车兴森
- 作品数：2 被引量：2H指数：1
- 供职机构：西北工业大学更多>>
- 发文基金：中国航空科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术电气工程电子电信更多>>
- RIE对Ge衬底上制备亚波长结构形貌的影响被引量：1
- 2010年
- 利用反应离子刻蚀(RIE)技术在Ge衬底上制备宽波段亚波长结构,研究了不同SF6/O2比例条件下在不同刻蚀时间、压强和射频功率对结构形貌及刻蚀深度的影响,并用SEM对刻蚀图形的表面形貌进行了观察。结果表明,SF6易与衬底发生反应,生成挥发性产物,加速了刻蚀速度。O2的加入生成的钝化膜会增强各向异性刻蚀,减慢了刻蚀速度,对衬底有刻蚀保护作用。增加压强可以增大刻蚀深度,但增加射频功率,刻蚀深度先是增加,达到一定值后下降。选择合适的工艺参数可以获得较为理想的金字塔形结构。
- 郑倩刘正堂李阳平张淼车兴森
- 关键词：反应离子刻蚀亚波长结构挥发性产物钝化膜
- 叠层太阳能电池吸收层Ge1-xCx薄膜的制备与性能
- 随着化石能源的日益枯竭及环境污染的不断加重，太阳能作为清洁可再生能源，对其开发及利用受到极大的推崇。太阳能电池是利用太阳能的主要途径，其中，薄膜太阳能电池具有节省原材料、成本低廉等优点，得到了极大的发展。但目前仍未找到吸...
- 车兴森
- 关键词：光学性质电学性质磁控溅射第一性原理叠层太阳能电池
