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刘洪刚
作品数:
184
被引量:12
H指数:2
供职机构:
桂林电子科技大学
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发文基金:
国家重点基础研究发展计划
国家自然科学基金
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相关领域:
电子电信
金属学及工艺
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合作作者
常虎东
桂林电子科技大学
孙兵
中国科学院微电子研究所
王盛凯
桂林电子科技大学
赵威
中国科学院微电子研究所
刘新宇
中国科学院微电子研究所
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半导体纳米结构和制造方法及其应用
本发明涉及一种半导体纳米结构和制造方法及其应用,属于半导体材料制备技术领域。所述半导体纳米结构包括单晶硅衬底、介质薄膜、第一缓冲层、半导体籽晶材料、第二缓冲层和半导体纳米功能区;所述介质薄膜形成于所述单晶硅衬底上;所述单...
刘洪刚
刘新宇
吴德馨
高K介质/InGaAs界面工程在金属氧化物半导体场效应晶体管中的应用
本文提出了一种新型InP 界面控制层技术来降低高K 介质/InGaAs MOS 结构的界面态密度。通过 系统地研究多种表面化学清洗和热处理工艺条件对MOS界面态的影响,采用新型InP 界面控制层的InGaAs MOS 结...
常虎东
孙兵
卢力
刘洪刚
关键词:
MOSFET
一种III-V族MOSFET器件的射频开关电路
本发明公开了一种III-V族MOSFET器件的射频开关电路,该射频开关电路包括一个由GaAs MOSFET构成的自偏置开关电路,该自偏置开关电路是射频信号通路,具有两个直流电压偏置端,每个直流电压偏置端均连接有一个静电保...
刘洪刚
杨靖治
常虎东
刘桂明
文献传递
半导体器件及其制作方法
本申请公开了一种半导体器件及其制作方法。该方法包括:在体半导体衬底上外延生长宽带隙III-V族化合物半导体层/窄带隙III-V族化合物半导体层/宽带隙III-V族化合物半导体层的叠层结构;在所述叠层结构上形成栅堆叠;在所...
朱慧珑
刘洪刚
骆志炯
梁擎擎
文献传递
一种超导纳米线结构及其制备方法
本发明公开了一种超导纳米线结构及其制备方法,其中,本发明利用自下而上的方式,采用侧墙技术,提供了一种超导纳米线结构的制备方法,包括:在衬底上沉积牺牲层,去除部分牺牲层,形成具有预设间距的多个剩余部分牺牲层;在每个剩余部分...
孙兵
刘建华
刘洪刚
常虎东
翟明龙
文献传递
硅基光电异质集成方法及硅基光电异质集成芯片
本发明公开了一种硅基光电异质集成方法及硅基光电异质集成芯片,属于光电异质集成技术领域。所述方法包括:在硅晶片上设置硅基无源光子器件作为光信息传输通道;在III-V族晶片中设置CMOS微电子集成电路;在III-V族晶片上通...
刘新宇
周静涛
申华军
张轩雄
刘洪刚
吴德馨
文献传递
一种外延结构及方法
本发明提供了一种外延结构及方法,包括:衬底;第一掩膜层,位于所述衬底的表面之上,所述第一掩膜层具有至少一个第一开口,以暴露所述衬底的表面;第二掩膜层,位于所述第一掩膜层之上,所述第二掩膜层具有位于第一开口之上且与第一开口...
邓震
王桂磊
杨涛
李俊峰
刘洪刚
赵超
文献传递
一种高迁移率衬底结构及其制备方法
本发明公开了一种高迁移率衬底结构及其制备方法,属于半导体集成技术领域。该衬底结构包括单晶硅衬底、缓冲层、势垒层、铟镓砷单晶层、阻挡层和锗单晶层。所述缓冲层置于所述单晶硅衬底之上,所述势垒层置于所述缓冲层之上,所述铟镓砷单...
孙兵
刘洪刚
硅基InGaAs沟道双栅COMS器件
本发明提供一种硅基InGaAs沟道双栅COMS器件。本发明采用介质键合方法实现硅基半导体材料与InGaAs沟道双栅CMOS器件的集成,以提高CMOS器件的异构集成度,且双栅结构能够实现器件的低功耗工作,且器件的阈值电压调...
常虎东
刘洪刚
夏庆贞
孙兵
王盛凯
一种LTE高效射频功率放大器
本实用新型公开了一种LTE高效射频功率放大器,包括输入网络、稳定网络、晶体管、偏置网络以及输出网络;所述输入网络包括采用共轭匹配方式连接的第三匹配电容C3和第三匹配电感L3;所述稳定网络包括串联连接的第一电阻R1、第五电...
刘洪刚
周佳辉
常虎东
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