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周桂林

作品数:5 被引量:0H指数:0
供职机构:中山大学更多>>
发文基金:国家教育部博士点基金国际科技合作与交流专项项目国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 3篇专利
  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 5篇GAN
  • 4篇SI衬底
  • 4篇衬底
  • 3篇势垒
  • 3篇肖特基
  • 3篇肖特基势垒
  • 3篇肖特基势垒二...
  • 3篇二极管
  • 2篇互联
  • 2篇互联技术
  • 2篇MOSFET
  • 2篇层状结构
  • 1篇氮化镓
  • 1篇等离子增强化...
  • 1篇叠装
  • 1篇外延层
  • 1篇绝缘栅
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇场效应

机构

  • 5篇中山大学
  • 1篇德岛大学

作者

  • 5篇张佰君
  • 5篇刘扬
  • 5篇周桂林
  • 2篇沈震
  • 2篇杨帆
  • 2篇姚尧
  • 2篇张金城
  • 2篇钟健
  • 2篇郑越
  • 1篇贺致远
  • 1篇王硕
  • 1篇敖金平

传媒

  • 1篇中国科技论文
  • 1篇第13届全国...

年份

  • 1篇2017
  • 3篇2015
  • 1篇2014
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
一种Si衬底GaN基肖特基势垒二极管器件的三维互联结构及三维互联方法
本发明涉及一种Si衬底GaN基肖特基势垒二极管器件三维互联技术,包括两个或两个以上的二极管,单个二极管包括从下至上排列的Si衬底层(1)、GaN外延层(2)、电极层,其中所述电极层的阴极(3)和阳极(4)相对、且间隔开地...
刘扬周桂林张佰君
增强型GaN MOSFET的制备及其绝缘栅的电荷特性研究
2015年
采用ICP干法刻蚀和PECVD沉积技术,制备了增强型Si衬底SiO2/GaN MOS栅场效应晶体管(MOSFET)。SiO2/GaN MOSFET转移特性曲线测试中出现阈值电压不稳定现象,针对其阈值电压稳定性问题,采用正向电压偏置方法对SiO2/GaN MOSFET的绝缘栅电荷特性展开研究。正向电压偏置后,器件的转移特性曲线和高频C-V特性曲线均正向偏移,研究表明:SiO2/GaN之间存在的界面态和靠近SiO2/GaN界面的SiO2内部陷阱是造成SiO2/GaN MOSFET阈值电压不稳定的原因,实验研究结果同时表明氮气1 000℃快速热退火(RTA)对SiO2内部陷阱有改善作用。
周桂林张金城沈震杨帆姚尧钟健郑越张佰君敖金平刘扬
关键词:氮化镓场效应管等离子增强化学气相沉积
一种Si衬底GaN基肖特基势垒二极管器件的三维互联结构
本实用新型涉及一种Si衬底GaN基肖特基势垒二极管器件的三维互联结构,包括两个或两个以上的二极管,单个二极管包括从下至上排列的Si衬底层(1)、GaN外延层(2)、电极层,其中所述电极层的阴极(3)和阳极(4)相对、且间...
刘扬周桂林张佰君
文献传递
一种Si衬底GaN基肖特基势垒二极管器件的三维互联结构及三维互联方法
本发明涉及一种Si衬底GaN基肖特基势垒二极管器件三维互联技术,包括两个或两个以上的二极管,单个二极管包括从下至上排列的Si衬底层(1)、GaN外延层(2)、电极层,其中所述电极层的阴极(3)和阳极(4)相对、且间隔开地...
刘扬周桂林张佰君
文献传递
采用选择区域外延技术制备的常关型Si衬底GaN MOSFET的特性研究
在功率开关应用领域,为了保障失效安全,常关型器件的实现是非常有必要的.本文采用选择区域外延(SAG)技术,即:在金属有机化学气相外延(MOCVD)外延生长形成的半绝缘(SI)GaN/Si基底上,选择性地在接入区生长AlG...
姚尧吴志盛张佰君刘扬贺致远杨帆沈震张金城王硕周桂林钟健郑越
共1页<1>
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