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场发射结构的有限元模拟被引量：10: 2003年; 采用ANSYS有限元计算程序 ,对场致发射体进行模拟计算 ,初步研究了发射体的几何形状尺寸与其发射特性之间的联系。通过对不同几何尺寸发射体的计算结果的分析 ,认为发射体的尖端曲率半径及栅极的开口直径是影响发射体发射特性最主要的因素。依据合肥国家同步辐射实验室的LIGA深度光刻技术 ,给出可行的几何形状。; 尉伟王勇周洪军裴元吉蒋道满范乐; 关键词：场致发射有限元分析栅极

同步辐射活化氧清洗碳污染的研究被引量：6: 2010年; 利用自行设计的实验装置,研究了同步辐射光活化氧对光学元件表面碳污染的清洗作用。清洗前样品的碳层厚度为10.3 nm,同步辐射光被引入实验用真空室内,真空室内干燥氧气的压强维持在1.0 Pa,研究显示同步辐射活化氧能有效地清除硅片表面的石墨型碳层。通过测试清洗前后碳膜的反射率和使用IMD软件对清洗后硅片反射率的拟合,可得碳层的去除率为1.75 nm/h。; 周洪军钟鹏飞霍同林蒋新亭郑津津

大面积10000线/毫米软X射线金属型透射光栅的设计、制作与检测被引量：5: 2008年; 基于严格的矢量耦合波理论,优化设计了用于13.4 nm软X射线干涉光刻的透射型双光栅掩模版.采用电子束光刻技术,在国内首次成功制作了周期为100 nm的大面积金属型透射光栅.光栅面积为1.5 mm×1.5 mm,Cr浮雕厚度为50 nm,Gap/period为0.6,衬底Si3N4厚度为100 nm.此光栅将用于上海光源软X射线干涉光刻实验站.利用其1级衍射光和2级衍射光将可以经济高效地制作周期为50和25 nm的大面积周期结构.最后,测量了该光栅对波长为13.4 nm同步辐射光的衍射光强度,并且推算得出该光栅的1级和2级衍射效率分别为4.41%和0.49%,与理论设计值比较符合.实验结果与理论模拟结果的对比表明该光栅侧壁陡直,Gap/period的控制也与设计值符合.; 朱伟忠吴衍青郭智朱效立马杰谢常青史沛熊周洪军霍同林邰仁忠徐洪杰; 关键词：衍射效率

同步辐射在计量学中的应用研究被引量：4: 2005年; 本文介绍了世界上利用同步辐射建立辐射计量标准的现状,对利用同步辐射建立真空紫外———软X射线波段的光源标准和探测器标准的原理方法进行了论述,并介绍了我们在这方面的工作和取得的阶段性成果。; 刘金元熊利民李平薛凤仪杨永刚李大欣陈赤崔明启赵屹东郑雷朱杰周洪军霍同林; 关键词：氘灯气体电离室真空紫外软X射线量子效率

同步辐射Laminar光栅的研制被引量：10: 2001年; 采用全息离子束刻蚀和反应离子刻蚀相结合的新工艺 ,在熔石英基片上成功地刻蚀出 2 0 0l/mm、线空比 4:6、槽深 70nm、刻划面积 60× 2 0mm2 的浅槽矩形Laminar光栅。对改进光栅线条粗糙度和线空比的方法进行了系统的研究。这一新工艺相对简单。; 徐向东洪义麟霍同林周洪军陶晓明傅绍军; 关键词：全息光刻离子束刻蚀反应离子刻蚀

光谱辐射标准和计量线站高次谐波抑制研究和关键部件研制: 随着航空、航天、军工、真空紫外光刻、微细加工和大规模集成电路等领域的快速发展,软X射线和极紫外光谱的绝对标准计量变得越来越重要。利用同步辐射光源光谱宽广连续的特点进行极紫外光辐射计量标准的研究和建立,在当前也是国际上研究...; 周洪军

基于复合模型的软组织变形模拟算法: 2021年; 为满足虚拟手术中软组织变形的精确性和实时性要求,提出一种基于复合模型的软组织变形模拟算法。该复合变形模型包括复合网格的建立,复合网格中粗糙体网格应用有限元模型,精细表面网格应用基于位置动力学模型,通过变形计算流程实现变形模拟。复合模型与传统的有限元模型和基于位置的动力学模型相比,变形的精确性和实时性取得了更好的平衡。通过变形实例,表明复合模型对于实例模型也具有很好的展示效果。; 谭时杰郑津津周洪军; 关键词：有限元模型

几种高反膜设计新方法被引量：2: 2008年; 现代科技的发展对增反膜提出的要求越来越高，具体表现在两个方面：一是要求在现有基础上进一步提高反射率，拓宽高反膜带宽，二是将高反膜的波长向短波方向延伸至真空紫外-x射线。本文总结了近年来出现的一些思路独特的增反膜设计新方法，包括Needle设计法、Staggered broad-band reflecting muhilayers法、Sub-quarterwave multilayers法、Layered synthetic microstructure／quasi-periodic multilayers法、Layer by layer法、带阻挡层的Layer by layer法及Wide range multilayer设计法。给出了这些设计方法的思路，以真空紫外-X射线反射膜为侧重点。对增反膜设计、制作过程中尚存的一些重大问题也进行了阐述。; 干蜀毅刘正坤徐向东洪义麟刘颍周洪军霍同林付绍军; 关键词：高反膜膜系设计真空紫外 X射线

硅基氧化钆薄膜的生长及结构(英文)被引量：1: 2011年; 采用脉冲激光沉积方法(PLD)在不同温度的Si(100)衬底上制备了Gd2O3栅介质薄膜,利用X射线衍射、X射线反射率以及光电子能谱等方法对它的结构、组成以及价带偏移等进行了研究.结果表明:衬底温度为300℃时,Gd2O3薄膜呈非晶态;当衬底温度为650℃时,形成单斜相的Gd2O3薄膜.XPS和XRR结果确定其界面主要是由于界面反应形成的钆硅酸盐.通过XPS分析得到Gd2O3与Si之间的价带偏移为(-2.28±0.1)eV.; 李亭亭戚泽明程学瑞张文华张国斌周洪军潘国强; 关键词：高介电常数

不同材料滤片对13～43nm高次谐波的抑制(英文)被引量：3: 2007年; 国家同步辐射实验室光谱辐射标准和计量光束线( U27)的SGM分支是专门为光学元件性能测试和探测器定标而建造的。为了能够精确测量光学元件在极紫外和软X射线波段的性能,必须充分抑制高次谐波提高光谱纯度。对于已经建成的光束线,要改变光学设计和现有结构来抑制高次谐波是困难的,最简单且有效的方法是用不同材料的滤片来抑制不同波段的高次谐波。为了研究高次谐波的抑制效果,可将840 l/ mm透射光栅放在U27光束线SGM分支的出射狭缝后面色散出射光,用探测器做角度扫描记录下信号强度曲线,然后分析得到高次谐波的含量和分布。本文分别研究了不同厚度的Al(200、400和600 nm)、Si3N4/ Mo/Si , Si3N4/ Mo/Si/ Mo/Si多层膜滤片(100/50/200 nm, 100/50/150/150/250 nm)和Al/ Mg/Al滤片对13 ～43 nm光谱高次谐波的抑制效果。研究结果显示,400 nm厚的Al滤片适合于17～33 nm光谱高次谐波的抑制,在保证探测器信号强度的条件下,高次谐波信号强度占探测器信号强度的比例<2 %,经探测器量子效率修正后,高次谐波比例<0 .6 %。Si3N4/ Mo/Si/ Mo/Si多层膜滤片可以有效地抑制13 ～19 nm的高次谐波,Al/ Mg/Al滤片对30 ～43 nm的高次谐波有很好的抑制作用。这一结果为光学元件的透射率、反射率和探测器精确定标奠定了基础。; 周洪军钟鹏飞霍同林郑津津张国斌戚泽明

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周洪军

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