张铁军
- 作品数：15 被引量：4H指数：2
- 供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
- 发文基金：北京市自然科学基金中国科学院“百人计划”国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信机械工程更多>>
- 一种基于三层结构的可调谐人工电磁材料及其制作方法
- 本发明涉及一种基于三层结构的可调谐人工电磁材料及其制作方法，该人工电磁材料是由金属-掺杂介质-金属三层结构组成的微纳米图形结构，可用于红外、太赫兹波段。其制作方法包括：选择绝缘硅，利用沉积、粘结、干法刻蚀、湿法腐蚀、再沉...
- 邱传凯胡承刚岳衢张铁军李国俊罗先刚潘丽李飞
- 文献传递
- 一种用于薄膜太阳能电池的陷光结构及制作方法
- 本发明提供一种用于薄膜太阳能电池的陷光结构及制作方法，所述陷光结构由微透镜阵列(1)、微透镜阵列的基底(2)、带微孔阵列的反射膜层(4)以及反射镜(5)组成，反射膜层(4)上微孔阵列的位置与微透镜阵列(1)焦点的位置一一...
- 方亮张铁军杨欢邱传凯
- 文献传递
- 一种大行程结构的静电驱动MEMS变形镜
- 本发明公开了一种大行程结构的静电驱动MEMS变形镜，其中包括：镜面，为一矩形的平板镜面；上电极，为一矩形的平板上电极；梁，是含有四根矩形的柱体梁；两个锚点，分别固接于每根梁的两个端部，且两个锚点分别位于每根梁相互垂直的平...
- 邱传凯庄须叶王强汪为民张铁军熊伟罗吉张建飞姚军
- 文献传递
- 一种基于SOI和电铸技术的金属纳米线阵及其制备方法
- 本发明提供一种基于绝缘硅(SOI)和电铸技术的金属纳米线阵及其制备方法，该金属纳米线阵的各金属线之间由掺杂硅介质材料填充，其制备流程包括：选取SOI，并在其上下表面各沉积一层氮化硅薄膜；采用光刻及干法刻蚀，在SOI下底面...
- 潘丽岳衢胡承刚张铁军李飞罗先刚邱传凯周崇喜
- 文献传递
- 利用频率光梳实现太赫兹快速成像的太赫兹时域光谱系统
- 本发明公开了一种利用频率光梳实现太赫兹快速成像的太赫兹时域光谱系统，该系统利用周期结构的透射特性，把不同结构单元复合到同一区域内，得到透射峰叠加的透射谱，叠加后的透射谱将在频谱上形成频率光梳。成像光梳的透射特性与周期结构...
- 熊伟姚军张铁军汪为民
- 文献传递
- 一种大行程结构的静电驱动MEMS变形镜的制作方法
- 本发明公开了一种大行程结构的静电驱动MEMS变形镜的制作方法，基于硅表面加工工艺、电镀工艺、湿法腐蚀和化学抛光工艺，通过在硅基底上增加形成腔，并利用光刻胶或聚酰亚胺等作为牺牲层，利用电镀工艺制作变形镜的结构，采用化学抛光...
- 庄须叶邱传凯姚军汪为民王强张铁军罗吉张建飞熊伟
- 文献传递
- 一种基于SOI和电铸技术的金属纳米线阵及其制备方法
- 本发明提供一种基于绝缘硅(SOI)和电铸技术的金属纳米线阵及其制备方法，该金属纳米线阵的各金属线之间由掺杂硅介质材料填充，其制备流程包括：选取SOI，并在其上下表面各沉积一层氮化硅薄膜；采用光刻及干法刻蚀，在SOI下底面...
- 潘丽岳衢胡承刚张铁军李飞罗先刚邱传凯周崇喜
- 文献传递
- 基于聚酰亚胺基底的太赫兹滤波器被引量：2
- 2015年
- 超材料是通过人工方式做成的具有特殊电磁特性的亚波长周期性金属结构,通过合理的设计样品结构,可以实现自然界中传统材料无法实现的电磁现象。超材料可以广泛用于电磁隐身、完美吸收、负折射率等研究领域,近些年,随着太赫兹技术的发展,太赫兹超材料器件被广泛研究。由于硅(Si)对于太赫兹波的透过率较高,通常选取Si作为基底材料。但Si硬度较高、不易弯曲且易碎等缺点限制了THz超材料的应用。聚合物材料聚酰亚胺具有柔性,作为基底,克服了传统硅基底的缺点,透过率可以与Si匹敌,而且其表面光滑,适合传统光刻技术加工。对聚酰亚胺在太赫兹波段光学性质的测试结果表明,此种材料的折射率在1.9左右,透过率达到80%以上。设计了一种双开口谐振环结构,研究了其太赫兹波透射性质以及随太赫兹波的入射角度和样品曲率的变化规律,发现透射峰强度和峰位均不发生改变。此结果展示了将平面滤波延伸到曲面滤波领域的可能性,若将聚酰亚胺基底做薄,为今后太赫兹频段隐身衣的研究提供基础。将不同结构的两种样品叠加在一起制成宽谱滤波器,50%的带宽达到181GHz。此种宽带滤波器制作简单,滤波效果显著,为太赫兹波段宽带滤波器的制作提供一种新思路。
- 何君张铁军熊伟张波和挺沈京玲
- 关键词：太赫兹波开口谐振环聚酰亚胺宽带滤波器
- 利用频率光梳实现太赫兹快速成像的太赫兹时域光谱系统
- 本发明公开了一种利用频率光梳实现太赫兹快速成像的太赫兹时域光谱系统，该系统利用周期结构的透射特性，把不同结构单元复合到同一区域内，得到透射峰叠加的透射谱，叠加后的透射谱将在频谱上形成频率光梳。成像光梳的透射特性与周期结构...
- 熊伟姚军张铁军汪为民
- 文献传递
- 可变周期多光束干涉光刻的方法
- 本发明可变周期多光束干涉光刻的方法，包括激光器输出的激光经整形后由分光元件分为多束对称分布的发散光束；经准直透镜后多束发散光束被准直为多束平行于光轴的平行光束；通过连续变倍扩束镜调节各平行光束离光轴的间距；由聚焦透镜对各...
- 方亮岳衢邱传凯罗先刚张铁军
- 文献传递
