2024年11月5日
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张进成
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982
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H指数:6
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西安电子科技大学
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郝跃
西安电子科技大学微电子学院宽禁...
许晟瑞
西安电子科技大学微电子学院宽禁...
张春福
西安电子科技大学微电子学院
张金风
西安电子科技大学微电子学院宽禁...
陈大正
西安电子科技大学
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2007
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一种基于PLC的金刚石生长流程控制方法及装置
本发明涉及一种基于PLC的金刚石生长流程控制方法及装置,该控制方法包括步骤:根据抽气流程启动信号、抽气系统中各元件的反馈信号和真空腔体反馈的真空计压力模拟量信号进行抽气流程控制,使真空腔体内的压力达到目标压力;根据工艺流...
张金风
苏凯
任泽阳
张进成
何琦
邢雨菲
郝跃
一种基于PLC的金刚石生长位置控制方法及装置
本发明涉及一种基于PLC的金刚石生长位置控制方法及装置,控制方法包括步骤:获取当前时刻金刚石生长时真空腔体的第一生长温度值和耔晶载物盘的第一生长阶段位置;基于预设的生长阶段位置和生长温度信息配方表,依据所述第一生长温度值...
任泽阳
杨士奇
张金风
张进成
苏凯
何琦
郝跃
文献传递
一种Si基GaN毫米波传输线结构及制备方法
本发明公开了一种Si基GaN毫米波传输线的结构及制备方法,该结构包括:Si衬底;AlN成核层,在所述Si衬底之上;III族氮化物过渡层,在所述AlN成核层之上;GaN缓冲层,在所述III族氮化物过渡层之上;金属地层,在该...
张进成
刘俊伟
刘志宏
郝璐
宋昆璐
周弘
赵胜雷
张苇杭
段小玲
郝跃
文献传递
高击穿电压的肖特基二极管及其制作方法
本发明公开了一种高击穿电压的肖特基二极管,主要解决现有肖特基二极管器件击穿电压过低无法广泛应用在高压高功率器件中的问题。其包括:欧姆接触金属Au层、欧姆接触金属Ti层、高掺杂n型Ga<Sub>2</Sub>O<Sub>3...
冯倩
张涛
张进成
周弘
张春福
胡壮壮
封兆青
蔡云匆
文献传递
基于质子辐照处理的金刚石基InAlN/GaN高电子迁移率晶体管及制备方法
本发明公开了一种基于金刚石衬底的InAlN/GaN高电子迁移率晶体管及制备方法,主要解决现有同类器件界面结合强度差、界面热阻高、工艺流程复杂的问题。其自下而上包括:金刚石衬底(1)、GaN沟道层(2)和InAlN势垒层(...
许晟瑞
许文强
贠博祥
张金风
彭利萍
张雅超
周弘
张进成
郝跃
文献传递
基于r面Al<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>衬底上非极性a面GaN薄膜的MOCVD生长方法
本发明公开了一种基于r面Al<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>衬底的非极性a面GaN薄膜的生长方法,主要解决常规非极性材料生长中材料质量、表面形貌较差的问题。其生长步骤是:(1)将r面Al<Sub>2</...
许晟瑞
郝跃
周小伟
张进成
史林玉
陈珂
杨传凯
欧新秀
文献传递
一种超声波辅助石墨烯去胶的方法
本发明公开了一种超声波辅助石墨烯去胶的方法,将化学气相沉积方法生长在铜箔上的石墨烯用PMMA进行甩胶、烘干;用FeCl<Sub>3</Sub>溶液腐蚀下方铜箔;将PMMA定型的石墨烯转移至Si-SiO<Sub>2</Su...
韩砀
王东
宁静
闫景东
柴正
张进成
郝跃
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源场板高电子迁移率晶体管
本发明公开了一种源场板高电子迁移率晶体管,该器件自下而上包括衬底(1)、过渡层(2)、势垒层(3)、源极(4)、漏极(5)、栅极(6)、钝化层(7)、保护层(10)和源场板(8),该源场板(8)与源极(4)电气连接,其中...
郝跃
过润秋
毛维
张进成
马晓华
杨翠
王冲
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基于m面GaN上的极性GaN纳米线材料及其制作方法
本发明公开了一种基于m面GaN上的极性GaN纳米线材料及其制作方法,主要解决常规极性GaN纳米线生长中工艺复杂、生长温度高、纳米线长度短的问题。其生长步骤是:(1)在m面GaN衬底上蒸发一层1‑20nm金属Ti;(2)将...
许晟瑞
姜腾
郝跃
张进成
张春福
林志宇
陆小力
倪洋
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一种单片集成的全GaN共源共栅场效应晶体管及其制备方法
本申请实施例涉及半导体器件技术领域,特别涉及一种单片集成的全GaN共源共栅场效应晶体管及其制备方法,该晶体管包括:衬底、成核层、缓冲层、沟道层和势垒层;势垒层包括第一区和第二区;第一区上开设贯穿势垒层的栅下凹槽,栅下凹槽...
赵胜雷
于恒懿
张进成
宋秀峰
张嘎
孙雪晶
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