戴丽丽
- 作品数：4 被引量：14H指数：2
- 供职机构：南昌大学材料科学与工程学院更多>>
- 发文基金：江西省自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信更多>>
- 多孔硅的后处理及其发光特性被引量：13
- 2006年
- 采用一种新颖而简便的方法,改善多孔硅的发光特性。该方法包括酸处理和阴极还原两步。实验证明通过对多孔硅进行酸处理,能有效提高多孔硅的发光强度;通过对多孔硅进行阴极还原处理,能明显改善多孔硅的发光稳定性,而且发光强度也得到了提高。综合酸处理和阴极还原两技术的特点,对所制备的多孔硅立即先进行酸处理,然后再对其进行阴极还原处理,结果表明该方法能较好地提高多孔硅的发光效率和发光稳定性。而且还对其发光机制进行了探讨。
- 王水凤姜乐戴丽丽元美玲唐小迅
- 关键词：多孔硅酸处理阴极还原
- 阴极还原处理对多孔硅发光性能的影响被引量：2
- 2007年
- 对经过阴极还原处理后的多孔硅样片进行了光致发光测试和稳定性测试。实验结果表明这种处理能明显改善多孔硅的发光稳定性,使其表面结构更加稳定。利用原子力显微镜对不同还原时间的多孔硅微结构及形貌进行了比较,在一定范围内随着还原时间的增长多孔硅表面粗糙度增大,PL谱增强。
- 王水凤戴丽丽元美玲
- 关键词：多孔硅阴极还原
- 多孔硅后处理发光性能的研究
- 多孔硅在全硅光电子集成有着潜在的应用前景，但是要将多孔硅投入实际使用，尚有许多工作要做，其中最重要的问题之一就是如何解决多孔硅发光的不稳定性。
本文研究了不同后处理对多孔硅发光稳定性的影响。采用电化学阳极腐蚀法...
- 戴丽丽
- 关键词：多孔硅阴极还原酸处理发光性能
- 文献传递
- HNO_3处理多孔硅高效发光的研究
- 2005年
- 在实验室条件下对P型单晶硅片进行阳极电化学腐蚀制成多孔硅(PorousSilicon)样片,同时用适当配比的HNO3对多孔硅进行处理。比较了HNO3作用前后样片的光致发光(PL)谱,结果发现用HNO3处理的多孔硅的发光效率有显著提高。用XPS和SEM对样片测试的结果表明:酸处理后样片表面形成Si—O结构,其表面平均孔径增大,而且分布更均匀。
- 王水凤姜乐戴丽丽王震东元美玲
- 关键词：多孔硅光致发光HNO3
