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戴国才

作品数:13 被引量:1H指数:1
供职机构:山东大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 11篇期刊文章
  • 1篇会议论文
  • 1篇专利

领域

  • 7篇电子电信
  • 3篇理学
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 5篇A-SI:H
  • 3篇非晶硅
  • 3篇半导体
  • 2篇电特性
  • 2篇电子结构
  • 2篇电子态
  • 2篇电子态密度
  • 2篇态密度
  • 2篇子结构
  • 2篇半导体性质
  • 2篇SI
  • 2篇
  • 1篇导电
  • 1篇导电率
  • 1篇导电特性
  • 1篇电性质
  • 1篇电子状态
  • 1篇定域化
  • 1篇原子
  • 1篇原子结构

机构

  • 12篇山东大学
  • 2篇中国科学院

作者

  • 13篇戴国才
  • 7篇张瑞勤
  • 3篇蔡政亭
  • 3篇关大任
  • 2篇楚天舒
  • 2篇邢益荣
  • 2篇吴汲安
  • 2篇韩圣浩
  • 1篇程兴奎
  • 1篇罗文秀
  • 1篇曹宝成
  • 1篇马瑾
  • 1篇张敬平
  • 1篇王家俭
  • 1篇王晓临
  • 1篇刘明
  • 1篇李建华

传媒

  • 6篇Journa...
  • 2篇物理学报
  • 2篇山东大学学报...
  • 1篇高等学校化学...
  • 1篇中国稀土学会...

年份

  • 3篇1995
  • 1篇1992
  • 3篇1990
  • 4篇1989
  • 2篇1988
13 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
硅离子簇的理论研究被引量:1
1995年
本文采用MNDO方法研究了Sin,Sin+和Sin2+(n=2—6)簇的原子结构,得到了一系列稳定的簇结构,并确定出每一类簇所对应的最佳稳定结构.从中发现,无论Sin,Sin+还是Sin2+簇,都存在共同的“幻数’,即4,5,6,然而,Sin,Sin+和Sin2+对应的稳定结构一般是各不相同的.本文的结构说明,以往人们单纯从中性Sin簇的研究去推断并解释Sin离子族的结构和性质是不恰当的,荷电将改变原子簇的构型.文中还指出了几个以前没有发现的稳定构型.
楚天舒张瑞勤戴国才
关键词:原子结构半导体性质
a-Si:H中无序对悬挂键电子状态的影响
1990年
实验测得的α-Si:H 中悬挂键能级相对于迁移边 E_C 的位置很不一致,分散于0.9—1.3eV 之间,本文用量子化学 EHT 方法对这一重要实验问题进行了计算。首先对 EHT 方法所用参数进行了优化选择处理,并对各种不同组态环境下的悬挂键能级进行了计算。结果表明,α-Si:H 中的悬挂键能级位置随环境原子排列的无序度不同而明显变化,由此推论:α-Si:H 中的悬挂键因能级位置相对于费米能级不同可以有三种荷电状态 T_3^+、T_3^-和 T_3~°,它们在空间上是相互分离的。据此,许多与悬挂键有关而长期存在的问题可以得到解释。
韩圣浩张瑞勤段会川戴国才
关键词:电子状态半导体
一种隔热窗
一种隔热窗,在窗的玻璃内侧贴上一种由塑膜、铝膜、塑膜三层组成的隔热膜,能有效的阻止阳光中紫外线辐射,反射阳光中的热能。
戴国才
文献传递
Ⅱ-Ⅵ族化合物(Hg_(1-x)Cd_xTe)非晶薄膜的半导体性质
1990年
本文对用蒸发法制备的非晶和多晶碲镉汞(Hg_(1-x)Cd_xTe)薄膜的结构特性及其光学和电学性质进行了研究。在800—2600nm的波长范围内测量了样品的透过率,得到了非晶和多晶状态相应的光学隙分别为1eV以上和0.65eV左右。对非晶样品的退火实验发现,在90—100℃区间退火使非晶样品的结构转变为多晶,同时电阻率突然变小约5个数量级和光学隙由1eV以上突变为0.62eV左右。在20—300K的温度范围内,分别测量了非晶与多晶样品的电阻率,所得结果可用现代非晶半导体理论进行解释。
曹宝成刘明戴国才
关键词:HGCDTE非晶薄膜光电性质
Al/a-Si:H(Y)Schottky势垒二极管的电特性
稀土元素钇(Y)制备的室温电阻率约为7Ω·cm的n型非晶硅,即a-Si:H(Y)薄膜上,蒸发一层面积为3mm[*2*]的金属铝(Al)膜,从而形成一种Al/a-Si:H(Y)结构。测量该结构的电流—电压特性,结...
程兴奎余亦瞬戴国才
关键词:载流子(半导体)伏-安特性
非晶硅短程序与电子结构关系的量子化学研究
1988年
本支通过对Si_(29)无规网络原子簇模型的CNDO计算,探讨了非晶硅(a-Si)结构短程序对其电子态密度(DOS)分布的影响。结果表明,在与实验原子径向分布函数(RDF)基本相同的条件下,a-Si模型中的键角和二面角是影响电子态密度分布的主要参数。
张瑞勤戴国才关大任蔡政亭
关键词:径向分布函数电子态密度
a-Si:H掺杂机理的研究
1989年
本文利用CNDO/2量子化学理论方法,对P和B原子在四面体配位的Si)(46)和Sl_(46)H_(60)H_4~*原子集团中置换S_1原子前后的原子集团能量和能态分布变化进行了计算.计算结果表明:1)在Si_(46)H_(60)H_4~*原子集团中用P(或B)置换引Si原子后在能隙中明显地出现施主(或受主)态子带,同样在Si_(46)中进行置换前后没有这一特性;2)在Si_(46)原子集团中引入P(或B)置换S1原子所需要的能量明显小于在Si_(46)H_(60)H_4~*原子集团中进行相应置换所需要的能量.因此,纯的a-si材料不显示有效的掺杂特性,而a-Si:H具有明显的四面体代位式掺杂效应.此结论可解释大量实验结果.
戴国才张瑞勤关大任蔡政亭
关键词:半导体材料
锡薄膜的非金属导电特性
1992年
采用真空蒸发技术制备锡薄膜。随着薄膜生长速率的降低,锡膜由金属转变为半导体,呈现出非金属导电特性。
马瑾戴国才
关键词:导电率定域化
Si(113)表面电子结构的研究
1989年
采用Si_(16)H_(21)和Si_(31)H_(39)原子集团分别模拟Si(113)和Si(111)表面;通过半经验自洽CNDO法计算了两个体系的电子结构.结果表明,Si(113)具有与Si(111)不同的表面态特征.Si(113)表面台阶和台面原子上电荷重新分布,与悬键相关的表面电子态都强烈地定域在表面Si原子上,尤其局域在悬键方向上,并且具有比(111)面上更高的悬健态密度.理论计算结果能解释以前的光电子谱实验.
张瑞勤王家俭戴国才吴汲安张敬平邢益荣
关键词:电子结构
a-Si:H薄膜的磁场诱导红外光谱变化的研究
1990年
本文研究了在磁场作用下a—Si:H薄膜的红外光谱的变化,发现了2000cm^(-1)硅氢振动模向2100cm^(-1)硅氢振动模的直接转变,并且在这种变化中键合氢的含量不变。提出了Si—H……Si弱耦合模型。
王晓临罗文秀李建华戴国才
关键词:非晶硅薄膜红外光谱磁效应
共2页<12>
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