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索开南

作品数：45 被引量：47H指数：2
供职机构：中国电子科技集团公司更多>>
发文基金：河北省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术电气工程金属学及工艺更多>>

合作作者

领域

  • 33个电子电信
  • 19个理学
  • 11个电气工程
  • 10个一般工业技术
  • 9个金属学及工艺
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主题

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  • 20个硅
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  • 11个晶向
  • 10个少子寿命
  • 9个等径
  • 9个碳化硅

机构

  • 16个中国电子科技...
  • 10个中国电子科技...
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  • 1个河北工学院
  • 1个清华大学
  • 1个天津工业大学
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  • 1个中国人民解放...
  • 1个信息产业部
  • 1个中华人民共和...
  • 1个中国电子科技...
  • 1个专用集成电路...
  • 1个中国电子科技...
  • 1个天津慧微电子...

资助

  • 11个国家自然科学...
  • 10个河北省自然科...
  • 6个天津市自然科...
  • 3个国家部委资助...
  • 3个国家教育部博...
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  • 1个国家科技支撑...
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传媒

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  • 14个微纳电子技术
  • 10个人工晶体学报
  • 9个天津科技
  • 8个河北工业大学...
  • 8个第十三届全国...
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  • 6个材料导报
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  • 5个第十四届全国...
  • 4个功能材料
  • 4个半导体杂志
  • 4个第十五届全国...

地区

  • 22个天津市
  • 9个北京市
  • 2个河北省
共 33 条 记 录，以下是 1-10
庞炳远
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：区熔 硅单晶 区熔硅单晶 硅单晶生长 硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨洪星
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：单晶片 锗 抛光片 晶片 表面粗糙度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张殿朝
供职机构：天津工业大学
研究主题：区熔 少子寿命 硅单晶 区熔硅单晶 数值模拟
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张伟才
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：硅单晶 单晶片 锗 晶片 硅片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
闫萍
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：区熔 硅单晶 区熔硅单晶 高阻 少子寿命
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨静
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：晶片 单晶片 损伤层 锗 硅单晶抛光片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
闫萍
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：加热线圈 硅单晶生长 单晶生长 少子寿命 硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张维连
供职机构：河北工业大学材料科学与工程学院
研究主题：CZSI 掺锗 直拉硅 退火 锗
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
董军恒
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：电阻率 均匀性 区熔 少子寿命 FZ
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘燕
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅 电阻率 区熔 少子寿命 FZ
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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