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朱丽丽

作品数:2 被引量:10H指数:2
供职机构:华中理工大学电子科学与技术系更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信一般工业技术电气工程化学工程更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇化学工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇铁电
  • 2篇铁电薄膜
  • 1篇电场
  • 1篇铁电场效应晶...
  • 1篇晶体管
  • 1篇PLD
  • 1篇PZT
  • 1篇TI
  • 1篇ZR
  • 1篇场效应
  • 1篇场效应晶体管
  • 1篇PB

机构

  • 2篇华中理工大学

作者

  • 2篇王华
  • 2篇王耘波
  • 2篇周文利
  • 2篇于军
  • 2篇谢基凡
  • 2篇朱丽丽
  • 1篇周东祥

传媒

  • 1篇功能材料
  • 1篇电子元件与材...

年份

  • 1篇2001
  • 1篇2000
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
低温制备Pb(Zr_(0.52)Ti_(0.48))O_3铁电薄膜及其性能研究被引量:3
2001年
采用脉冲激光沉积技术(PLD)在(100)p-Si衬底上,低温淀积、快速退火成功地制备了具有完全钙钛矿结构的多晶PZT铁电薄膜。所制备的PZT铁电薄膜致密、均匀,表现出良好的介电和铁电性能.其介电常数和介电损耗100kHZ下分别为320和0.08,剩余极化Pt和矫顽场Ec分别为14μC/cm2和58kV/cm.+5V电压下漏电流密度低于 10-7A/cm2。107次极化反转后剩余极化仅下降10%,具有较好的疲劳特性。
王华于军王耘波周文利谢基凡朱丽丽
关键词:PZT铁电薄膜PLD
铁电场效应晶体管被引量:7
2000年
介绍了铁电场效应晶体管 (FFET)的基本结构、存储机制、制作方法 ,综述其结构设计的改进、铁电薄膜在 FFET中应用的进展情况 ,探讨围绕铁电薄膜材料、过渡层、结构设计、不同成膜方法及工艺对 FFET存储特性的影响 ,对
王华于军周文利王耘波谢基凡周东祥朱丽丽
关键词:铁电薄膜晶体管
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