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沈祥伟

作品数：1 被引量：2H指数：1
供职机构：西北工业大学材料学院更多>>
发文基金：中国航空科学基金更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇离子刻蚀
  • 1篇刻蚀
  • 1篇刻蚀速率
  • 1篇宽波段
  • 1篇红外
  • 1篇反应离子
  • 1篇反应离子刻蚀
  • 1篇锗
  • 1篇波段
  • 1篇衬底

机构

  • 1篇西北工业大学

作者

  • 1篇闫峰
  • 1篇刘正堂
  • 1篇李阳平
  • 1篇沈祥伟
  • 1篇卢红成

传媒

  • 1篇机械科学与技...

年份

  • 1篇2009
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
锗衬底上反应离子刻蚀制备宽波段红外增透结构的工艺及性能研究被引量：2
2009年
研究了利用反应离子刻蚀技术在Ge衬底上制备宽波段抗反射亚波长结构时工艺参数对刻蚀速率及刻蚀选择比的影响。利用场发射扫描电镜（SEM）及原子力显微镜（AFM）对刻蚀图形的表面形貌进行了观察。利用傅里叶变换红外光谱仪对其红外透过率进行了研究。结果表明：所制备亚波长结构整齐、规则；在8～12μm波段增透8％左右，起到良好的宽波段红外抗反射效果。
沈祥伟刘正堂卢红成李阳平闫峰
关键词：宽波段反应离子刻蚀刻蚀速率
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