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朱丽丽
作品数:
2
被引量:10
H指数:2
供职机构:
华中理工大学电子科学与技术系
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发文基金:
国家自然科学基金
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相关领域:
电子电信
一般工业技术
电气工程
化学工程
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合作作者
谢基凡
华中理工大学电子科学与技术系
于军
华中理工大学电子科学与技术系
周文利
华中理工大学电子科学与技术系
王耘波
华中理工大学电子科学与技术系
王华
华中理工大学电子科学与技术系
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铁电
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铁电薄膜
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铁电场效应晶...
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晶体管
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PLD
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PZT
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TI
1篇
ZR
1篇
场效应
1篇
场效应晶体管
1篇
PB
机构
2篇
华中理工大学
作者
2篇
王华
2篇
王耘波
2篇
周文利
2篇
于军
2篇
谢基凡
2篇
朱丽丽
1篇
周东祥
传媒
1篇
功能材料
1篇
电子元件与材...
年份
1篇
2001
1篇
2000
共
2
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低温制备Pb(Zr_(0.52)Ti_(0.48))O_3铁电薄膜及其性能研究
被引量:3
2001年
采用脉冲激光沉积技术(PLD)在(100)p-Si衬底上,低温淀积、快速退火成功地制备了具有完全钙钛矿结构的多晶PZT铁电薄膜。所制备的PZT铁电薄膜致密、均匀,表现出良好的介电和铁电性能.其介电常数和介电损耗100kHZ下分别为320和0.08,剩余极化Pt和矫顽场Ec分别为14μC/cm2和58kV/cm.+5V电压下漏电流密度低于 10-7A/cm2。107次极化反转后剩余极化仅下降10%,具有较好的疲劳特性。
王华
于军
王耘波
周文利
谢基凡
朱丽丽
关键词:
PZT
铁电薄膜
PLD
铁电场效应晶体管
被引量:7
2000年
介绍了铁电场效应晶体管 (FFET)的基本结构、存储机制、制作方法 ,综述其结构设计的改进、铁电薄膜在 FFET中应用的进展情况 ,探讨围绕铁电薄膜材料、过渡层、结构设计、不同成膜方法及工艺对 FFET存储特性的影响 ,对
王华
于军
周文利
王耘波
谢基凡
周东祥
朱丽丽
关键词:
铁电薄膜
晶体管
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