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孙权志

作品数:27 被引量:16H指数:2
供职机构:中国科学院上海技术物理研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信金属学及工艺理学文化科学更多>>

文献类型

  • 18篇专利
  • 7篇期刊文章
  • 2篇会议论文

领域

  • 9篇电子电信
  • 3篇金属学及工艺
  • 1篇文化科学
  • 1篇理学

主题

  • 21篇碲镉汞
  • 18篇液相外延
  • 6篇液相外延材料
  • 6篇碲镉汞材料
  • 6篇HGCDTE
  • 5篇液相
  • 5篇石墨
  • 5篇衬底
  • 4篇电学参数
  • 4篇退火
  • 4篇响应光谱
  • 4篇精确控制
  • 3篇托板
  • 3篇温度控制
  • 3篇温度控制装置
  • 3篇母液
  • 3篇控制装置
  • 3篇高纯
  • 3篇高纯石墨
  • 3篇P型

机构

  • 27篇中国科学院
  • 2篇中国科学院大...
  • 1篇上海科技大学

作者

  • 27篇孙权志
  • 25篇魏彦锋
  • 16篇杨建荣
  • 9篇孙瑞贇
  • 7篇张娟
  • 7篇陈倩男
  • 6篇孙瑞赟
  • 5篇林春
  • 4篇崔宝双
  • 3篇仇光寅
  • 2篇何力
  • 2篇丁瑞军
  • 2篇张传杰
  • 2篇王溪
  • 1篇周昌鹤
  • 1篇祝海彬
  • 1篇徐超
  • 1篇虞慧娴
  • 1篇孙士文
  • 1篇周松敏

传媒

  • 4篇红外与毫米波...
  • 2篇红外与激光工...
  • 1篇半导体光电
  • 1篇第10届全国...

年份

  • 3篇2023
  • 1篇2022
  • 2篇2021
  • 1篇2019
  • 1篇2017
  • 2篇2016
  • 9篇2014
  • 4篇2013
  • 4篇2012
27 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种用于浸渍式碲镉汞液相外延的温度控制装置及方法
本发明公开了一种用于浸渍式碲镉汞液相外延的温度控制装置及方法。通过在生长腔体和坩埚之间增加温度检测点,对坩埚内母液温度的变化趋势进行提前预测,并通过对控温点温度参数的调整,实现外延温度的精确控制。该装置及方法能有效防止生...
杨建荣魏彦锋孙瑞贇孙权志
文献传递
HgCdTe薄膜材料组分分布对器件响应光谱的影响被引量:4
2013年
研究了HgCdTe液相外延薄膜的纵向组分分布对探测器响应光谱的影响.提出了一种计算HgCdTe红外探测器响应光谱的模型,模型中综合考虑了薄膜的实际组分分布以及光在器件各层结构中的相干、非相干传输.计算结果表明,在探测器的光吸收区,HgCdTe液相外延薄膜的组分梯度及其产生的内建电场可以显著地提高器件的响应率.通过与实验数据进行比较,验证了模型的适用性.
崔宝双魏彦锋孙权志杨建荣
关键词:HGCDTE红外探测器响应光谱
一种碲镉汞垂直液相外延样品架
本发明公开了一种碲镉汞垂直液相外延样品架。它是在样品架平面上,存在顶端和左右两侧三条闭合的覆盖压条,以及底端固定夹具。三条覆盖压条和夹具都有与样品架平面成45度的斜面,与衬底边缘接触。夹具通过紧固螺丝固定在样品架平面上。...
孙权志魏彦锋杨建荣孙瑞贇仇光寅陈倩男
文献传递
50mm×50mm高性能HgCdTe液相外延材料的批生产技术被引量:9
2017年
采用富碲垂直液相外延技术实现了50 mm×50 mm×3高性能碲镉汞外延材料的制备.外延工艺的样品架采用了三角柱体结构,并设计了防衬底背面粘液的样品夹具.为保证大面积材料的均匀性,工艺中加强了对母液温度均匀性和组分均匀性的控制,50 mm×50 mm外延材料的组分均方差达到了0.000 4,厚度均方差达到了0.4μm.在批量生产技术中,加强了对单轮次生长环境的均匀性和生长轮次之间生长条件一致性的控制,同一轮次生长的3片材料之间的组分偏差小于0.000 4,厚度偏差小于0.1μm,不同生长轮次之间材料的组分之间的波动在±0.002左右,厚度之间的波动在±2μm左右.工艺中对碲锌镉衬底的Zn组分、缺陷尺寸和缺陷密度也加强了控制,以控制大面积外延材料的缺陷,晶体双晶衍射半峰宽(FWHM)小于30弧秒,外延材料的位错密度小于1×105cm^(-2),表面缺陷密度小于5 cm^(-2).外延材料经过热处理后,汞空位型的P型Hg0.78Cd0.22Te外延材料77 K温度下的载流子浓度被控制在8~20×1015cm-3,空穴迁移率大于600 cm2/Vs.材料整体性能和批生产能力已能满足大规模碲镉汞红外焦平面探测器的研制需求.
孙权志孙瑞赟魏彦锋孙士文周昌鹤徐超虞慧娴杨建荣
关键词:碲镉汞液相外延大尺寸高性能
一种用于浸渍式碲镉汞液相外延的样品架
本发明公开了一种用于浸渍式碲镉汞液相外延的样品架,该样品架采用多边形结构,底部设置用于上下搅拌的托板,通过在母液中旋转和上下运动实现母液的均匀化;样品架的主体采用高纯石墨制作,表面由石英垫片和氮化硼底部托板覆盖,能有效防...
杨建荣魏彦锋孙瑞贇孙权志
文献传递
一种减少碲镉汞液相外延材料表面粘液的生长装置
本发明公开了一种减少碲镉汞液相外延材料表面粘液的生长装置。装置包括石墨支架、石墨板、石墨滑块和石墨盖板,石墨板上有衬底槽和母液收集槽,衬底和垫片叠放在衬底槽内。其特征在于:通过控制垫片与衬底的厚度,使其总厚度略小于衬底槽...
魏彦锋杨建荣张娟孙权志
文献传递
碲镉汞液相外延薄膜背面残液的去除方法
本发明公开了一种碲镉汞液相外延薄膜背面残液的去除方法,其特征步骤如下:使原本背面残液不可使用的碲镉汞材料通过化学腐蚀和机械抛光的办法,在不影响材料质量的情况下得以正常使用。该装置和方法的优点是:整个过程中清洗干净的碲镉汞...
孙瑞贇杨建荣魏彦锋张传杰孙权志陈倩男张娟陈晓静
一种用于浸渍式碲镉汞液相外延的温度控制装置及方法
本发明公开了一种用于浸渍式碲镉汞液相外延的温度控制装置及方法。通过在生长腔体和坩埚之间增加温度检测点,对坩埚内母液温度的变化趋势进行提前预测,并通过对控温点温度参数的调整,实现外延温度的精确控制。该装置及方法能有效防止生...
杨建荣魏彦锋孙瑞贇孙权志
文献传递
一种去除碲镉汞界面层的霍尔样品制备方法
本发明公开了一种去除碲镉汞界面层的霍尔样品制备方法。其方法是:使用特定腐蚀剂,对碲镉汞外延层下方的碲锌镉衬底进行腐蚀,过程中不损伤碲镉汞外延层材料,然后对去除碲锌镉衬底的碲镉汞材料进行腐蚀,以消除可能的界面层。通过此样品...
仇光寅魏彦锋陈倩男孙权志孙瑞赟
一种弱P型碲镉汞材料的退火方法
本发明公开了一种弱P型碲镉汞外延材料的退火方法。采用双温区退火装置,汞源和碲镉汞材料封装在石英管中,使汞源和碲镉汞样品分别处在双温区退火炉的低温段和高温段,根据所要求的碲镉汞空穴载流子的浓度,分别设置汞源和碲镉汞材料的退...
魏彦锋孙权志李珣林春丁瑞军何力
共3页<123>
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