- 电子束蚀刻聚酰亚胺制备微孔分离膜的研究被引量：2
- 2007年
- 以电子束蚀刻技术,结合微孔掩膜和溶液氧化腐蚀的方法,制备聚酰亚胺(Polyimide,PI)微孔分离膜。通过称重法,讨论了吸收剂量、腐蚀时间和腐蚀温度等因素对PI基膜蚀刻和腐蚀的影响,结果表明,随着吸收剂量、腐蚀温度和腐蚀时间的增加,PI基膜更容易被腐蚀;IR检测结果表明,辐照导致PI分子化学键断裂,分子量变小,是辐照PI腐蚀失重率增加的原因;试验对微孔铅和铁掩膜遮蔽的PI基膜进行电子束辐照,再用浓硫酸和重铬酸钾混合溶液腐蚀辐照PI基膜,得到具有规则且垂直孔道的聚酰亚胺微孔分离膜。
- 吴新锋李红斌郝旭峰周菲邓邦俊费舜廷周瑞敏
- 关键词：电子束辐照聚酰亚胺分离膜蚀刻
- 聚酰亚胺类微孔分离膜的制备方法
- 本发明涉及一种用电子束辐照剂量聚酰亚胺类微孔分离膜的方法，属辐射化学及高分子薄膜加工处理技为领域。本发明方法以各种单体聚合而成的聚酰亚胺类薄膜为主要膜材料，在其上覆盖好具有微孔图案的金属模板，采用常规电子加速器所产生的高...
- 周瑞敏吴新锋郝旭峰周菲王智涛贵舜延邓邦俊
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- 微孔阵列聚酯类模板的掩膜电子束辐照制备方法
- 本发明涉及一种微孔阵列聚酯类模板的掩膜电子束辐照制备方法，属辐射化学改性高分子材料工艺技术领域。本发明方法的主要特点是：首先选用金属膜为掩膜材料，用紫外光激光器在金属膜上打出微米级规整排列的小孔，形成微孔阵列结构的金属掩...
- 周瑞敏郝旭峰吴新锋周菲邓邦俊费舜廷王智涛
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- 电子束辐照改性的超高分子量聚乙烯板材的制备方法
- 本发明涉及一种电子束辐照改性的超高分子量聚乙烯(UHMWPE)板材的制备方法，属高分子聚合物板材制备及处理加工技术领域。本发明要点主要是在常温常压下采用常规通用的电子加速器产生的高能量电子束对超高分子量聚乙烯板材进行辐照...
- 周瑞敏张建强林香凤邓邦俊费舜廷
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- 电子束辐照PET薄膜制备有序多孔阵列高分子模板
- 用掩膜工艺电子束蚀刻技术产生具有潜影的聚酯(PET)薄膜,经强氧化液(浓硫酸与重铬酸钾的混台液)腐蚀,产生有序微米多孔阵列PBT模板。讨论了辐照剂量、腐蚀时间以及腐蚀温度等因素对基膜蚀刻和腐蚀的影响。结果表明：随着辐照剂...
- 郝旭峰周瑞敏吴新锋周菲邓邦俊费舜廷
- 电子束辐照和压缩空气氧化两步法制备纳米氧化亚铜
- 本发明涉及电子束辐照和压缩空气氧化两步法制备纳米氧化亚铜。以硫酸铜为原料，用去离子水配制0.05mol/L硫酸铜，以聚乙二醇(PEG)作表面活性剂，用氨水和醋酸调节硫酸铜溶液的pH值至4.0，在常温常压下用电子加速器产生...
- 周瑞敏林香凤费舜庭邓邦俊张建强
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- 电子束辐照PET薄膜制备有序多孔阵列高分子模板
- 2007年
- 本文用掩膜工艺电子柬蚀刻技术产生具有潜影的聚酯(PET)薄膜,经强氧化液(浓硫酸与重铬酸钾的混合液)腐蚀,产生有序微米多孔阵列PET模板。讨论了辐照剂量、腐蚀时间以及腐蚀温度等因素对基膜蚀刻和腐蚀的影响。结果表明:随着辐照剂量、腐蚀温度和腐蚀时间的增加,PET基膜更易被腐蚀。IR、DSC测量结果表明:辐照导致化学键的断裂、非晶化转变,是导致辐照PET薄膜的腐蚀失重率增加的原因。用此方法制备了孔径大小一致的微米级有序多孔阵列PET模板。
- 郝旭峰周瑞敏吴新锋周菲邓邦俊费舜廷
- 关键词：PET掩膜
- 表面活性剂(PVA)浓度对电子束辐照制备纳米铜锡合金的影响
- 2009年
- 本文研究了聚乙烯醇(PVA)水溶液的浓度对电子束辐照制备纳米铜锡合金的影响。经X射线衍射(XRD)和透射电子显微镜(TEM)测试,产物为纯纳米铜锡合金。用紫外可见分光光度计(UV)和激光粒度衍射仪(LSPSDA)考察了表面活性剂浓度对纳米铜锡合金粒径分布影响。PVA浓度为0、8、16、24mg/mL制备的纳米铜锡合金的平均粒径,分别为172.1、16.4、14.1、6.4nm。
- 费舜廷周瑞敏邓邦俊林香凤张建强周菲
- 关键词：电子束辐照表面活性剂粒径分布
- 微孔阵列聚酯类模板的掩膜电子束辐照制备方法
- 本发明涉及一种微孔阵列聚酯类模板的掩膜电子束辐照制备方法，属辐射化学改性高分子材料工艺技术领域。本发明方法的主要特点是：首先选用金属膜为掩膜材料，用紫外光激光器在金属膜上打出微米级规整排列的小孔，形成微孔阵列结构的金属掩...
- 周瑞敏郝旭峰吴新锋周菲邓邦俊费舜廷王智涛
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- 电子束辐照和压缩空气氧化两步法制备纳米氧化亚铜
- 本发明涉及电子束辐照和压缩空气氧化两步法制备纳米氧化亚铜。以硫酸铜为原料，用去离子水配制0.05mol/L硫酸铜，以聚乙二醇(PEG)作表面活性剂，用氨水和醋酸调节硫酸铜溶液的pH值至4.0，在常温常压下用电子加速器产生...
- 周瑞敏林香凤费舜庭邓邦俊张建强
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