您的位置: 专家智库 > >

李浩

作品数:6 被引量:3H指数:1
供职机构:天津市技术物理研究所更多>>
相关领域:电子电信核科学技术更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇会议论文
  • 1篇科技成果

领域

  • 4篇电子电信
  • 1篇核科学技术

主题

  • 4篇电子辐照
  • 2篇晶体管
  • 1篇单模
  • 1篇单模光纤
  • 1篇电子辐射
  • 1篇色心
  • 1篇双极晶体管
  • 1篇双极型
  • 1篇损耗
  • 1篇损耗特性
  • 1篇屏蔽
  • 1篇静电加速器
  • 1篇剂量计
  • 1篇加速器
  • 1篇光纤
  • 1篇硅双极晶体管
  • 1篇二极管
  • 1篇发光
  • 1篇发光二极管
  • 1篇辐射防护

机构

  • 6篇天津市技术物...
  • 2篇河北大学
  • 1篇电子工业部
  • 1篇机电部

作者

  • 6篇李浩
  • 2篇刘全民
  • 1篇宁鼎
  • 1篇胡恺生
  • 1篇高钧成
  • 1篇李彦波
  • 1篇李宗祥
  • 1篇王存达
  • 1篇陈范欣
  • 1篇周建平
  • 1篇张若愚
  • 1篇刘春香

传媒

  • 1篇河北大学学报...
  • 1篇半导体技术
  • 1篇Journa...
  • 1篇物理学报
  • 1篇第二次全国电...

年份

  • 1篇2002
  • 1篇1992
  • 2篇1991
  • 1篇1990
  • 1篇1986
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
电子辐照对掺铒单模光纤损耗特性的影响被引量:2
1991年
本文介绍了掺铒(Er^(3+))单模光纤电子辐照特性,测量了辐照前后和退火后的光纤参数。发现在0.80-1.60μm范围内辐照引起的损耗很大,在0.80-1.20μm短波部分辐照损耗遵循Luv=0.342exp[E/0.166];而1.20-1.60μm长波部分遵循L_(IR)=2.2·10~4exp[-6.08E](E的单位为eV)。120℃退火60h可使长波辐照损耗减少,但0.80μm附近的损耗反而增加。最后讨论了辐照损耗的机理,估计出辐照引起氧和硅原子的位移几率分别为7.1×10^(-8)和3.9×10^(-8)。在1.40μm处位移原子引起的损耗比相同数量的OH^-引起的损耗要大200倍之多。退火能使部分位移原子复原,使损耗有所恢复。
胡恺生李宗祥宁鼎李浩周建平刘全民
关键词:电子辐照掺铒单模光纤损耗
2.5Mev电子静电加速器的剂量监测及屏蔽防护评价
高振镛李浩罗微
关键词:加速器辐射防护
电子辐照辅助控制h_(FE)技术研究
1990年
本文研究了2M_(ev)高能电子对中小功率双极型晶体管h_(FE)的影响,实验得到了h_(FE)与辐照剂量、热、电处理的关系,提出了一种可行的辅助控制h_(FE)技术。
翟冬青李浩
关键词:晶体管双极型电子辐射HFE
电子辐照对硅双极晶体管交流参数的影响被引量:1
1992年
本文研究了 2 MeV电子辐照对硅双极外延平面晶体管交流参数的影响.结果表明,在7×10^(14)cm^(-2)注入剂量下、输出电容已。有明显减小,特征频率f_T基本不变,而功率增益G_p稍有增加.用多数载流子去除效应讨论了辐照后这些参数的变化和性质.
翟冬青李彦波李浩
关键词:双极晶体管电子辐照
发光二极管电子辐照后缺陷行为的DLTS研究
1991年
采用DLTS(深能级瞬态谱)与光功率测量方法,研究了发光二极管(GaP:N)经1MeV电子辐照后,其输出光功率的变化情况。实验发现,只在近乎不发光处于失效状态的二极管中进行DLTS测量时,才观察到深能级,数量不少于五个(E_1~E_5),这些深能级在热处理中的变化行为是:浓度随退火温度升高和退火时间延长而降低,500k退火后,除E_5能级外,其余深能级基本消失。另外还发现在正向注入电流的情况下,E_1和E_4能级均很快消失。
鲍桂珍张若愚刘春香刘全民李浩
关键词:DLTS
辐射诱导色心的氟化锂剂量计研究与改进
陈范欣王存达高钧成李浩
辐射诱导色心的氟化锂剂量计,研究与改进报道了采用国产晶体制片剂量,响应研究计量校准和晶片处理,属国内首创国际先进参加第八届国际辐射加工会议,全文刊登在英国辐射物理化学杂志,被世界两大文摘刊物-美化学文摘和工程文摘收录,美...
关键词:
关键词:色心氟化锂辐射剂量计
共1页<1>
聚类工具0