邱传凯
- 作品数：109 被引量：122H指数：7
- 供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家重点实验室开放基金国防科技技术预先研究基金更多>>
- 相关领域：电子电信机械工程理学自动化与计算机技术更多>>
- 人眼高阶像差矫正方法
- 人眼高阶像差矫正方法，其特征在于包括下列步骤：(1)采用人眼像差测量设备精确测量人眼的各阶像差，获取人眼像差数据；(2)根据人眼像差数据优化设计像差矫正函数；(3)根据设计的人眼像差矫正函数对光刻掩模进行设计，并根据设计...
- 董小春杜春雷邱传凯赵泽宇高洪涛饶学军张雨东
- 文献传递
- 基于静电平行板驱动器的MEMS变形镜特性分析被引量：1
- 2015年
- 静电平行板驱动器是基于静电驱动的MEMS变形镜的关键部件,其静态及动态性能对MEMS变形镜有重要影响。设计并利用表面硅工艺加工制作了三种基于不同弹性系数的静电平行板驱动器的MEMS变形镜,分别采用解析公式和有限元仿真方法分析了弹性系数对变形镜的三项性能参数即行程、吸合电压和固有频率的影响,并利用白光表面轮廓仪进行实验测试,验证了理论和仿真结果的有效性。实验结果表明三种变形镜中半圆环梁驱动器变形镜具有适中的吸合电压和较大的行程,最适合于自适应光学系统的应用需求。
- 汪为民王强邱传凯陈泽祥范斌
- 关键词：MEMS变形镜
- 一种静电排斥力驱动的MEMS变形镜的制作方法
- 本发明公开了一种静电排斥力驱动的MEMS变形镜的制作方法，主要包括在硅基底上进行多层薄膜沉积、干法和湿法刻蚀等工艺，其特征在于：引入两层氮化硅薄膜和底面刻蚀工艺。本发明的静电排斥力驱动的MEMS变形镜的制作工艺，不仅能够...
- 邱传凯胡放荣姚军
- 文献传递
- 基于负性光刻胶和掩膜移动曝光工艺的微透镜阵列制备方法
- 本发明提供一种基于负性光刻胶和掩膜移动曝光工艺的微透镜阵列制备方法，其主要工艺流程包括：选取基片，涂覆负性光刻胶，对基片先进行无掩膜曝光，再进行掩膜移动曝光、后烘和显影工艺获得微透镜阵列的光刻胶图形，最后采用干法刻蚀将光...
- 岳衢李国俊潘丽邱传凯周崇喜李飞
- 文献传递
- 一种提高分立式微变形镜填充因子的方法
- 本发明公开了一种提高分立式微变形镜填充因子的方法，包括一个微缩束镜阵列和一个分立式微变形镜。其特征在于微缩束镜阵列与分立式微变形镜具有相同的单元间距，入射光经过微缩束镜阵列之后被分割并缩束，形成一个光斑阵列，再入射到变形...
- 汪为民周崇喜李国俊王强邱传凯岳衢
- 文献传递
- 一种基于SOI和电铸技术的金属纳米线阵及其制备方法
- 本发明提供一种基于绝缘硅(SOI)和电铸技术的金属纳米线阵及其制备方法，该金属纳米线阵的各金属线之间由掺杂硅介质材料填充，其制备流程包括：选取SOI，并在其上下表面各沉积一层氮化硅薄膜；采用光刻及干法刻蚀，在SOI下底面...
- 潘丽岳衢胡承刚张铁军李飞罗先刚邱传凯周崇喜
- 文献传递
- 衍射光学元件在红外像传感器中的应用研究
- 本文针对焦平面红外探测器的结构特点,研究采用微光学阵列的方法,增加其填充因子,缩小探测器受光面积、减小暗电流、改善均匀性,从而提高其探测性能,以达到像传感器性能提高的目的.介绍了采用衍射光学元件优化红外成像系统设计,实现...
- 邱传凯杜春雷邓启凌潘丽
- 关键词：衍射光学元件微透镜列阵IRFPA红外探测器
- RIE精确传递微光学三维结构于红外材料的方法被引量：1
- 1999年
- 本文对红外光学材料锗的蚀刻性能、机制进行了深入的研究，在反应离子蚀刻（ＲＩＥ）实验基础上，建立了锗材料蚀刻性能与ＲＩＥ工艺参量的关系，经过大量的实验，找到了稳定蚀刻速率的方法和条件。
- 邱传凯杜春雷潘丽曾红军王永茹
- 关键词：反应离子蚀刻红外材料
- 一种静电驱动的F－P腔MEMS波长可调滤波器
- 本发明公开了一种静电驱动的F－P腔MEMS波长可调滤波器，包含一个F－P腔，其特征在于：在F－P腔的四周连有4个静电驱动器，4个静电驱动器的上极板分别通过4根连接杆与F－P腔的前腔面相连，4个静电驱动器的下极板与F－P腔...
- 姚军王大甲胡放荣邱传凯
- 文献传递
- 消色差谐衍射微透镜列阵的应用研究被引量：3
- 2000年
- 本文研究菲涅耳谐衍射透镜的特性和工作条件 ,分析二元谐衍射透镜的衍射效率及制作要求 ,设计并研制了用于萨克 -哈特曼波前传感器的双波长共焦谐衍射微透镜列阵 ,得到了良好的应用效果 .
- 杜春雷白临波邱传凯王永茹潘丽
- 关键词：衍射效率
