蔡伟伟
- 作品数：1 被引量：0H指数：0
- 供职机构：南京航空航天大学机电学院江苏省精密与微细制造技术重点实验室更多>>
- 发文基金：中国航空科学基金NSFC-广东联合基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺更多>>
- 基于光致抗蚀干膜的掩膜制备及其应用研究
- 2014年
- 在传统工艺流程中,必须先将干膜贴于工件表面,然后进行光刻,但干膜不可重复使用。现提出一种新型干膜光刻工艺流程,在干膜贴于工件表面之前,先对干膜单独进行光刻试验研究。基于该新型工艺流程,研究了杜邦干膜GPM220的曝光及显影特性。经过对曝光量(曝光时间)及显影时间的参数优化,最终在干膜上获得了平均直径为99.7μm的通孔阵列,并将其作为掩膜应用于微细电解加工,通过选择合理的加工参数,在工件表面获得了平均直径为125μm、平均深度为10μm的微坑阵列。电解实验后的干膜易与工件分离,可实现重复使用,提高了干膜的利用率。
- 曾永彬蔡伟伟李寒松陈晓磊张西方
- 关键词：显影
