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魏文浩

作品数:3 被引量:21H指数:2
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所更多>>
发文基金:国家中长期科技发展规划重大专项更多>>
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领域

  • 10个电子电信
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主题

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  • 9个CMP
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  • 8个碱性抛光液
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  • 3个低K介质
  • 3个低K介质材料

机构

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  • 1个中国电子科技...
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资助

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传媒

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  • 2个学园
  • 2个课程教育研究

地区

  • 9个天津市
  • 1个河北省
10 条 记 录,以下是 1-10
刘玉岭
供职机构:河北工业大学
研究主题:化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王辰伟
供职机构:河北工业大学
研究主题:CMP 阻挡层 抛光液 碱性抛光液 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郑伟艳
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题:CMP 铜布线 碱性抛光液 化学机械平坦化 碱性
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
尹康达
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题:碱性抛光液 CMP 化学机械平坦化 选择性 碱性
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
曹冠龙
供职机构:河北工业大学
研究主题:丙酮 气敏传感器 气敏元件 退火温度 气敏
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王娟
供职机构:河北工业大学
研究主题:化学机械抛光 CMP 硅溶胶 抛光液 超大规模集成电路
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
夏显召
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题:CMP 化学机械抛光 混合磨料 LED 蓝宝石衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
串利伟
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题:化学机械平坦化 铜布线 CMP 碱性 速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
岳红维
供职机构:中国电子科技集团第五十四研究所
研究主题:化学机械平坦化 CMP 铜布线 铜 测试仪器
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
牛新环
供职机构:河北工业大学
研究主题:化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 碱性抛光液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
共1页<1>
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