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刘小涵

作品数:8 被引量:47H指数:4
供职机构:中国科学院研究生院更多>>
发文基金:国防科技技术预先研究基金武器装备预研基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学航空宇航科学技术一般工业技术更多>>

文献类型

  • 8篇中文期刊文章

领域

  • 3篇电子电信
  • 3篇理学
  • 1篇化学工程
  • 1篇机械工程
  • 1篇航空宇航科学...
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 3篇电磁
  • 3篇电磁屏蔽
  • 2篇镀镍
  • 2篇屏蔽效能
  • 2篇化学镀
  • 2篇化学镀镍
  • 2篇光学
  • 2篇光学薄膜
  • 2篇感性
  • 1篇单层膜
  • 1篇等效折射率
  • 1篇旋涂
  • 1篇折射率
  • 1篇色散
  • 1篇砂轮
  • 1篇碳化硅
  • 1篇碳化硅材料
  • 1篇透光率
  • 1篇透射
  • 1篇透射率

机构

  • 8篇中国科学院长...
  • 7篇中国科学院研...
  • 1篇中航工业北京...

作者

  • 8篇刘小涵
  • 5篇高劲松
  • 4篇赵晶丽
  • 4篇冯晓国
  • 3篇申振峰
  • 2篇王笑夷
  • 2篇王彤彤
  • 2篇郑宣明
  • 2篇尹少辉
  • 2篇朱华新
  • 2篇李香波
  • 2篇王珊珊
  • 2篇陈红
  • 1篇崔岩
  • 1篇张葆
  • 1篇刘家燕
  • 1篇徐念喜
  • 1篇王忠素
  • 1篇程志峰
  • 1篇苏东风

传媒

  • 4篇光学精密工程
  • 1篇红外与激光工...
  • 1篇光学学报
  • 1篇光子学报
  • 1篇长春理工大学...

年份

  • 2篇2012
  • 2篇2011
  • 1篇2010
  • 2篇2009
  • 1篇2008
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
降低感性网栅膜表面电阻的方法被引量:2
2012年
在线宽、周期不变(相同透光率)的前提下,增加网栅厚度才能降低网栅的表面电阻,从而进一步提高球面网栅的电磁屏蔽性能。首先推导了网栅厚度、表面电阻和电磁屏蔽效能之间的数学关系,接着开展了膜层增厚的化学镀镍工艺实验。实验结果表明:球面铜网栅上可以得到厚度均匀、结合力牢固的镍磷合金镀层,面电阻由50Ω降至15Ω。经天线法测试,在200 MHz~18 GHz波段,镀镍球面金属网栅膜屏蔽效能平均达到46 dB,比未镀镍前平均提高了8 dB,而球面网栅试件镀镍前后,在400~900 nm波段透过率均为88%。镀镍前后透过率基本相同时,镀后表面电阻迅速降低,电磁屏蔽效能得到了显著提高。
刘小涵徐念喜赵晶丽冯晓国申振锋张宏胜
关键词:表面电阻电磁屏蔽屏蔽效能表面电阻化学镀镍
SiO_2单层膜的反常色散研究被引量:2
2009年
利用等效折射率概念分析了SiO2单层膜反常色散出现的原因,并在1.1m镀膜机上证明了理论分析的合理性.结果表明,理论分析与实验结果一致,沿薄膜厚度方向折射率的对称周期变化使薄膜的等效折射率变化在可见光波段与致密膜层的变化不一致,表现出反常色散的现象.膜厚方向折射率变化周期越大,等效折射率随波长增加的趋势就越大,薄膜表现出的反常色散特性越明显.沿膜厚方向折射率变化幅度的对色散特性影响次之.
李香波高劲松王彤彤王笑夷陈红郑宣明申振峰朱华新尹少辉刘小涵王珊珊
关键词:光学薄膜反常色散等效折射率
K9基底细薄铜网上的化学镀镍被引量:4
2010年
为进一步提高高通光率网栅的电磁屏蔽性能,满足其环境适应性要求,针对线宽约9μm、膜厚约0.3μm、周期为400μm×400μm的细薄铜网进行了镀镍工艺实验。首先,经涂胶、直写、显影、镀铜、去胶等工序,在K9基底上制备出细薄铜网栅试件。然后,对试件超声波除油,用10%的HCl溶液浸泡试件10~15 s进行镀前活化处理。接着,将试件放入按成分要求配制好的化学镀镍溶液中,在恒温85℃条件下化学镀镍40~60 min。最后,从化学镀镍溶液中取出试件,放入烘箱烘干,缓慢冷却至室温。实验结果显示:得到的试件镀层均匀、结合力强;用同轴法测试网栅化学镀镍后的电磁屏蔽效能达到32 dBm,比未镀镍前提高了11 dBm,且试件镀镍工艺导致的在400~800 nm波段的平均透过率下降小于1%。这些结果表明,在细薄铜网上能够镀制较好的镍层,可以在基本不影响光学透过率的前提下显著提高其电磁屏蔽效能和环境适应性。
刘小涵冯晓国赵晶丽高劲松
关键词:电磁屏蔽屏蔽效能化学镀镍
结合傅里叶变换合成法设计均匀薄膜被引量:2
2008年
基于傅里叶变换合成法的基本原理,合成了一个K9基底上的负滤光片,合成的渐变折射率薄膜具有期望光学特性,但实际制备难度很大,因此将其细分为足够多层离散折射率的均匀薄膜,由于实际薄膜材料种类有限,不能获得任意折射率膜层,鉴于两层高低折射率薄层可近似为一层中间折射率膜层的思想,将膜系转化成一个可实际制备的膜系结构:膜系采用ZrO2和SiO2两种膜料,膜层总数为183层,经单纯形调法优化后,膜层总厚度为7.09μm,通带和截止带内平均透射比分别为97.56%和3.13%,其结果优于直接采用傅里叶方法合成的非均匀膜系,与期望透射比曲线吻合更好。说明通过这种思想设计任意光谱特性的膜系是可行的,也使傅里叶变换合成法设计的薄膜实际制备成为可能。
朱华新高劲松王笑夷王彤彤陈红郑宣明申振峰李香波尹少辉刘小涵王珊珊
关键词:光学薄膜
高体份SiC/Al复合材料在无人机载光电稳定平台中的应用被引量:17
2009年
采用无压浸渗复合方法并利用自行研制的专用工艺设备,用高体份(55%~57%)SiC/Al复合材料制备了机载光电稳定平台的内框架,并将其作为有效载荷的主承力框架。由于该材料结构承载功能优异(弹性模量为213GPa,比模量比铝合金、钛合金及钢高出近2倍),热控功能好(其热膨胀系数低于钛合金,热导率接近纯铝,达到235W/(m·K),与常用的铝合金材料相比,整个内框架最大变形量减少了60%,基频提升了65%,轻量化效果的并减低了热控负荷。检测结果表明,系统的稳定精度达到20μrad。本项研究首次将SiC/Al复合材料应用于机载光电稳定平台,为航空新材料的应用做出了有效的探索。
程志峰张葆崔岩王忠素刘家燕王平苏东风刘小涵
关键词:SIC/AL复合材料内框架
碳化硅零部件机械加工工艺被引量:5
2011年
为了满足碳化硅材料部件工程项目需求,开展了SiC材料零件机械加工工艺性能的研究。首先分析了材料性能,接着根据碳化硅材料性能,开展了磨削工艺、数控加工、线切割及超声波加工机械工艺试验;最后针对加工中出现的技术难题,采取了特殊的工艺措施。实验结果表明用铝基树脂结合剂金刚石砂轮,采用磨削等工艺方法可以达到工程技术要求,并取得了较好的实验结果。
刘小涵姜明珠曹宏董旭高海侠
关键词:碳化硅材料机械加工工艺金刚石砂轮
球面旋涂光刻胶工艺被引量:3
2011年
研究了离心式涂胶工艺理论以实现在凹球面内表面涂布厚度均匀的光刻胶。首先,讨论了影响膜厚均匀性的主要因素;接着,用流体力学理论分析了离心式开口向下球面涂胶过程中胶液的受力流动状态,建立了出胶膜厚度与离心机转速、胶液粘度、旋涂时间等参数关系的数学模型;最后,为了验证理论的正确性,在口径φ120 mm,凹球面半径300 mm,矢高12.5 mm的K9玻璃试验件内表面开展涂胶工艺实验。测试分析结果表明,该理论分析模型与实际情况相符,根据理论分析采用主轴与工件旋转轴偏心的装夹方法,在整个球面内表面可以得到厚度均匀的胶膜。当光刻胶黏度为1.1~1.9 Pa,主轴转速为3 000~6 000 r/min时,可在凹球面上涂布厚度为0.5~1μm的均匀胶膜。
刘小涵冯晓国赵晶丽高劲松张红胜程志峰
关键词:光刻胶流体力学转速
高透光率感性网栅膜的电磁屏蔽被引量:14
2012年
在确保制作感性网栅膜后光学窗红外透射率下降小于5%的前提下,研究了影响感性网栅膜电磁屏蔽特性的主要因素。归纳了感性网栅膜红外透射率公式,运用含阻抗边界条件的谱域Galerkin法推导了周期结构金属网栅的电磁场积分方程,用周期矩量法计算出网栅的反射系数及透射系数,进而求出其电磁屏蔽效能;计算并分析了采用不同线宽、周期、衬底材料、衬底厚度时透明导电光窗(金属网栅膜)的电磁屏蔽效能。最后,采用激光直写、真空镀膜等工艺在ZnS基底上制作了周期为360μm×360μm、线宽为12μm,方块电阻分别为13Ω、25Ω的样片,采用自由空间法测试了2~18GHz频段的电磁屏蔽效能。测试与分析结果表明:当感性网栅膜在8~10μm波段引起的平均透射率下降小于2%的情况下,电磁屏蔽效能平均达到了20dB以上。结果显示网栅的光电特性是矛盾的,线宽与周期越小电磁屏蔽效果越好,同时应尽量降低网栅的表面电阻。
刘小涵赵晶丽冯晓国申振峰高劲松张红胜
关键词:电磁屏蔽矩量法
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