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杨洪星

作品数：100 被引量：101H指数：6
供职机构：中国电子科技集团公司更多>>
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赵权
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：单晶片 锗 锗单晶 晶片 抛光片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨静
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：晶片 锗 单晶片 削片 损伤层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
韩焕鹏
供职机构：中国电子科技集团公司
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张伟才
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：硅单晶 锗 单晶片 晶片 硅片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵权
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：抛光片 锗 单晶片 表面粗糙度 清洗技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘春香
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：单晶片 抛光片 抛光液 抛光 砷化镓
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
索开南
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：区熔 少子寿命 硅 区熔硅单晶 SI单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
庞炳远
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：区熔 硅单晶 区熔硅单晶 硅单晶生长 硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘春香
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 单晶片 粗糙度 超薄 清洗技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张伟才
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 抛光片 化学机械抛光 机械强度 IPA
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