2025年1月8日
星期三
|
欢迎来到南京江宁区图书馆•公共文化服务平台
登录
|
注册
|
进入后台
[
APP下载]
[
APP下载]
扫一扫,既下载
全民阅读
职业技能
专家智库
参考咨询
您的位置:
专家智库
>
>
王晓雯
作品数:
9
被引量:4
H指数:1
供职机构:
沈阳仪器仪表工艺研究所
更多>>
相关领域:
电气工程
机械工程
理学
一般工业技术
更多>>
合作作者
于成民
沈阳仪器仪表工艺研究所
刘佩瑶
沈阳仪器仪表工艺研究所
孙仁涛
沈阳仪器仪表工艺研究所
冯桂华
沈阳仪器仪表工艺研究所
孔海霞
沈阳仪器仪表工艺研究所
作品列表
供职机构
相关作者
所获基金
研究领域
题名
作者
机构
关键词
文摘
任意字段
作者
题名
机构
关键词
文摘
任意字段
在结果中检索
文献类型
4篇
专利
3篇
期刊文章
1篇
会议论文
1篇
科技成果
领域
2篇
机械工程
2篇
电气工程
1篇
自动化与计算...
1篇
一般工业技术
1篇
理学
主题
5篇
霍尔元件
2篇
低功耗
2篇
电极
2篇
电子迁移率
2篇
电阻
2篇
迁移率
2篇
敏感膜
2篇
功耗
2篇
磁敏
2篇
磁敏电阻
1篇
氮气保护
1篇
镀层
1篇
镀层结构
1篇
仪表
1篇
应力
1篇
真空蒸镀
1篇
智能流量积算...
1篇
智能仪表
1篇
生产技术
1篇
锑化铟
机构
9篇
沈阳仪器仪表...
作者
9篇
王晓雯
7篇
于成民
7篇
刘佩瑶
7篇
孙仁涛
5篇
冯桂华
4篇
孔海霞
4篇
关杰
3篇
李鸿儒
2篇
吴东阁
2篇
李绍恒
2篇
王晶
1篇
张洪魁
1篇
王赣
1篇
马松林
传媒
3篇
仪表技术与传...
年份
2篇
2001
2篇
1998
1篇
1997
4篇
1996
共
9
条 记 录,以下是 1-9
全选
清除
导出
排序方式:
相关度排序
被引量排序
时效排序
低功耗磁敏电阻的研制及其应用
低功耗强磁体磁阻器件研制的主要技术难点:铁磁性薄膜的蒸镀工艺技术、结晶化处理技术、薄膜刻蚀技术、元件表面钝化技术、批量生产工艺技术。低功耗强磁体磁阻器件的主要特点:适用于测量磁场方向的变化;具有倍频输出特性,对在速度控制...
孙仁涛
吴东阁
孔海霞
王晓雯
李绍恒
刘佩瑶
李鸿儒
文献传递
锑化铟霍尔元件的电极及其制造方法
一种锑化铟霍尔元件的电极包括有“十”字形敏感膜和电极,电极一端与“十”字形敏感膜呈欧姆接触,另一端附着在基底上,这种电极依次经过一次刻蚀、蒸镀电极、二次刻蚀、合金化工艺制得,这种电极的电极焊点对敏感膜无损伤,焊点牢固度好...
于成民
孙仁涛
冯桂华
刘佩瑶
王晓雯
关杰
孔海霞
文献传递
高性能InSb霍尔元件及中试生产技术
于成民
孙仁涛
刘佩瑶
冯桂华
王晓雯
1.所属科技领域属于仪器、仪表科学技术领域的传感器项目。高性能锑化铟霍尔元件是用化合物半导体锑化铟材料,根据霍尔效应原理,通过半导体工艺制成的一种高灵敏度磁敏传感元件。主要用于无刷电机和各种磁敏传感器的制造中。国际市场年...
关键词:
关键词:
霍尔元件
中试生产
锑化铟薄膜的制造方法
一种锑化铟薄膜的制造方法首先用电阻加热蒸发In源,在预先已加热到一定温度的基底上真空蒸镀一层In层,再用电阻加热蒸发InSb+Sb源,在其上再真空蒸镀一层InSb层,随后用电阻加热蒸发In源,在基底表面再真空蒸镀一层In...
于成民
刘佩瑶
孙仁涛
冯桂华
王晓雯
关杰
曾永宁
王晶
文献传递
智能流量积算仪
被引量:1
1998年
介绍了一种高精度、高可靠的流量积算仪,提出了几种提高精度,增强可靠性的办法,解决了流量积算仪设计中精度不高、可靠性差的问题。
王赣
李鸿儒
马松林
郑强
王晓雯
张军
于成民
张洪魁
关键词:
流量积算仪
流量计
智能仪表
低功耗磁敏电阻的研制及其应用
被引量:1
2001年
介绍了用铁磁性薄膜制作的低功耗强磁体磁敏电阻的工作原理、制作方法及其典型应用。该元件具有输出灵敏度高、功耗低的特点 ,对弱磁场检测和在用电池供电的场合下应用 ,具有特殊的优势。
孙仁涛
王晓雯
吴东阁
孔海霞
李绍恒
李鸿儒
关键词:
强磁体
磁敏电阻
磁传感器
InSt霍尔元件的电极
一种InSb霍尔元件的电极包括有“十”字形敏感膜和电极,电极一端与“十”字形敏感膜呈欧姆接触,另一端附着在基底上,这种电极在键合时对敏感膜无损伤,另外,电极与基底接触,温度应力小。
于成民
孙仁涛
冯桂华
刘佩瑶
王晓雯
关杰
孔海霞
文献传递
InSb薄膜制备工艺技术研究
被引量:2
1996年
本文介绍了InSb薄膜制备工艺技术的研究成果,系统地阐述了InSb薄膜的工艺机理与制备技术,指出了制备InSb薄膜过程中所需解决的技术关键,并总结了制备InSb薄膜的工艺条件和实验结果.
刘佩瑶
于成民
王晓雯
锑化铟薄膜的镀层结构
一种锑化铟薄膜的镀层结构是在具有隔离层的基底上,从内至外依次镀In层、InSb+Sb层和In层,具有这种镀层结构的薄膜经结晶化转化后可以制出高电子迁移率的锑化铟薄膜,使其在霍尔元件中具有实用性。
于成民
刘佩瑶
孙仁涛
冯桂华
王晓雯
关杰
曾永宁
王晶
文献传递
全选
清除
导出
共1页
<
1
>
聚类工具
0
执行
隐藏
清空
用户登录
用户反馈
标题:
*标题长度不超过50
邮箱:
*
反馈意见:
反馈意见字数长度不超过255
验证码:
看不清楚?点击换一张