费舜廷
- 作品数：9 被引量：2H指数：1
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- 电子束蚀刻聚酰亚胺制备微孔分离膜的研究被引量：2
- 2007年
- 以电子束蚀刻技术,结合微孔掩膜和溶液氧化腐蚀的方法,制备聚酰亚胺(Polyimide,PI)微孔分离膜。通过称重法,讨论了吸收剂量、腐蚀时间和腐蚀温度等因素对PI基膜蚀刻和腐蚀的影响,结果表明,随着吸收剂量、腐蚀温度和腐蚀时间的增加,PI基膜更容易被腐蚀;IR检测结果表明,辐照导致PI分子化学键断裂,分子量变小,是辐照PI腐蚀失重率增加的原因;试验对微孔铅和铁掩膜遮蔽的PI基膜进行电子束辐照,再用浓硫酸和重铬酸钾混合溶液腐蚀辐照PI基膜,得到具有规则且垂直孔道的聚酰亚胺微孔分离膜。
- 吴新锋李红斌郝旭峰周菲邓邦俊费舜廷周瑞敏
- 关键词：电子束辐照聚酰亚胺分离膜蚀刻
- 电子束辐照PET薄膜制备有序多孔阵列高分子模板
- 2007年
- 本文用掩膜工艺电子柬蚀刻技术产生具有潜影的聚酯(PET)薄膜,经强氧化液(浓硫酸与重铬酸钾的混合液)腐蚀,产生有序微米多孔阵列PET模板。讨论了辐照剂量、腐蚀时间以及腐蚀温度等因素对基膜蚀刻和腐蚀的影响。结果表明:随着辐照剂量、腐蚀温度和腐蚀时间的增加,PET基膜更易被腐蚀。IR、DSC测量结果表明:辐照导致化学键的断裂、非晶化转变,是导致辐照PET薄膜的腐蚀失重率增加的原因。用此方法制备了孔径大小一致的微米级有序多孔阵列PET模板。
- 郝旭峰周瑞敏吴新锋周菲邓邦俊费舜廷
- 关键词：PET掩膜
- 微孔阵列聚酯类模板的掩膜电子束辐照制备方法
- 本发明涉及一种微孔阵列聚酯类模板的掩膜电子束辐照制备方法，属辐射化学改性高分子材料工艺技术领域。本发明方法的主要特点是：首先选用金属膜为掩膜材料，用紫外光激光器在金属膜上打出微米级规整排列的小孔，形成微孔阵列结构的金属掩...
- 周瑞敏郝旭峰吴新锋周菲邓邦俊费舜廷王智涛
- 文献传递
- 电子束辐照改性的超高分子量聚乙烯板材的制备方法
- 本发明涉及一种电子束辐照改性的超高分子量聚乙烯(UHMWPE)板材的制备方法，属高分子聚合物板材制备及处理加工技术领域。本发明要点主要是在常温常压下采用常规通用的电子加速器产生的高能量电子束对超高分子量聚乙烯板材进行辐照...
- 周瑞敏张建强林香凤邓邦俊费舜廷
- 文献传递
- 一种制取可溶性膳食纤维的方法
- 本发明涉及一种制取膳食纤维的新方法，具体地说，涉及一种采用高能电子束辐照裂解的方法来降低短棉绒纤维素的聚合度以制取不同纤维素组分的膳食纤维。本发明属膳食纤维素制备工艺技术领域。本发明采用短棉绒为原料，经去除固体杂质后，用...
- 周瑞敏邓邦俊林香凤费舜廷张建强
- 文献传递
- 高透明P(St-co-MMA)树脂的辐照制备与交联改性
- 费舜廷
- 关键词：辐照交联
- 表面活性剂(PVA)浓度对电子束辐照制备纳米铜锡合金的影响
- 2009年
- 本文研究了聚乙烯醇(PVA)水溶液的浓度对电子束辐照制备纳米铜锡合金的影响。经X射线衍射(XRD)和透射电子显微镜(TEM)测试,产物为纯纳米铜锡合金。用紫外可见分光光度计(UV)和激光粒度衍射仪(LSPSDA)考察了表面活性剂浓度对纳米铜锡合金粒径分布影响。PVA浓度为0、8、16、24mg/mL制备的纳米铜锡合金的平均粒径,分别为172.1、16.4、14.1、6.4nm。
- 费舜廷周瑞敏邓邦俊林香凤张建强周菲
- 关键词：电子束辐照表面活性剂粒径分布
- 微孔阵列聚酯类模板的掩膜电子束辐照制备方法
- 本发明涉及一种微孔阵列聚酯类模板的掩膜电子束辐照制备方法，属辐射化学改性高分子材料工艺技术领域。本发明方法的主要特点是：首先选用金属膜为掩膜材料，用紫外光激光器在金属膜上打出微米级规整排列的小孔，形成微孔阵列结构的金属掩...
- 周瑞敏郝旭峰吴新锋周菲邓邦俊费舜廷王智涛
- 文献传递
- 电子束辐照PET薄膜制备有序多孔阵列高分子模板
- 用掩膜工艺电子束蚀刻技术产生具有潜影的聚酯(PET)薄膜,经强氧化液(浓硫酸与重铬酸钾的混台液)腐蚀,产生有序微米多孔阵列PBT模板。讨论了辐照剂量、腐蚀时间以及腐蚀温度等因素对基膜蚀刻和腐蚀的影响。结果表明：随着辐照剂...
- 郝旭峰周瑞敏吴新锋周菲邓邦俊费舜廷
