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张西方

作品数:8 被引量:1H指数:1
供职机构:南京航空航天大学更多>>
发文基金:中国航空科学基金NSFC-广东联合基金更多>>
相关领域:金属学及工艺电气工程更多>>

文献类型

  • 6篇专利
  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇电气工程

主题

  • 7篇电解加工
  • 4篇电解加工技术
  • 4篇定域性
  • 3篇电解
  • 3篇电源
  • 3篇多孔金属
  • 3篇掩模
  • 3篇掩模板
  • 3篇微细
  • 3篇金属
  • 2篇微细加工
  • 2篇胶膜
  • 2篇光刻
  • 1篇电场
  • 1篇电场分布
  • 1篇电解加工机床
  • 1篇断电
  • 1篇多孔金属材料
  • 1篇掩膜
  • 1篇直流电

机构

  • 8篇南京航空航天...

作者

  • 8篇张西方
  • 6篇曲宁松
  • 5篇陈晓磊
  • 3篇李寒松
  • 2篇朱荻
  • 1篇刘洋
  • 1篇曾永彬
  • 1篇蔡伟伟

传媒

  • 1篇电加工与模具

年份

  • 1篇2018
  • 3篇2017
  • 1篇2016
  • 3篇2014
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
表面微坑阵列的电解加工技术研究
具有一定形状和尺寸分布的表面微坑阵列在减摩/增摩、减振、减磨损、抗粘附以及抗蠕爬等方面具有重要的作用。因此,如何高效、高精度的加工微坑阵列已成为制造领域的研究热点。目前,微坑阵列的加工方法主要有机械加工、激光加工、电火花...
张西方
关键词:电解加工
采用多孔金属工具阴极微细电解加工阵列微坑的方法
本发明提出了一种采用多孔金属工具阴极微细电解加工阵列微坑的方法,属微细电解加工技术领域。该方法,首先通过热滚压覆膜工艺使绝缘掩模板与工件阳极表面紧密贴合;在与工件阳极紧密贴合的掩模板上制作出贯穿通孔的图案;多孔金属作为工...
曲宁松张西方
文献传递
接触式电解加工阵列微小凹坑的方法
本发明提出了一种接触式电解加工阵列微小凹坑的方法,属电解加工技术领域。该方法,首先通过照相掩膜的方式在工件阳极表面制得需要电解的光刻胶膜图案,工件阳极与工具阴极分别与电源的正负极连接,将工件阳极浸入到电解液中,工具阴极与...
曲宁松张西方陈晓磊李寒松
文献传递
随动式电解加工阵列微小凹坑的方法
本发明提出了一种随动式电解加工阵列微小凹坑的方法,属电解加工技术领域。该方法首先是制作工具阴极,工具阴极由金属工具与带有贯穿群孔结构的掩模板组成,工件阳极、工具阴极分别与电源正负极连接,将工件阳极浸入到电解液中,将工具阴...
曲宁松张西方陈晓磊朱荻
多孔金属材料模块管电极电解喷射铣削加工工具与方法
本发明涉及一种多孔金属材料模块管电极电解喷射铣削加工工具与方法,属于电解加工领域。其特征在于:通过在大直径管电极喷液口处安装多孔金属模块,促使电解液从大直径管电极喷射口处均匀喷出,保证电解加工稳定进行;多孔金属模块分为平...
曲宁松刘洋张西方
文献传递
随动式电解加工阵列微小凹坑的方法
本发明提出了一种随动式电解加工阵列微小凹坑的方法,属电解加工技术领域。该方法首先是制作工具阴极,工具阴极由金属工具与带有贯穿群孔结构的掩模板组成,工件阳极、工具阴极分别与电源正负极连接,将工件阳极浸入到电解液中,将工具阴...
曲宁松张西方陈晓磊朱荻
文献传递
基于光致抗蚀干膜的掩膜制备及其应用研究
2014年
在传统工艺流程中,必须先将干膜贴于工件表面,然后进行光刻,但干膜不可重复使用。现提出一种新型干膜光刻工艺流程,在干膜贴于工件表面之前,先对干膜单独进行光刻试验研究。基于该新型工艺流程,研究了杜邦干膜GPM220的曝光及显影特性。经过对曝光量(曝光时间)及显影时间的参数优化,最终在干膜上获得了平均直径为99.7μm的通孔阵列,并将其作为掩膜应用于微细电解加工,通过选择合理的加工参数,在工件表面获得了平均直径为125μm、平均深度为10μm的微坑阵列。电解实验后的干膜易与工件分离,可实现重复使用,提高了干膜的利用率。
曾永彬蔡伟伟李寒松陈晓磊张西方
关键词:显影
接触式电解加工阵列微小凹坑的方法
本发明提出了一种接触式电解加工阵列微小凹坑的方法,属电解加工技术领域。该方法,首先通过照相掩膜的方式在工件阳极表面制得需要电解的光刻胶膜图案,工件阳极与工具阴极分别与电源的正负极连接,将工件阳极浸入到电解液中,工具阴极与...
曲宁松张西方陈晓磊李寒松
文献传递
共1页<1>
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