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严红

作品数:2 被引量:6H指数:1
供职机构:武汉数字工程研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:化学工程更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇化学工程

主题

  • 2篇等离子体
  • 1篇气相沉积
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米AL2O...
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇ZNO
  • 1篇CVD
  • 1篇MOCVD
  • 1篇MOCVD法
  • 1篇ZNO薄膜

机构

  • 2篇武汉科技大学
  • 2篇武汉数字工程...

作者

  • 2篇陈京会
  • 2篇郑鹏
  • 2篇庞庆
  • 2篇严红
  • 2篇韩世忠
  • 2篇何林

传媒

  • 2篇武汉科技大学...

年份

  • 2篇2008
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
等离子体辅助化学气相沉积法生长ZnO薄膜的研究
2008年
讨论了在不同基板温度下用等离子体辅助化学气相沉积法生长ZnO薄膜,用X射线衍射(XRD)分析仪、反射式高能电子衍射(RHEED)仪及X射线光电子能谱(XPS)分析ZnO薄膜的特征。分析结果显示,在基板温度为300℃,二乙基锌(DEZ)流量为50 mL/min条件下可得到优取向高晶化的ZnO薄膜。光学性能分析表明,ZnO薄膜是透明的,在可视区峰值透光率高达85%。
韩世忠庞庆严红陈京会何林郑鹏
关键词:ZNO等离子体
等离子体MOCVD法制备纳米Al2O3粉末及其表征被引量:6
2008年
讨论等离子体有机金属化学气相沉积(MOCVD)法制备纳米Al2O3粉末,同时研究了反应温度、压力、TMA浓度和反应气体(CO2和O2)等制备条件对Al2O3结构性能的影响。试验结果表明,压力增加有利于纳米Al2O3制备。在压力为5.3 kPa、温度为1 000℃下,采用MOCVD法可以制备平均直径为2.5 nm的Al2O3粉末。而压力从5.3 kPa增加到100 kPa时,Al2O3颗粒平均直径从2.5 nm增加到10 nm。温度升高可以促使纳米Al2O3合成。通过透射电镜(TEM)观测到Al2O3粉末为球形。X射线衍射分析(XRD)表明,在温度高于400℃时,Al2O3粉末为典型的-γAl2O3结晶态。
韩世忠庞庆严红陈京会何林郑鹏
关键词:纳米AL2O3MOCVD等离子体
共1页<1>
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