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霍同林

作品数:71 被引量:187H指数:8
供职机构:中国科学技术大学核科学技术学院国家同步辐射实验室更多>>
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相关领域:机械工程理学一般工业技术电子电信更多>>

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周洪军
供职机构:中国科学技术大学
研究主题:多层膜 真空紫外 光束线 软X射线 离子束刻蚀
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
洪义麟
供职机构:中国科学技术大学
研究主题:离子束刻蚀 光栅 全息光刻 衍射光栅 软X射线
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
徐向东
供职机构:中国科学技术大学
研究主题:离子束刻蚀 光栅 软X射线 衍射光栅 全息光刻
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
付绍军
供职机构:中国科学技术大学
研究主题:光栅 离子束刻蚀 软X射线 衍射效率 刻蚀
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陶晓明
供职机构:中国科学技术大学
研究主题:离子束刻蚀 软X射线 光刻掩模 全息光刻 光刻胶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郑津津
供职机构:中国科学技术大学工程科学学院精密机械与精密仪器系
研究主题:接近式光刻 高次谐波 英文 曲面重构 三维重建
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
朱京涛
供职机构:同济大学
研究主题:多层膜 磁控溅射 极紫外 反射率 周期多层膜
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
钟鹏飞
供职机构:中国科学技术大学工程科学学院精密机械与精密仪器系
研究主题:光学元件 英文 高次 臭氧 氧原子
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
傅绍军
供职机构:中国科学技术大学核科学技术学院国家同步辐射实验室
研究主题:离子束刻蚀 软X射线 全息光刻 衍射光栅 光刻胶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王风丽
供职机构:同济大学
研究主题:多层膜 磁控溅射 极紫外 软X射线 X射线
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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