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温战华

作品数:3 被引量:18H指数:2
供职机构:南昌大学材料科学与工程学院教育部发光材料与器件工程研究中心更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划电子信息产业发展基金国家重点实验室开放基金更多>>
相关领域:理学电子电信更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学
  • 1篇电子电信

主题

  • 3篇发光
  • 2篇退火
  • 2篇发光特性
  • 2篇ZNO薄膜
  • 1篇衍射
  • 1篇氧化锌
  • 1篇双晶衍射
  • 1篇退火温度
  • 1篇铌酸
  • 1篇稀土
  • 1篇稀土盐
  • 1篇金属有机化学...
  • 1篇金属有机物
  • 1篇金属有机物化...
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇光谱
  • 1篇光致
  • 1篇光致发光
  • 1篇光致发光谱

机构

  • 3篇南昌大学

作者

  • 3篇温战华
  • 2篇方文卿
  • 2篇江风益
  • 2篇王立
  • 2篇戴江南
  • 1篇郑畅达
  • 1篇李永绣
  • 1篇周浪
  • 1篇陈玉凤
  • 1篇黄惠珍
  • 1篇罗小平
  • 1篇蒲勇
  • 1篇张志力
  • 1篇唐群

传媒

  • 1篇稀土
  • 1篇Journa...
  • 1篇发光学报

年份

  • 2篇2005
  • 1篇2002
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
退火对常压MOCVD法生长的高结晶性能ZnO薄膜发光特性的影响被引量:4
2005年
研究了氧气退火和氮气退火对ZnO薄膜发光特性的影响。ZnO膜是采用常压金属有机化学气相沉积(MOCVD)法在蓝宝石(0001)衬底上生长的。原生样品1有一很强的紫外峰及较强的绿光峰(525 nm附近);原生样品2有很强的紫外峰,深能级发光几乎观察不到。然后从不同原生膜上取两块小样品,分别在氧气和氮气中退火,退火温度是400,500,600,700,800℃。结果表明,在700℃以下退火,退火气氛对ZnO膜的深能级发光影响较大;超过700℃后,退火温度对ZnO薄膜的发光影响大,但退火气氛影响不太明显。通过退火对ZnO薄膜发光特性的影响,讨论了ZnO膜中525 nm附近绿光峰的起源。
陈玉凤温战华王立戴江南方文卿江风益
关键词:退火金属有机化学气相沉积
退火温度对ZnO薄膜结构和发光性能的影响被引量:14
2005年
采用常压金属有机物化学气相淀积法在(0001)Al2O3衬底上生长出高质量ZnO单晶膜,在空气中进行了710~860℃不同温度的退火处理.用X射线双晶衍射、光致发光法研究了退火温度对ZnO薄膜的结构、发光性能的影响.ZnO(002)面X射线双晶ω扫描曲线的半高宽(FWHM)随退火温度的升高变小,770℃后基本保持不变,ZnO(102)面双晶。扫描曲线的FWHM一直变小.770℃退火后ZnO样品X射线ω-2θ扫描曲线中出现ZnO2(200)衍射峰.同时,光致发光测试表明,随着退火温度升高,带边发光强度减弱,与深能级有关的绿带发光出现并逐渐增强.通过ICP刻蚀,去除退火后样品的表面层,ω-2θ扫描曲线中ZnO2(200)衍射峰和PL谱中绿带发光均消失,表明ZnO2相和深能级缺陷在样品表面.
温战华王立方文卿蒲勇罗小平郑畅达戴江南江风益
关键词:金属有机物化学气相沉积氧化锌X射线双晶衍射光致发光谱
(La,Tb)NbO_4的合成与发光特性
2002年
采用高温固相法合成了 L a Nb O4 及掺杂 Tb的 (L a,Tb) Nb O4 多晶粉末 ,对两种粉末进行了 X射线粉末衍射定性鉴定 ,测试了激发和发射光谱 。
张志力李永绣唐群黄惠珍温战华周浪
关键词:发光特性
共1页<1>
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