具有两种荧光材料的抛光液的抛光液供给机构，激光器通过光纤连接发散透镜，发散透镜的出射光学范围覆盖晶圆下...
袁巨龙楼飞燕郑晓锋
文献传递
一种CMP过程中晶圆下液体薄膜中间变量的测量方法
一种CMP过程中晶圆下液体薄膜中间变量的测量方法，包括以下步骤：(1)、在抛光液中加入荧光物质，并将抛光液输送到抛光机的抛光垫和晶圆之间，形成液体薄膜；(2)、开启激光器照射所述液体薄膜，所述液体薄膜受到激发后产生荧光；...
袁巨龙楼飞燕郑晓锋
文献传递
基于激光诱导荧光技术的化学机械抛光机理的应用研究被引量：4
2008年
虽然化学机械抛光(CMP)技术在半导体产业中得到越来越广泛的应用,但人们对化学机械抛光加工的理解还多半停留在经验阶段,为深入研究其加工机理,引入了激光诱导荧光(LIF)检测技术,在化学机械抛光(CMP)过程中使用LIF技术对晶片下抛光液的流动、混合、抛光液膜的厚度、温度、pH值进行可视化研究,从而来揭示CMP的加工机理。
楼飞燕赵萍郑晓锋袁巨龙周兆忠
关键词：荧光强度
CMP过程中抛光液流场数值仿真研究
化学机械抛光/(Chemical Mechanical Polishing,CMP/)加工过程中,材料去除是化学作用和机械作用相互协调的结果,晶片下方抛光液的流动特性直接影响到CMP加工的材料去除率和表面质量。由于CMP...
郑晓锋
关键词：抛光液流场模拟
文献传递
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