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王文林

作品数：12 被引量：8H指数：2
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
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机构

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地区

  • 10个天津市
  • 1个山东省
共 11 条 记 录，以下是 1-10
闫锋
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：Y 磁控溅射 射频磁控反应溅射 压电陶瓷 射频磁控溅射
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郇正利
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：压电陶瓷 压电性能 压电陶瓷材料 居里温度 激光陀螺
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
薛兵
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：过渡区 硅外延片 均匀性 硅外延层 硅外延
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
高航
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅外延片 硅外延 吹扫 P型 变流量
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李明达
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：均匀性 硅外延 硅外延片 硅外延层 过渡区
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈涛
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅外延片 均匀性 电阻率 过渡区 势垒电容
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王春明
供职机构：山东大学
研究主题：二氧化锡 铋层状结构 电学非线性 压敏材料 压电陶瓷
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李杨
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅外延片 PIN光电探测器 外延片 吹扫 P型
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王东兴
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：FZ 硅 加热线圈 炉内 电磁场
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李扬
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：VDMOS器件 VDMOS 过渡区 硅外延片 外延层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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