付朝丽
- 作品数：5 被引量：3H指数：1
- 供职机构：中国科学院上海硅酸盐研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信一般工业技术更多>>
- PIA-EB-Hf法制备的单层HfO_2激光薄膜残余应力及化学计量比的调控被引量：1
- 2016年
- Hf O_2作为最有前景的抗激光薄膜材料之一,最佳的制备方法是利用等离子体辅助电子束蒸发金属Hf并充氧进行反应沉积即PIA-EB-Hf法,而化学计量比失配导致的强吸收和高残余应力造成的力损伤成为其主要的激光损伤机制。采用正交优化手段,探究了沉积速率、APS离子源偏压和放电电流、沉积温度、以及充氧量和充氧位置对薄膜残余应力和O/Hf配比的影响,并针对优化薄膜进行了激光损伤性能研究。研究表明速率太大导致膜成分不均匀;过高的离子源偏压使O/Hf配比反升,但薄膜向m(-1 1 1)面取向显著,残余应力很大,且容易引入杂质原子Ar,造成强吸收;沉积温度对薄膜性能的影响主要体现在促进粒子反应、改变结晶状态和改善薄膜均匀性等,不同范围内发挥的作用不同。解决离子源的污染问题,以及获得结构疏松均匀和平整的非晶膜层是进一步提高激光损伤阈值的关键。
- 付朝丽杨勇马云峰黄政仁焦正
- 关键词：氧化铪残余应力化学计量比
- 等离子体辅助电子束蒸发反应沉积技术PIA-EB-Hf法制备的单层HfO2激光薄膜残余应力与化学计量比的调控
- 二氧化铪(HfO2)具有较高的折射率、较宽的透明波段(在351nm至1064nm范围内吸收较小)、良好的热稳定性、化学稳定性和机械特性,因此常作为抗激光损伤薄膜材料,广泛应用于高功率激光系统中。我们采用等离子体辅助电子束...
- 付朝丽杨勇马云峰黄政仁
- 关键词：激光损伤残余应力
- SiC镜面上HfO2/SiO2和Nb2O5/SiO2高反膜的制备及其抗激光损伤性能研究
- 近年来,随着激光技术在可控核聚变、模拟爆炸以及激光武器等方面的飞速发展,大功率、高能量激光系统的设计和实现成为各国研究者们争相追求的重要课题之一,而激光谐振腔中反射元件的反射率和抗激光损伤阈值是决定激光输出功率的关键环节...
- 付朝丽
- 关键词：高反膜
- Ag/Fe<Sub>3</Sub>O<Sub>4</Sub>磁性SERS复合材料及其制备方法和应用
- 本发明涉及一种Ag/Fe<Sub>3</Sub>O<Sub>4</Sub>磁性SERS复合材料及其制备方法和应用，所述磁性SERS复合材料具有由Fe<Sub>3</Sub>O<Sub>4</Sub>纳米颗粒自组装形成的胶...
- 杨勇单玉凤曹艳琴付朝丽黄政仁
- 文献传递
- 离子源偏压对PIA-EB-Hf法制备的HfO2激光薄膜性能的影响被引量：2
- 2017年
- 探究HfO_2薄膜的激光损伤特性以进一步提高激光损伤阈值(Laser Induced Damage Threshold,简称LIDT),对其在高功率激光系统中的广泛应用具有重要的意义。在不同的离子源偏压下,采用等离子体辅助电子束蒸发金属铪(Hf)并充氧(O_2)进行反应沉积法制备了中心波长为1064 nm,光学厚度为4H的HfO_2薄膜样品。测试了薄膜组分和残余应力;根据透射谱拟合了薄膜的折射率;通过XRD谱图和SEM表面形貌图分析了薄膜的微观结构;对激光损伤阈值、损伤特性和机理进行了论述。结果表明:偏压100 V时制备的薄膜具有最佳O/Hf配比;薄膜压应力和折射率均随偏压降低而减小。薄膜内存在结晶,激光能量在晶界缺陷处被强烈聚集和吸收,加速了膜层的破坏,形成由几百纳米的烧灼坑聚集而成的海绵状损伤结构。随着偏压降低,膜结晶取向由(111)晶面向(002)晶面转变,界面能降低;晶粒减小,结构更均匀,缓解了激光能量在晶界处的局部聚集与吸收,表现出较大的激光损伤阈值。
- 付朝丽杨勇马云峰魏玉全焦正黄政仁
- 关键词：HFO2薄膜
