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申志辉

作品数:11 被引量:24H指数:2
供职机构:重庆光电技术研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划国防基础科研计划更多>>
相关领域:电子电信理学更多>>

文献类型

  • 11篇中文期刊文章

领域

  • 11篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 7篇日盲
  • 6篇日盲紫外
  • 5篇探测器
  • 4篇ALGAN
  • 3篇焦平面
  • 3篇背照式
  • 2篇电路
  • 2篇读出电路
  • 2篇光电
  • 1篇氮化
  • 1篇氮化物
  • 1篇导弹逼近告警
  • 1篇雪崩
  • 1篇抑制比
  • 1篇阵列探测器
  • 1篇射线
  • 1篇太赫兹
  • 1篇欧姆接触
  • 1篇紫外
  • 1篇紫外焦平面

机构

  • 11篇重庆光电技术...
  • 1篇北京理工大学
  • 1篇中国科学院
  • 1篇中国科学技术...
  • 1篇中国科学院新...
  • 1篇中国科学院长...
  • 1篇中国电子科技...
  • 1篇上海传输线研...

作者

  • 11篇申志辉
  • 6篇罗木昌
  • 6篇周勋
  • 4篇叶嗣荣
  • 4篇李艳炯
  • 3篇赵文伯
  • 2篇陈扬
  • 1篇李想
  • 1篇郭旗
  • 1篇孙建东
  • 1篇张孝富
  • 1篇秦华
  • 1篇许华胜
  • 1篇邓伟
  • 1篇周跃
  • 1篇杨晓波
  • 1篇赵红
  • 1篇吴正新
  • 1篇黄烈云
  • 1篇张兴尧

传媒

  • 5篇半导体光电
  • 2篇红外与激光工...
  • 1篇物理学报
  • 1篇红外技术
  • 1篇兵工学报
  • 1篇传感器与微系...

年份

  • 1篇2024
  • 1篇2019
  • 3篇2018
  • 1篇2017
  • 1篇2016
  • 1篇2014
  • 3篇2013
11 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
日盲紫外焦平面探测器的抗辐射加固设计被引量:2
2019年
设计了一款320×256元抗辐射日盲紫外焦平面阵列探测器,重点针对探测器的读出电路版图、积分开关偏置点、探测器芯片外延结构及器件工艺开展了抗辐射加固设计。对加固样品开展了γ总剂量和中子辐照试验和测试,试验结果表明样品的抗电离辐照总剂量达到150krad(Si),抗中子辐照注量达到1×1013 n/cm2(等效1MeV中子),验证了抗辐射加固措施的有效性。
申志辉罗木昌叶嗣荣樊鹏周勋
关键词:读出电路抗辐射加固总剂量效应
基于斜台面工艺的背照式GaN雪崩探测器制备
2016年
对基于斜台面工艺的背照式pin型GaN紫外雪崩探测器制备进行了简要介绍。通过斜台面制作工艺的对比优化研究,完成了GaN紫外雪崩探测器的低损伤斜台面制作,器件测试结果表明,高质量斜台面能够有效抑制雪崩探测器的表面提前击穿,器件暗电流特性优良,获得了超高雪崩增益的GaN紫外雪崩探测器。
叶嗣荣周勋李艳炯申志辉
关键词:GAN背照式
AlGaN日盲紫外焦平面阵列均匀性研究被引量:2
2018年
结合外延材料工艺、芯片工艺及互连集成工艺具体情况,分析了AlGaN外延材料、探测器阵列芯片及倒焊芯片的均匀性特点,讨论了影响外延材料Al组分分布均匀性、芯片电阻和电容分布均匀性的各种因素。在此基础上,提出了改进器件均匀性的技术途径。利用MOCVD外延材料生长技术,生长了背照式AlGaN-pin异质结构外延材料,并利用所生长的外延材料制作了320×256元AlGaN日盲紫外焦平面阵列器件。测试所制作的器件,结果显示,其光谱响应范围为255~280nm,位于日盲波段,0V偏置时272nm峰值波长响应度大于0.16A/W(外量子效率大于72.9%),有效像元数大于99.2%,响应非均匀性小于3.36%。
赵文伯叶嗣荣赵红罗木昌周勋杨晓波陈扬李艳炯申志辉柳聪
关键词:焦平面阵列
高抑制比背照式Al_xGa_(1-x)N pin日盲紫外探测器研究被引量:1
2014年
利用现有外延材料生长技术和器件工艺技术,生长了背照式AlxGa1-xN pin外延材料,并用生长的材料制作了日盲紫外探测器,测试结果表明器件在0V偏压下抑制比达到了6 400。在此基础上,较详细地分析了偏置电压、p-AlxGa1-xN载流子浓度和Al组分、极化效应对背照式AlxGa1-xN pin日盲紫外探测器抑制比的影响及非日盲光生载流子的限制机制。分析表明,提高p-AlxGa1-xN载流子浓度和GaN/AlxGa1-xN异质结极化强度是现有技术条件下提高器件抑制比的有效途径。
赵文伯许华胜申志辉叶嗣荣周勋李艳炯黄烈云
关键词:抑制比背照式
背照式高量子效率AlGaN日盲紫外探测器设计被引量:4
2013年
高量子效率、高UV/VIS抑制比、宽的光谱响应范围、快的响应速度是AlGaN紫外探测器设计追求的主要目标。为了获得适宜于紫外焦平面阵列的探测器结构,结合MOCVD外延材料生长的特点,采用模拟计算与实验相结合的方法,设计了背照式高量子效率AlGaN日盲探测器。详细介绍了背照式AlxGa1-xN-pin紫外探测器结构参数设计的依据和设计过程,并给出了设计结果,通过工艺实验,对设计结果进行了优化。应用设计结果进行了器件试制,经测试试制器件,其峰值响应波长为270 nm,光谱响应范围为250~282 nm,峰值量子效率达到了57%(0 V),实验表明取得了比较理想的设计结果。
赵文伯周勋李艳炯申志辉罗木昌
关键词:ALGAN
^(60)Coγ射线对高铝组分Al_(0.5)Ga_(0.5)N基p-i-n日盲型光探测器理想因子的影响被引量:1
2013年
采用60Coγ射线源对高铝组分Al0.5Ga0.5N盲紫外p-i-n结构光探测器和Si基可见光p-i-n结构探测器进行了累计剂量分别为0.1,1,10Mrad(Si)总剂量辐照实验.实验发现,随着辐照剂量的增加,AlGaN盲紫外p-i-n结构光探测器的理想因子显著增大,辐照后理想因子n>2;而Si基可见光p-i-n结构探测器的理想因子随辐照剂量的变化并不明显.AlGaN盲紫外p-i-n结构光探测器理想因子的退化可能主要是因为欧姆接触性能的退化,Si基可见光p-i-n结构探测器的理想因子的变化则可能是由于敏感层的退化.
张孝富李豫东郭旗罗木昌何承发于新申志辉张兴尧邓伟吴正新
关键词:欧姆接触
AlGaN日盲紫外光电二极管光谱响应特性仿真及验证被引量:2
2013年
对日盲AlGaN光电探测器的光谱响应特性进行了仿真模拟,并将仿真结果与实测数据进行了比较分析,发现差异来自AlGaN材料的带尾效应。利用无p型层的材料透过率数据提取了器件吸收层截止波长附近的光吸收系数,并使用带尾吸收模型对测得的光吸收系数进行拟合,得到了AlGaN材料吸收带尾特征参数g、EUrbach分别为2.2×104cm-1、0.027 eV,补充和修正了AlGaN材料带内外光吸收模型,经验证使用该模型的仿真结果与实测结果具有很好的一致性。
申志辉罗木昌周勋王颖
关键词:日盲紫外仿真
日盲型AlGaN紫外阵列探测器研制
2024年
针对日盲紫外波段光信号的探测,研制了1 280×1 024/15μm×15μm AlGaN阵列型紫外探测器。像元采用共用N面电极的PIN台面结构,介绍了器件的结构、材料生长和制作工艺,并对器件进行了光电性能测试。结果表明:器件的正向开启电压大于10 V,反向击穿电压大于90 V;0.5 V偏压时单像元暗电流约为0.1 fA,1 V偏压时光谱响应范围为255~282 nm, 270 nm峰值波长响应度约为0.12 A/W。器件实现了日盲紫外成像演示。
刘海军张靖申志辉周帅周建超姚彬彬
关键词:ALGAN日盲紫外阵列探测器成像
基于AlGaN/GaN场效应晶体管的太赫兹焦平面成像传感器被引量:9
2018年
太赫兹波成像技术在人体安检、医学成像、无损检测等领域具有广泛的应用前景。文中面向高速、高灵敏度和便携式太赫兹成像应用需求,设计实现了一种基于AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管自混频检测机制的太赫兹焦平面成像传感器。该焦平面成像传感器由探测器阵列芯片和CMOS读出电路通过倒装互连实现,阵列规模达到32×32。探测器阵列中具有对管差分功能的像元设计通过提高探测器的电压响应度和抑制共模电压噪声,提高了焦平面成像的灵敏度。焦平面成像传感器的输出模拟信号通过片外的模数转换(ADC)芯片转化为数字信号,由现场可编程门阵列(FPGA)采集后通过Camera Link图像数据与通信接口发送到计算机。利用该焦平面成像传感器,演示实现了太赫兹光斑、太赫兹干涉环和太赫兹光照下的旋转塑料叶片的视频成像,帧频达到30 Hz。
罗木昌孙建东张志鹏李想李想申志辉王颖陈红兵董绪丰陈扬陈扬周建勇
关键词:CMOS读出电路焦平面成像
高速InGaAs光电探测器γ辐照实验研究被引量:2
2018年
高速InGaAs光电探测器在天基平台中的应用正逐渐广泛,研究空间辐射环境对高速InGaAs光电探测器性能的影响有着重要意义。采用实时测试法,研究了不同剂量及不同剂量率的γ辐照对高速InGaAs光电探测器响应度、3dB带宽及暗电流特性的影响,通过器件性能实时测试分析发现,器件的暗电流随辐照剂量或剂量率的增加而增大,而响应度、3dB带宽基本不变。
樊鹏付倩申志辉唐艳柳聪崔大建
关键词:Γ辐照
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