曾玉祥
- 作品数:55 被引量:65H指数:3
- 供职机构:深圳大学更多>>
- 发文基金:国家自然科学基金深圳市科技计划项目广东省自然科学基金更多>>
- 相关领域:理学电子电信文化科学一般工业技术更多>>
- 金属玻璃热力学特征温度的表征方法
- 2023年
- 采用DSC,DIL和DMA法分别表征了Zr_(60)Cu_(28)Al_(12)和Zr_(63.78)Cu1_(4.72)Ni_(10)Al_(10)Nb_(1.5)两种金属玻璃的热力学特征温度。结果表明:采用这3种测试方法都能有效界定金属玻璃的玻璃化转变和结晶过程;DSC和DMA法表征玻璃化转变过程比DIL法更敏感;用DSC法的转变中点、DIL法的拐点及DMA法的起始点表征金属玻璃的玻璃化转变温度所得结果相当;DSC和DIL法都能有效分离多重结晶过程,DSC法表征的结晶温度比DIL法低,而DMA法较难分辨多重结晶过程,表征的结晶温度最低。
- 王大刚谢盛辉曾玉祥罗俊旋
- 关键词:金属玻璃玻璃化转变
- ZnO纳米/微米结构传感器对乙醇气敏性研究被引量:3
- 2014年
- 采用化学气相法分别在石英舟内表面和单晶硅衬底上制备了ZnO微米片、纳米线、微米四足体以及微米球4种结构,并制作了相应的气敏传感器。扫描电子显微镜、气敏测试仪等结果显示:合成的ZnO纳米/微米结构尺寸在200 nm^100μm之间,传感器最佳工作电流区间为120~130 mA,其中微米四足体制备的传感器灵敏度高达127,展现出优异的气敏特性。在4种结构中,微米四足体材料内部的VO缺陷含量最高,结合气敏测试与荧光光谱结果,我们认为材料内部的VO缺陷含量是影响材料气敏特性的最重要因素。
- 曹培江彭双娇韩舜柳文军贾芳曾玉祥朱德亮吕有明
- 关键词:ZNO气敏特性
- 一种立方结构MgZnO薄膜及其制备方法
- 本发明涉及半导体材料制备领域,提供了一种立方结构MgZnO薄膜的制备方法,包括如下步骤:制备Mg<Sub>0.5</Sub>Zn<Sub>0.5</Sub>O靶材;将衬底放入腔体内,加热所述衬底至700℃,通入氧气以控制...
- 韩舜吕有明曹培江柳文军曾玉祥贾芳刘新科朱德亮
- 文献传递
- 一种Ti<Sub>3</Sub>C<Sub>2</Sub>/TiO<Sub>2</Sub>二维材料的制备方法
- 本发明公开了一种Ti<Sub>3</Sub>C<Sub>2</Sub>/TiO<Sub>2</Sub>二维材料的制备方法;本发明制备了Ti<Sub>3</Sub>C<Sub>2</Sub>MXene薄膜材料,经过加热氧化...
- 刘新科刘睿李奎龙顾虹吕有明俞文杰韩舜曹培江柳文军曾玉祥贾芳朱德亮
- 文献传递
- ZnO基薄膜制备及光电磁特性的研究
- 本研究组采用脉冲激光沉积(PLD)、磁控溅射等方法,在石英(SiO2)、单晶硅和有机柔性衬底上制备了掺杂不同元素的ZnO基薄膜功能材料。采用X射线衍射仪(XRD)、俄歇能谱仪、扫描电子显微镜(SEM)、荧光光谱(PL)、...
- 吕有明曹培江朱德亮贾芳柳文军曾玉祥马晓翠
- 关键词:脉冲激光沉积磁控溅射氧化锌
- 文献传递
- 一种氮化镓增强型HEMT器件及其制备方法
- 本发明属于半导体材料技术领域,具体涉及一种氮化镓增强型HEMT器件及其制备方法。该方法采用ICP进行氧气等离子优化氮化镓导电通道,在沉积绝缘介电层之前先进行氧气等离子体处理,然后进行原位退火,在栅极区产生一种晶体GaON...
- 刘新科林峰利键陈勇王磊黎晓华贺威俞文杰吕有明韩舜曹培江柳文军曾玉祥朱德亮
- 文献传递
- 氧气压力对PLD ZnO薄膜形貌及光学性质影响
- 2008年
- 使用脉冲激光沉积(PLD)方法在石英(SiO2)和单晶Si(111)基底上制备了具有c轴择优取向的ZnO薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)、表面轮廓仪、扫描电子显微镜(SEM)、荧光光谱(PL)、紫外可见分光光度计,对合成样品进行了结构、成分以及光学性能的分析。结果显示,在1~10Pa的氧气压力条件下制备的所有ZnO薄膜均有着较高的光学透过率(>75%),氧气压力临界值为2Pa。氧气压力2Pa时合成的ZnO薄膜有着较平整的表面及较高的沉积速率(250nm/h),(002)峰的半高宽为0.20°,此时薄膜中氧空位含量较少,薄膜显示出良好的PL特性。
- 曹培江曾玉祥贾芳朱德亮马晓翠吕有明
- 关键词:脉冲激光沉积氧化锌PL谱
- 氧化铟复合材料及其制备方法、应用、气体传感器
- 本申请提供了氧化铟复合材料及其制备方法、应用、气体传感器,氧化铟复合材料包括Au<Sub>x</Sub>Pt<Sub>(1‑x)</Sub>‑In<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>,0<x<1,Au<Su...
- 曹培江徐信虎刘远锴甘滨辉张锐博贾芳曾玉祥朱德亮柳文军韩舜刘新科方明王春枫
- 一种硫化钨薄膜及其制备方法
- 本发明属于无机纳米膜材料技术领域,提供了一种硫化钨薄膜的制备方法,包括以下步骤:在硅衬底上镀上一层厚度为一个原子的W层;在所述W层上镀上一层厚度为一个原子的S层;以及在所述S层上镀上另一层厚度为一个原子的W层,获得WS<...
- 刘新科何佳铸刘强吕有明俞文杰韩舜曹培江柳文军曾玉祥贾芳朱德亮
- 文献传递
- 衬底温度对脉冲激光沉积制备ZnO性能的影响被引量:3
- 2010年
- 脉冲激光沉积技术易于获得高质量的氧化物薄膜,目前已成为一种重要的制备ZnO薄膜的技术。为了获得高质量的ZnO薄膜,采用脉冲激光沉积(KrF准分子激光器:波长248nm,频率5Hz,脉冲宽度20ns)方法,在氧气气氛中以高纯锌(含Zn的质量分数为0.99999)为靶材、在单晶硅和石英衬底表面得到了ZnO薄膜。通过Z射线衍射仪、表明轮廓仪、荧光光谱仪、紫外可见分光光度计对合成薄膜材料的晶体结构、厚度、光学性质等进行了研究,分析了衬底温度变化对其性能的影响。结果表明,使用脉冲激光沉积法在600℃下可以制备出(002)高度结晶取向、透过率高于75%的近带边发射的高质量ZnO薄膜。
- 贾芳曹培江曾玉祥
- 关键词:脉冲激光沉积ZNO衬底温度