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田爱华

作品数:2 被引量:7H指数:2
供职机构:河北半导体研究所更多>>
发文基金:国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇4H-SIC
  • 1篇电流增益
  • 1篇电阻
  • 1篇增益
  • 1篇双极晶体管
  • 1篇碳化硅
  • 1篇欧姆接触
  • 1篇截止频率
  • 1篇晶体管
  • 1篇高频
  • 1篇比接触电阻
  • 1篇N型
  • 1篇4H-碳化硅

机构

  • 2篇河北半导体研...

作者

  • 2篇赵彤
  • 2篇田爱华
  • 1篇潘宏菽
  • 1篇李亮
  • 1篇陈昊
  • 1篇崔占东
  • 1篇霍玉柱
  • 1篇刘英坤

传媒

  • 2篇半导体技术

年份

  • 1篇2009
  • 1篇2007
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
高频4H-SiC双极晶体管的研制被引量:2
2009年
研制出国内第一个高频4H-SiC双极晶体管。该器件采用了双台面结构和叉指结构,室温下的最大直流电流增益(β)为3.25,集电结击穿电压BVCBO达200 V。器件的β随温度的升高而降低,具有负的温度系数,这种特性使该器件容易并联,避免出现热失控现象。器件的高频特性由矢量网络分析仪测量得到,截止频率fT为360 MHz、最高振荡频率fmax为160 MHz。
田爱华崔占东赵彤刘英坤
关键词:4H-碳化硅双极晶体管电流增益截止频率
n型4H-SiC同质外延层上欧姆接触的研究被引量:5
2007年
介绍了n+-SiC/Ti/Pt欧姆接触的制备方法及其接触特性,其中n+-SiC外延层是通过化学气相淀积的方法在偏离(0001)方向7.86°的4H-SiC衬底上进行同质外延生长所得。对于n+-SiC/Ti/Pt接触系统,通过合金实验得到最优的欧姆接触制备条件,得到最小的比接触电阻为2.59×10-6Ω.cm2,满足器件性能,为各种SiC器件的实现奠定了基础。同时,该接触系统还具有很好的高温稳定性,在100 h的400℃高温存储实验后,其比接触电阻基本稳定。
田爱华赵彤潘宏菽陈昊李亮霍玉柱
关键词:4H-SIC欧姆接触比接触电阻
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