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曹健林

作品数:43 被引量:147H指数:5
供职机构:中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划应用光学国家重点实验室开放基金更多>>
相关领域:理学机械工程电子电信一般工业技术更多>>

文献类型

  • 43篇中文期刊文章

领域

  • 25篇理学
  • 20篇机械工程
  • 10篇电子电信
  • 2篇生物学
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 26篇软X射线
  • 23篇多层膜
  • 9篇溅射
  • 8篇软X射线多层...
  • 8篇光学
  • 8篇X射线
  • 7篇正入射
  • 7篇入射
  • 7篇射线
  • 6篇光学元件
  • 6篇磁控
  • 5篇激光
  • 5篇磁控溅射
  • 4篇随机数
  • 4篇BRAGG
  • 4篇FRESNE...
  • 3篇等离子体
  • 3篇离子束
  • 3篇离子束溅射
  • 3篇激光等离子体

机构

  • 43篇中国科学院长...
  • 4篇吉林工业大学
  • 3篇吉林大学
  • 2篇中国科学技术...
  • 1篇长春理工大学
  • 1篇同济大学
  • 1篇中国科学院电...

作者

  • 43篇曹健林
  • 20篇马月英
  • 17篇王占山
  • 17篇陈星旦
  • 13篇吕俊霞
  • 10篇裴舒
  • 8篇高宏刚
  • 6篇刘毅楠
  • 4篇乐孜纯
  • 4篇陈波
  • 4篇柯常军
  • 4篇张铁强
  • 3篇潘守甫
  • 3篇林景全
  • 2篇徐向东
  • 2篇王国田
  • 2篇洪义麟
  • 2篇付绍军
  • 1篇李福田
  • 1篇梁静秋

传媒

  • 10篇光学精密工程
  • 6篇光学学报
  • 4篇物理
  • 4篇中国激光
  • 4篇真空科学与技...
  • 3篇光学仪器
  • 2篇科学通报
  • 2篇强激光与粒子...
  • 2篇微细加工技术
  • 2篇自然科学进展...
  • 1篇光电子.激光
  • 1篇仪器仪表学报
  • 1篇光学技术
  • 1篇光子学报

年份

  • 3篇2000
  • 14篇1999
  • 8篇1998
  • 6篇1997
  • 4篇1996
  • 5篇1995
  • 1篇1992
  • 2篇1991
43 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
软X射线多层膜成像系统带宽匹配条件研究被引量:1
1998年
从多层膜反射软X射线的特性出发,分析了两块多层膜组成系统的光强传输效率和位相变化关系,给出了成像系统带宽匹配条件。
王占山曹健林
关键词:软X射线多层膜成像系统
极紫外投影光刻技术被引量:5
1998年
极紫外光刻最有可能成为下世纪初批量生产线宽小于 0 1μm集成电路的技术 ,倍受世界各国 ,尤其是美国和日本两个集成电路生产大国的密切关注 ,近年来得到了飞速发展 .先后在极紫外光刻用无污染“碎片”激光等离子体光源、高反射率极紫外多层膜制备技术、面形精度达亚纳米表面粗糙度均方根值小于0 3nm的非球面超光滑表面加工与检测技术、无应力光学装校与调整、缺陷密度极小的反射式掩模、适于极紫外光曝光的表面成象光刻胶技术和稳定性达纳米量级工作台与对准精度达 15nm对准系统等关键技术上取得了重要进展 .已用极紫外光刻实验装置制作出线宽达 0 1μm的门电路 ,整个制作过程除光刻外 ,其他技术都是现有的集成电路制作技术 . 0 1μm线宽门电路研制成功表明极紫外光刻技术适合与现有其他技术相匹配 ,适合大批量生产 ,是现有光刻技术的合理延续 .我国在极紫外投影光刻各单元技术研究中有相当基础 ,在适当资助下 ,完全可以发展我国自己的极紫外投影光刻技术 .
王占山曹健林陈星旦
关键词:集成电路光刻技术极紫外投影光刻
用锡盘抛光 α-Al_2O_3 单晶的初步实验研究被引量:3
1997年
概述了抛光α-Al2O3单晶的意义、介绍了用锡盘抛光α-Al2O3单晶的实验装置、描述了抛光实验过程、研究了抛光时间和抛光液酸碱度对工件表面粗糙度的影响。通过改变抛光时间及抛光液pH值,可使α-Al2O3单晶工件表面粗糙度优于0.4nmrms。
陈俊盼蔡立高宏刚陈斌曹健林
关键词:Α-AL2O3单晶抛光抛光液表面粗糙度
软 X 射线接触式显微术抗蚀膜显影条件分析
1997年
按照生物样品各分辨单元具有多种透过率的特点,设计了一个多衬度的台阶状蛋白质模型,模拟各台阶的真实成像条件,测量了各台阶所对应的抗蚀膜显影速率曲线,对显影条件作了定量分析,并将显影条件与分辨率紧密结合起来,找到了一种较好的定量确定显影条件的方法。
刘毅楠王占山李哲曹健林林宜平
关键词:生物样品
聚焦X射线Bragg-Fresnel元件的研究
1999年
Bragg-Fresnel元件是近10年来发展起来的新型反射式衍射元件。它的设计理论和制作技术的研究是设计、制造元件并应用于X射线光学系统中的重要环节。介绍了Bragg-Fresnel元件的量子设计理论、元件性能模拟计算结果、元件中衍射图形制作技术及元件中多层膜结构稳定性等方面的研究结果。并以18nm工作波长一维聚焦Bragg-Fresnel元件样片作为实例给出检测结果。
乐孜纯曹健林潘守甫
关键词:量子理论稳定性X射线
C/Al软X射线多层膜反射镜的制备与测量被引量:2
1999年
在λ= 28.5nm 波长处,我们选择了一种新的多层膜材料对C/Al。正入射C/Al多层膜在15.0nm 附近有很低的二级衍射峰。磁控溅射法制备的C/Al多层膜样品,用X射线小角衍射法对其结构进行了测试,并测得C/Al软X射线多层膜的正入射反射率22% ±4% 。
吕俊霞马月英裴舒曹健林
关键词:软X射线多层膜反射镜
18.2nm Schwarzschild显微成像系统初步研究被引量:4
1996年
叙述了Schwarzschild型正入射软X射线多层膜显微成像系统的设计、制作和成像实验,其工作波长为18.2nm,放大倍数为10.5×,极限分辨率小于0.2μm。采用Mo/Si多层膜,周期和层数分别为9.5nm和41。用激光等离子体光源对20pl/mm和55pl/mm的栅网进行了软X射线显微成像实验,所得结果表明此显微成像系统的分辨率在微米量级。
王占山曹健林陈波马月英陈斌张俊平王兆岗高宏刚吕俊霞陈星旦
关键词:软X射线多层膜X射线光具组
超光滑光学表面加工技术被引量:48
1995年
现代科学技术的发展,在许多领域中提出了加工超光滑表面的要求。这种表面不仅要具备较高的面形精度和极低的表面粗糙度,同时要具有完整的表面晶格排布,消除加工损伤层。近年来国际出现了不少成功的超光滑表面加工技术,可以实现表面粗糙度小于1nm,面形精度优于30nm。本文介绍了超光滑表面的主要应用领域;从去除机理的角度讨论了BFP抛光、Teflon抛光、离子束加工、PACE加工、浮法抛光、延展性磨削等六种有代表性的超光滑表面加工技术;并对国内情况作了简单分析。
高宏刚陈斌曹健林
关键词:超光滑表面超精密加工抛光
软X射线多层反射膜的一种新型设计方法被引量:5
1999年
在循环递推法基础上加入随机数运算,得到一种简易、精度高、有较高实用价值的多层发射膜设计方法。给出了设计步骤,进行了一系列多层膜设计。通过比较,这种方法与复振幅平面法所得结果非常接近,甚至有的多层膜的设计结果更好。
柯常军王占山张铁强曹健林陈星旦
关键词:软X射线多层膜随机数设计方法光学元件
软X射线接触式显微术研究
1999年
按照生物样品各分辨单元具有多种透过率的特点,设计了一个多衬度的台阶状蛋白质模型,根据曝光量与衬度,信噪比,抗蚀膜性能的关系,确定了曝光量。同时模拟样品模型各台阶的真实成像条件,测量了各台阶所对应的抗蚀膜显影速率曲线,对显影条件作了定量分析。将曝光量,显影条件,与分辨率紧密结合起来,找到了一种较好的实验方法。
刘毅楠王占山李哲曹健林林宜平
关键词:软X射线显微术生物样品曝光量
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