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三氧化钨薄膜的红外发射率调制技术被引量：4: 2011年; 研究了利用载流子对材料表面的红外发射率进行调制的方法。根据电磁波理论,讨论了物体表面的发射率与折射率的关系,折射率大的物体发射率低。物质的折射率与其中的载流子浓度有关,通过控制载流子的浓度可以对材料的发射率进行调制。以磁控溅射方法在ITO玻璃上制备了氧化钨薄膜。利用电化学方法对三氧化钨薄膜进行了H+离子和电子的注入和抽取,此薄膜中载流子的浓度发生了变化。在着色态,三氧化钨薄膜具有较高的光谱反射率;在褪色态,三氧化钨薄膜具有较低的光谱反射率。结果表明,通过控制材料中载流子的浓度可以对材料的红外发射率进行调制。; 路远冯万鼎乔亚; 关键词：红外发射率折射率调制

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冯万鼎