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苦史伟

作品数:7 被引量:8H指数:2
供职机构:上海交通大学更多>>
发文基金:上海市科学技术委员会资助项目更多>>
相关领域:电气工程电子电信动力工程及工程热物理一般工业技术更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 3篇会议论文
  • 1篇学位论文

领域

  • 4篇电气工程
  • 2篇电子电信
  • 1篇动力工程及工...
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 4篇电池
  • 3篇硅片
  • 2篇太阳电池
  • 2篇太阳能
  • 2篇太阳能电池
  • 2篇晶体硅
  • 2篇背反射
  • 2篇HF
  • 1篇等离子刻蚀
  • 1篇多晶
  • 1篇多晶硅
  • 1篇入射
  • 1篇酸液
  • 1篇体硅
  • 1篇中膜
  • 1篇紫外
  • 1篇紫外光
  • 1篇温度
  • 1篇离子刻蚀
  • 1篇纳秒

机构

  • 7篇上海交通大学

作者

  • 7篇苦史伟
  • 6篇刘志刚
  • 6篇孙铁囤
  • 5篇安静
  • 5篇汪建强
  • 2篇徐秀琴
  • 2篇崔容强
  • 2篇叶庆好
  • 1篇罗培青
  • 1篇姜维

传媒

  • 3篇第九届中国太...
  • 2篇太阳能学报
  • 1篇中国建设动态...

年份

  • 1篇2012
  • 1篇2008
  • 1篇2007
  • 4篇2006
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
背腐蚀法分离p-n结的研究
2007年
采用正面无保护的背腐蚀方法分离p-n结,用SEM图观察了背腐蚀后硅片表面形貌的变化,对背腐蚀与刻边分离p-n结样品的光生电动势进行了比较,用能带理论对其差别做了深入的解释。
刘志刚孙铁囤苦史伟罗培青姜维徐秀琴崔容强
关键词:光生电动势
背腐蚀在晶体硅太阳能电池生产中的应用
背腐蚀可以用来取代常规的等离子刻蚀将扩散后正面和背面的PN结分开.本文中背腐蚀使用了HF/HNO3体系,正面没有使用掩膜.用扫描电镜(SEM)观察了背腐蚀和等离子刻蚀后的表面形貌以及硅/铝界面情况,分析了背反射和内量子效...
苦史伟孙铁囤刘志刚汪建强安静叶庆好
关键词:背反射硅太阳能电池晶体硅等离子刻蚀
文献传递
影响硅片在酸液中腐蚀速度的因素
氢氟酸(HF)/硝酸(HNO3)/水(H2O)体系对硅片的腐蚀非常复杂,腐蚀机理与酸液的配比有关.影响酸液腐蚀硅片的因素有酸液比例、溶液温度、稀释剂与助剂的添加、硅片表面状况、是否加搅拌等.通过改变反应液比例,控制反应液...
刘志刚孙铁囤安静汪建强苦史伟徐秀琴崔容强
文献传递
背腐蚀在晶体硅太阳电池生产中的应用被引量:3
2006年
背腐蚀可以用来代替生产中通常使用的等离子刻蚀将扩散后正面和背面的p-n结分开。本文中背腐蚀使用了HF-HNO3体系,没有表面保护。用扫描电镜(SEM)观察了背腐蚀和等离子刻蚀后的表面形貌以及硅/铝界面情况,分析了背反射和内量子效应IQE。用背腐蚀代替等离子刻蚀后晶体硅太阳电池的ISC、VOC和电池效率都得到了提高。
苦史伟孙铁囤刘志刚汪建强安静叶庆好
关键词:SEM背反射
纳秒UV激光在薄膜太阳电池中膜面划线的研究
薄膜硅太阳电池单片内部通常是由许多小的子电池片串联构成,单片内部串联是通过划线步骤和膜层沉积步骤交替进行而得到。通常需要三个划线步骤:即所谓的P1、P2和P3划线来形成电池内部的串联结构,激光刻蚀则通常被用来完成划线工作...
苦史伟
关键词:紫外光薄膜太阳电池
文献传递
硅片在HF/HNO_3/H_2O体系中的腐蚀速度被引量:4
2008年
研究了硅片在富硝酸的HF/HNO_3/H_2O体系中的腐蚀规律。随着腐蚀反应的进行,反应分5个阶段,在开始的5min内硅片腐蚀量较大,然后反应速度经历了下降、上升、下降再迅速下降的过程,最终达到稳定阶段。另外,随着反应时间的延长,反应温度先上升到达最大值,然后逐渐下降,溶液中氟离子浓度不断减小,反应速度随时间的变化规律是腐蚀生成热、体系与外界热交换以及溶液中氟离子浓度共同作用的结果。
安静孙铁囤刘志刚汪建强苦史伟
关键词:温度
HF/HNO3/H2O体系中硅片的腐蚀过程
HF/HNO3/H2O体系在多晶硅太阳能电池制备中占有重要的地位.以前对于硅片在HF/HNO3/H2O体系中的反应已经做了大量的研究.本文测量了富硝酸体系中不同的时刻的腐蚀速度,腐蚀溶液的温度和溶液中的氟离子浓度,从而对...
安静孙铁囤刘志刚汪建强苦史伟
关键词:多晶硅太阳能电池
文献传递
共1页<1>
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