马云峰
- 作品数：8 被引量：13H指数：2
- 供职机构：中国科学院上海硅酸盐研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金上海市国际科技合作基金更多>>
- 相关领域：理学化学工程航空宇航科学技术电子电信更多>>
- 金/钯哑铃状纳米晶的制备及其催化对硝基苯酚还原研究被引量：10
- 2018年
- 采用晶种-溶液生长法制备了单分散性良好、长径比均一的Au纳米棒,利用H_2PdCl_4作为前驱体,CTAC作为软模版,抗坏血酸作为还原剂对Au纳米棒进行改性合成了金/钯哑铃状结构纳米晶(Au/PdNDs)。采用透射电子显微镜(TEM)、X射线能谱仪(EDS)和紫外-可见分光光度计(UV-Vis-NIR)对样品的结构和形貌进行表征,探讨了铃铛状结构形成的机理,并研究了其对硼氢化钠还原对硝基苯酚反应的催化性能。结果表明:大量的多晶钯颗粒定向选择生长在金纳米棒(AuNRs)两端,形成哑铃状结构;通过调控还原剂与前驱体的比例,铃铛尺寸连续可调。当钯的分散性好且总的催化活性位点多时,金/钯哑铃状结构纳米晶催化对硝基苯酚还原的效率高。钯颗粒尺寸为20.7 nm的Au/PdNDs(0.04 mg/mL)催化对硝基苯酚还原的反应速率常数可达0.44 min^(-1),证明其是一种非常有效的催化剂。
- 殷月月杨勇张良柱李永生马云峰杨莉莉黄政仁
- 关键词：对硝基苯酚
- 一种采用石英环光学镀膜材料改善高反膜微缺陷的方法
- 本发明涉及一种采用石英环光学镀膜材料改善高反膜微缺陷的方法，在真空镀膜过程中使用经预熔制得的石英镀膜材料进行镀膜；将石英素坯先在700～800℃下预熔120～150分钟，再于1000～1200℃下煅烧120～180分钟，...
- 杨勇马云峰杨莉莉魏玉全刘学建黄政仁
- 文献传递
- 等离子体辅助电子束蒸发反应沉积技术PIA-EB-Hf法制备的单层HfO2激光薄膜残余应力与化学计量比的调控
- 二氧化铪(HfO2)具有较高的折射率、较宽的透明波段(在351nm至1064nm范围内吸收较小)、良好的热稳定性、化学稳定性和机械特性,因此常作为抗激光损伤薄膜材料,广泛应用于高功率激光系统中。我们采用等离子体辅助电子束...
- 付朝丽杨勇马云峰黄政仁
- 关键词：激光损伤残余应力
- 实践XX号新技术试验卫星碳化硅激光光学部件研制
- 本文主要论述了用于实践XX号新技术试验卫星非合作目标位姿测量敏感器的国内第一套碳化硅激光光学部件的全流程制备关键技术。包括碳化硅光学部件镜坯的研制、近零应力改性层的设计与制备、大面积高抗激光损伤阈值反射膜的制备等关键技术...
- 杨勇黄政仁魏玉全马云峰刘学建陈忠明
- 文献传递
- PIA-EB-Hf法制备的单层HfO_2激光薄膜残余应力及化学计量比的调控被引量：1
- 2016年
- Hf O_2作为最有前景的抗激光薄膜材料之一,最佳的制备方法是利用等离子体辅助电子束蒸发金属Hf并充氧进行反应沉积即PIA-EB-Hf法,而化学计量比失配导致的强吸收和高残余应力造成的力损伤成为其主要的激光损伤机制。采用正交优化手段,探究了沉积速率、APS离子源偏压和放电电流、沉积温度、以及充氧量和充氧位置对薄膜残余应力和O/Hf配比的影响,并针对优化薄膜进行了激光损伤性能研究。研究表明速率太大导致膜成分不均匀;过高的离子源偏压使O/Hf配比反升,但薄膜向m(-1 1 1)面取向显著,残余应力很大,且容易引入杂质原子Ar,造成强吸收;沉积温度对薄膜性能的影响主要体现在促进粒子反应、改变结晶状态和改善薄膜均匀性等,不同范围内发挥的作用不同。解决离子源的污染问题,以及获得结构疏松均匀和平整的非晶膜层是进一步提高激光损伤阈值的关键。
- 付朝丽杨勇马云峰黄政仁焦正
- 关键词：氧化铪残余应力化学计量比
- 一种金纳米棒两端包覆纳米钯颗粒的光催化材料及其制备方法
- 本发明涉及一种金纳米棒两端包覆纳米钯颗粒的光催化材料及其制备方法，所述光催化材料呈哑铃状结构，包括金纳米棒，以及包覆在金纳米棒两端的纳米钯颗粒，且所述金纳米棒的中间部分未被纳米钯颗粒包覆。本发明形成的纳米钯颗粒与金纳米棒...
- 杨勇殷月月黄政仁马云峰姚秀敏
- 文献传递
- 离子源偏压对PIA-EB-Hf法制备的HfO2激光薄膜性能的影响被引量：2
- 2017年
- 探究HfO_2薄膜的激光损伤特性以进一步提高激光损伤阈值(Laser Induced Damage Threshold,简称LIDT),对其在高功率激光系统中的广泛应用具有重要的意义。在不同的离子源偏压下,采用等离子体辅助电子束蒸发金属铪(Hf)并充氧(O_2)进行反应沉积法制备了中心波长为1064 nm,光学厚度为4H的HfO_2薄膜样品。测试了薄膜组分和残余应力;根据透射谱拟合了薄膜的折射率;通过XRD谱图和SEM表面形貌图分析了薄膜的微观结构;对激光损伤阈值、损伤特性和机理进行了论述。结果表明:偏压100 V时制备的薄膜具有最佳O/Hf配比;薄膜压应力和折射率均随偏压降低而减小。薄膜内存在结晶,激光能量在晶界缺陷处被强烈聚集和吸收,加速了膜层的破坏,形成由几百纳米的烧灼坑聚集而成的海绵状损伤结构。随着偏压降低,膜结晶取向由(111)晶面向(002)晶面转变,界面能降低;晶粒减小,结构更均匀,缓解了激光能量在晶界处的局部聚集与吸收,表现出较大的激光损伤阈值。
- 付朝丽杨勇马云峰魏玉全焦正黄政仁
- 关键词：HFO2薄膜
- 一种采用石英环光学镀膜材料改善高反膜微缺陷的方法
- 本发明涉及一种采用石英环光学镀膜材料改善高反膜微缺陷的方法，在真空镀膜过程中使用经预熔制得的石英镀膜材料进行镀膜；将石英素坯先在700～800℃下预熔120～150分钟，再于1000～1200℃下煅烧120～180分钟，...
- 杨勇马云峰杨莉莉魏玉全刘学建黄政仁
- 文献传递
