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楼飞燕

作品数:30 被引量:23H指数:3
供职机构:浙江工业大学更多>>
发文基金:浙江省自然科学基金国家自然科学基金浙江省科技厅科技计划项目更多>>
相关领域:金属学及工艺电子电信理学机械工程更多>>

文献类型

  • 18篇专利
  • 9篇期刊文章
  • 2篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 8篇金属学及工艺
  • 4篇电子电信
  • 1篇机械工程
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇理学

主题

  • 13篇抛光
  • 11篇抛光液
  • 9篇荧光
  • 9篇化学机械抛光
  • 9篇机械抛光
  • 8篇CMP
  • 6篇激光诱导荧光
  • 6篇光诱导
  • 4篇荧光强度
  • 4篇空化
  • 4篇夹具
  • 4篇碱性抛光液
  • 4篇SIC材料
  • 4篇大颗粒
  • 3篇液膜厚度
  • 3篇幼儿
  • 3篇散射
  • 3篇实时在线
  • 3篇数据采集
  • 3篇数据采集与处...

机构

  • 29篇浙江工业大学
  • 2篇湖南大学
  • 1篇教育部

作者

  • 30篇楼飞燕
  • 14篇吕冰海
  • 13篇袁巨龙
  • 13篇邓乾发
  • 7篇王志伟
  • 4篇郑晓锋
  • 3篇胡一超
  • 3篇黄其豪
  • 3篇郁炜
  • 3篇吕迅
  • 3篇唐丽娟
  • 3篇周云中
  • 3篇翁海舟
  • 3篇赖柏乐
  • 3篇杜学文
  • 2篇周兆忠
  • 2篇常敏
  • 2篇陈振华
  • 2篇马亮亮
  • 1篇曹志锡

传媒

  • 2篇新技术新工艺
  • 2篇轻工机械
  • 1篇机械工程师
  • 1篇机电工程
  • 1篇中国机械工程
  • 1篇航空精密制造...
  • 1篇纳米技术与精...
  • 1篇全国生产工程...

年份

  • 1篇2023
  • 3篇2018
  • 2篇2017
  • 1篇2016
  • 6篇2015
  • 4篇2012
  • 4篇2009
  • 5篇2008
  • 1篇2006
  • 1篇2005
  • 1篇2004
  • 1篇2003
30 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种抛光过程中抛光液大颗粒实时在线监测装置
一种抛光过程中抛光液大颗粒实时在线监测装置,包括光学系统、数据采集与处理系统、系统标定与检验和辅助系统,光学系统包括观察窗口、激光光源、激光发射光路、激光衰减接收光路和激光散射接收光路,实现对抛光液中大颗粒光衰减、光散射...
吕冰海楼飞燕邓乾发王志伟贺乾坤陈世豪
文献传递
基于空化效应的软脆材料加工装置
一种基于空化效应的软脆材料加工装置,包括加工池,所述加工池内设有用于固定待加工软脆材料工件的夹具,所述夹具上方设有弹性摩擦轮,所述夹具与所述弹性摩擦轮之间的区域为加工工位,所述夹具与用于带动所述夹具运动的夹具驱动机构连接...
楼飞燕戴伟涛吕冰海翁海舟邓乾发周云中叶见领
文献传递
CMP加工过程中加工载荷对液膜厚度的影响分析
2009年
本文采用激光诱导荧光技术(LIF)来研究抛光参数对化学机械抛光加工区液膜厚度的影响。研究表明,抛光液膜厚度随着抛光载荷的增加而减少,减小的趋势随抛光载荷的提高而减缓。同时液膜厚度随着抛光速度的增加而变大。通过抛光参数的变化对抛光液液膜厚度影响的分析,为改善CMP加工工艺提供理论性的依据。
郁炜吕迅楼飞燕
关键词:化学机械抛光液膜厚度激光诱导荧光
一种抛光过程中抛光液大颗粒的实时在线监测方法
一种抛光过程中抛光液大颗粒的实时在线监测方法,包括如下步骤:(1)抽样,通过抽样系统从抛光液供给主管道中提取检测样品,所述抽样系统是利用真空技术来实现;(2)稀释,将一定量的去离子水加入所述检测样品中,充分稀释;(3)消...
楼飞燕吕冰海王志伟邓乾发陈士豪贺乾坤
文献传递
可伸缩脚踏板式幼儿坐便圈
可伸缩脚踏板式幼儿坐便圈,包括本体、脚踏板,所述的本体前端下底面边缘设有连接装置和凹面;所述脚踏板分为第一组块、第二组块、第三组块和第四组块,所述脚踏板的所述第一组块通过所述连接装置与所述的本体铰接;所述第一组块、第二组...
黄其豪楼飞燕杜学文赖柏乐胡一超唐丽娟
文献传递
可伸缩式幼儿坐便圈
可伸缩式幼儿坐便圈,包括坐便圈本体,所述的坐便圈本体包括前部分、后部分、门形旋转装置和扶手,所述的前部分下表面设有第一滑槽,所述的后部分设有第二滑槽;所述的旋转装置包括直杆、位于两端的圆形小块和连接杆,所述直杆与所述圆形...
黄其豪楼飞燕杜学文赖柏乐胡一超唐丽娟
文献传递
CMP中抛光液膜特性的数值仿真和实验研究
化学机械抛光/(Chemical mechanical polishing/),简称CMP,是目前在超大规模集成电路制造过程中全面平坦化应用最广泛的技术。但是CMP技术是从实践中发展起来的,其发明、发展及发展趋势、应用都...
楼飞燕
关键词:液膜厚度倾斜角
文献传递网络资源链接
CMP抛光液流场数值仿真
2009年
建立了一种基于流体动力学的化学机械抛光模型,利用流体动力学方法推导了抛光液流场的雷诺方程,并通过计算机求解偏微分方程,对抛光过程中晶片和抛光垫之间的抛光液液体薄膜厚度以及液体薄膜压力分布进行了仿真计算。分析了液膜厚度、晶片倾斜角和液膜负荷力、液膜压力力矩的关系,讨论了抛光载荷、抛光转速对最小液膜厚度、晶片倾斜角以及液膜压力分布的影响。结果表明,不同抛光速度和抛光载荷下,抛光液膜厚度、液膜压力和晶片倾斜角呈现不同的分布规律。比较仿真和实验中抛光输入参数对晶片下液膜厚度的影响曲线发现,仿真结果与实验结果的变化趋势一致,证明建立的抛光液液膜厚度及液膜压力分布模型的有效性。
周兆忠楼飞燕吕冰海袁巨龙
关键词:化学机械抛光流场数值模拟
化学机械抛光技术概述
化学机械抛光(ChemicalMechanicalPolishing,CMP)技术有着悠久的历史,由于这项技术可用于硅集成电路(SiIC)以及各种高性能和特殊用途的集成电路制造中,现已引起了人们广泛的研究兴趣.本文通过查...
常敏袁巨龙楼飞燕王志伟
关键词:化学机械抛光超精密加工集成电路
后锥角对串联空化腔室的空化特性的数值研究被引量:1
2017年
针对串联式空化腔室的空化强度和效率存在的问题,展开了对其影响较大的后锥角β值的数值研究,为今后的空化腔室设计提供理论依据。采用Mixture多相流模型,以及k-?两方程湍流模型,在Fluent软件中仿真模拟后锥角β值连续变化的多种串联空化腔室流体域模型,抽取分析计算结果中的压力,速度及空泡体积分数的云图,进而研究后锥形角β值对空化流场的影响。研究结果表明:在后锥形角β值取15?附近能够获得强度相对较高的空化现象;产生空泡体积的大小、负压力的区域大小以及沿中轴线维持恒定速度的能力三者成正相关关系;后锥角β值直接影响着空化流场的分布情况,决定着最终喷射到工件表面的作用范围。
戴勇叶见领葛满楼飞燕
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