徐启远
- 作品数：12 被引量：24H指数：3
- 供职机构：清华大学研究院更多>>
- 发文基金：中国航空科学基金中国博士后科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信理学电气工程动力工程及工程热物理更多>>
- 一种具有抗反射表面的ZnS红外光学窗口及其制备方法
- 本发明公开了一种具有抗反射表面的ZnS红外光学窗口及其制备方法。所述的ZnS红外光学窗口的抗反射表面是由ZnS衬底上柱状或孔洞面形的二维亚波长结构单元通过周期性排列而构成的二维亚波长结构表面。制备时，先通过光刻技术把图形...
- 李阳平刘正堂徐启远武倩
- 文献传递
- ZnS衬底表面亚波长增透结构的设计及制备被引量：7
- 2011年
- ZnS是长波红外窗口优选材料之一,而其表面反射率较高;为了减小表面反射,利用耦合波理论,对ZnS衬底表面的亚波长结构参数进行优化设计,得到了具有良好增透效果的最佳亚波长结构参数;并利用掩膜光刻、反应离子刻蚀技术在ZnS衬底表面制备出在8—12μm波段范围内有明显增透效果的二维亚波长结构,这为ZnS衬底的增透提供了一种新的方法.
- 徐启远刘正堂李阳平武倩张淼
- 关键词：耦合波理论反应离子刻蚀硫化锌
- 锂离子电容器集流体用穿孔箔的研究进展被引量：7
- 2013年
- 集流体用穿孔箔是锂离子电容器的重要组成部分,不仅为锂离子电容器电极预掺锂提供通道,使锂离子迅速、均匀地掺杂到整个电极中,而且还承载电极活性材料,并将产生的电流汇集起来。系统地介绍了穿孔箔的主要结构参数(孔径、孔隙率)对锂离子电容器电化学性能的影响规律及其机理,并综述了锂离子电容器集流体用穿孔箔的制备方法,最后展望了穿孔箔的发展趋势。
- 徐启远徐永进朱永法姜冬冬
- 关键词：集流体
- 反应离子刻蚀法制备石英纳米压印模板的工艺研究被引量：3
- 2012年
- 为了使用紫外纳米压印法制备出亚波长结构,研究了在石英衬底上采用光刻和反应离子刻蚀技术制备出紫外纳米压印模板,以及模板制备过程中工艺参数对光刻胶和刻蚀速率的影响。利用激光共聚焦显微镜(LSCM)及原子力显微镜(AFM)对光刻和刻蚀图形的表面形貌进行了观察,获得了工艺参数对光刻胶掩膜图形和刻蚀图形的影响规律;在最优工艺参数条件下,所制紫外纳米压印模板整齐、规则,并利用紫外可见近红外光谱仪对其紫外透过率进行了表征,反应离子刻蚀后石英模板的透过率在365 nm处仍大于90%。
- 张少峰刘正堂李阳平陈海波徐启远
- 关键词：光刻反应离子刻蚀刻蚀速率亚波长结构紫外纳米压印
- ZnS衬底上二维亚波长结构抗反射表面的制备及性能研究被引量：2
- 2011年
- 采用接触式紫外光刻和反应离子刻蚀工艺在ZnS衬底上制备二维亚波长结构抗反射表面。在优化的光刻工艺下,以CH4、H2及Ar的混合气体为刻蚀剂,研究了刻蚀工艺对刻蚀速率和刻蚀形貌的影响。结果表明,刻蚀速率随着射频功率的增大线性增大,随着工作压强的增加先增大后减小,随着CH4含量的增大先增大后降低。功率过大会导致刻蚀产物发生二次沉积,CH4流量过高会导致聚合物的生成加剧,这些都会影响刻蚀形貌。最后在优化的刻蚀工艺下制备出了8～12μm波段具有较好的宽波段增透效果的二维亚波长结构。
- 武倩刘正堂李阳平徐启远
- 关键词：抗反射反应离子刻蚀
- 锗衬底红外抗反射亚波长结构的研究被引量：5
- 2010年
- 为了减小锗表面的反射,利用模式理论对锗衬底正方柱形亚波长结构的衍射特性进行了研究。结果发现,当周期较小时,占空比大于0.78对透射率的影响比较明显;周期大于0.25λ,零级透射率随周期的增大急剧下降,而总透射率随周期的增大变化不大;周期较小透射率随结构高度的变化呈余弦周期性,周期增大透射率随结构高度的变化呈余弦赝周期性,并且周期越大余弦赝周期性越明显;此外,周期较小时,可以实现大角度范围内的高的透射率,周期较大时,可以制备为窄带滤波器。
- 徐启远刘正堂李阳平张淼
- 关键词：光学材料
- 集流体用穿孔箔及其制作方法
- 本发明涉及一种集流体用穿孔箔的制作方法，通过先采用印刷技术把图形印刷在集流体用金属箔表面制作掩模，然后采用湿法刻蚀技术对其进行刻蚀制作穿孔箔。该制作方法简单，生产成本低，适用于商业化批量生产。所制作的穿孔箔不仅可用于锂离...
- 徐启远姜冬冬赵祖珍徐永进朱永法
- 文献传递
- 集流体用穿孔箔横向等效弹性模量的研究
- 2014年
- 为揭示穿孔箔横向等效弹性模量与穿孔箔结构参数(孔隙率、孔形状、孔分布)之间的内在联系,根据均匀化理论,采用有限元分析软件ANSYS对穿孔箔的单位胞元进行模拟与分析,结果发现穿孔箔的横向等效弹性模量主要是由孔隙率决定,孔隙率越多,横向等效弹性模量越小;孔形状、孔分布对横向等效弹性模量也有一定的影响,孔隙率越多,影响越明显。减少孔的横向截面积,有利于穿孔箔横向等效模量的增加。最后通过实验对模拟结果进行验证,结果表明有限元法模拟结果存在一定的误差。
- 徐启远徐永进朱永法姜冬冬
- 关键词：有限元法等效弹性模量孔隙率
- 集流体用穿孔箔及其制作方法
- 本发明涉及一种集流体用穿孔箔的制作方法，通过先采用印刷技术把图形印刷在集流体用金属箔表面制作掩模，然后采用湿法刻蚀技术对其进行刻蚀制作穿孔箔。该制作方法简单，生产成本低，适用于商业化批量生产。所制作的穿孔箔不仅可用于锂离...
- 徐启远姜冬冬赵祖珍徐永进朱永法
- 文献传递
- 锗表面二维亚波长结构的反应离子刻蚀制备被引量：1
- 2012年
- 为了获得具有金字塔结构的二维亚波长结构表面,提高其高宽比,用掩模曝光光刻及反应离子刻蚀技术,以SF6和O2为反应气体,在Ge衬底上制备了二维亚波长结构.用扫描电镜对刻蚀图形的形貌进行了观察,研究了功率、气压、气体流量及掩模图形对刻蚀图形的影响.结果表明:刻蚀图形腰部被优先刻蚀,形成凹陷的侧壁轮廓;O2流量增大有利于在侧壁形成保护层,从而减小腰部刻蚀、增大顶部及根部刻蚀;功率及气压过大或过小均会使侧壁刻蚀较大;方形图案比圆形图案掩模更有利于刻蚀出深度较大的亚波长结构.
- 李阳平陈海波刘正堂武倩郑倩张淼徐启远
- 关键词：锗光刻反应离子刻蚀亚波长结构掩模
