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陈志刚
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1
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供职机构:
深圳大学光电工程学院光电子器件与系统教育部重点实验室
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发文基金:
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相关领域:
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合作作者
彭冬生
深圳大学光电工程学院光电子器件...
刘毅
深圳大学师范学院
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刘毅
1篇
彭冬生
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陈志刚
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电子器件
年份
1篇
2015
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不同Ⅴ/Ⅲ族元素比对m面GaN薄膜性能的影响
2015年
采用分子束外延(MBE)方法在蓝宝石衬底上外延生长m面Ga N薄膜。利用原子力显微镜(AFM)、扫描电子显微镜(SEM)分析薄膜表面形貌,发现Ⅴ/Ⅲ族元素比从1∶80降低到1∶90时,外延膜表面均方根粗糙度从13.08 nm降低到9.07nm。利用光谱型椭偏仪研究m面Ga N薄膜,得到了m面Ga N薄膜的厚度、折射率和消光系数。拟合结果显示,Ga N样品厚度和理论值一致,且Ⅴ/Ⅲ族元素比为1∶90时,所得外延膜折射率较低,透射率大。两种测试方法表明,Ⅴ/Ⅲ族元素比较小的样品晶体质量高。
谭聪聪
彭冬生
陈志刚
刘毅
冯哲川
关键词:
光学性能
分子束外延
表面形貌
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