陈京会
- 作品数：3 被引量：7H指数：1
- 供职机构：武汉数字工程研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：化学工程自动化与计算机技术更多>>
- 等离子体辅助化学气相沉积法生长ZnO薄膜的研究
- 2008年
- 讨论了在不同基板温度下用等离子体辅助化学气相沉积法生长ZnO薄膜,用X射线衍射(XRD)分析仪、反射式高能电子衍射(RHEED)仪及X射线光电子能谱(XPS)分析ZnO薄膜的特征。分析结果显示,在基板温度为300℃,二乙基锌(DEZ)流量为50 mL/min条件下可得到优取向高晶化的ZnO薄膜。光学性能分析表明,ZnO薄膜是透明的,在可视区峰值透光率高达85%。
- 韩世忠庞庆严红陈京会何林郑鹏
- 关键词：ZNO等离子体
- 等离子体MOCVD法制备纳米Al2O3粉末及其表征被引量：6
- 2008年
- 讨论等离子体有机金属化学气相沉积(MOCVD)法制备纳米Al2O3粉末,同时研究了反应温度、压力、TMA浓度和反应气体(CO2和O2)等制备条件对Al2O3结构性能的影响。试验结果表明,压力增加有利于纳米Al2O3制备。在压力为5.3 kPa、温度为1 000℃下,采用MOCVD法可以制备平均直径为2.5 nm的Al2O3粉末。而压力从5.3 kPa增加到100 kPa时,Al2O3颗粒平均直径从2.5 nm增加到10 nm。温度升高可以促使纳米Al2O3合成。通过透射电镜(TEM)观测到Al2O3粉末为球形。X射线衍射分析(XRD)表明,在温度高于400℃时,Al2O3粉末为典型的-γAl2O3结晶态。
- 韩世忠庞庆严红陈京会何林郑鹏
- 关键词：纳米AL2O3MOCVD等离子体
- 舰载电子设备结构总体设计被引量：1
- 2006年
- 提出了结构总体设计的基本概念,阐述了结构总体设计框架,详细分析了结构总体设计的主要内容和计算机技术的发展对结构总体设计的重要影响。分析表明结构总体设计在当代舰载电子设备结构设计中起到至关重要的作用。
- 陈京会
- 关键词：电子设备结构总体设计概念设计环境适应性
