2024年12月31日
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王新强
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203
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H指数:2
供职机构:
北京大学
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国家自然科学基金
国家重点基础研究发展计划
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电子电信
理学
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合作作者
沈波
北京大学物理学院宽禁带半导体研...
盛博文
北京大学
许福军
北京大学物理学院宽禁带半导体研...
王平
北京大学
荣新
北京大学
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王新强
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沈波
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2010
1篇
2009
1篇
2008
1篇
2000
共
203
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Ⅱ型In0.17Al0.83N/GaN异质结构的实验证明及理论研究
通过X射线光电子能谱(XPS)、光致发光谱(PL)以及时间分辨光谱(TRPL)等手段,我们研究了晶格匹配的In0.17Al0.83N/GaN异质结构界面处的能带结构.研究样品为利用MOCVD技术生长的InAlN薄膜以及相...
王嘉铭
许福军
宋杰
王新强
葛惟昆
杨志坚
沈波
一种适用于AlN的HVPE反应室结构
本发明公开一种适用于AlN的HVPE反应室结构,属于深紫外光电材料领域。该结构设置在HVPE设备主体石英管中,包括感应加热器、通流陶瓷支架、反光隔光管、高纯材料保温层和磨砂牺牲石英管,感应加热器为高纯石墨柱体,样品固定在...
吴洁君
刘云琪
于彤军
王泽人
张皇澍
陈加昊
杨浩
王新强
沈波
一种高指数晶面六方氮化硼薄膜的制备方法
本发明公开了一种高指数晶面六方氮化硼薄膜的制备方法。本发明在高指数晶面衬底上形成单晶AlN模板层构成高指数晶面衬底,在单晶AlN模板层上形成氧富集的Al<Sub>x</Sub>O<Sub>y</Sub>薄层;在Al<Su...
王新强
刘放
王涛
陈兆营
盛博文
沈波
一种GaN衬底的制备方法
本发明提供了一种GaN衬底的制备方法,属于光电子器件的制备领域。本发明区别于现有技术的核心是:在衬底(如Si,蓝宝石,SiC等)外延生长表面上形成一过渡层,该过渡层为含有碳纳米管的InN、高In组分InGaN材料或GaA...
于彤军
龙浩
张国义
吴洁君
贾传宇
杨志坚
王新强
文献传递
应力调控的AlxGa1-xN/GaN多量子阱结构的材料生长研究
高铝组分AlxGa1-xN/GaN (x>O.3)多量子阱结构由于在紫外LED、3-5lμm大气窗口波段的光电探测和1.3μm及1.55U m的光通信波段器件上具有巨大的应用前景,目前正成为国际上的研究热点。然而高Al组...
黄呈橙
许福军
许正昱
王嘉铭
张霞
王新强
沈波
关键词:
化合物半导体材料
多量子阱结构
文献传递
一种生长AlGaN薄膜的精细调控方法
本发明公开了一种生长AlGaN薄膜的精细调控方法。本发明通过停止Al源供应,以生长腔内残余的Al源的扩散迁移作为生长的驱动力,显著降低生长速率,为Al源提供充足迁移时间,有助于Al源的均匀并入;以残余Al源的扩散迁移作为...
王新强
李泰
罗巍
袁冶
卢同心
王涛
陈兆营
p型沟道的III-V族材料异质结构和HEMT器件及制备方法
本发明公开了一种p型沟道的III‑V族材料异质结构和HEMT器件及制备方法。本发明的p型沟道的III‑V族异质结构包括:衬底、缓冲层、势阱层、二维空穴气和势垒层,二维空穴气为极化诱导形成,无需掺杂;本发明的HEMT器件中...
王新强
杨流云
郭镛彬
王平
刘放
魏嘉琪
王锦林
叶昊天
张振宇
沈波
全组分InGaN薄膜的MBE生长及其物性研究
本文利用分子束外延(MBE)设备,采用调节生长温度控制In组分的方法,获得了高质量的全组分InxGa1-xN合金薄膜,并对其b因子进行了深入研究。
刘世韬
王新强
陈广
冯丽
马定宇
沈波
关键词:
半导体材料
分子束外延生长
一种p型AlGaN外延薄膜及其制备方法和应用
本发明涉及一种p型AlGaN外延薄膜及其制备方法和应用。所述制备方法包括:在化学气相沉积法制备AlGaN过程中,对生长中断过程中Ga和Al金属原子的脱附速率进行控制,得到具有周期变化的Al<Sub>x</Sub>Ga<S...
许福军
沈波
王明星
解楠
孙元浩
刘百银
王新强
秦志新
文献传递
Au-In二元纳米助催化剂负载III族氮化物的制备方法及其应用
本发明涉及生物质太阳能炼化技术领域,尤其涉及一种Au‑In二元纳米助催化剂负载III族氮化物的制备方法及其应用,包括通过光沉积方法在外延III族氮化物上负载Au基二元纳米颗粒,具体步骤包括,将Si片上外延生长的III族氮...
周宝文
王新强
王舟舟
盛博文
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